半导体器件及其形成方法与流程

文档序号:12725171阅读:来源:国知局
技术总结
本发明的实施例提供了一种半导体器件,包括:衬底;在衬底上设置的多个鳍结构;在多个鳍结构的每个上设置的多个第一应变材料;在多个第一应变材料的每个上分别形成的多个覆盖层,其中,至少两个覆盖层彼此连接;在彼此连接的至少两个覆盖层上设置第二应变材料。本发明的实施例还提供了一种用于制造半导体器件的方法。

技术研发人员:张智强;宋学昌;李昆穆;游明华
受保护的技术使用者:台湾积体电路制造股份有限公司
文档号码:201610953747
技术研发日:2016.10.27
技术公布日:2017.06.20

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