技术总结
本发明涉及用液体处理基板的装置及方法。一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其包括用于支撑基板的支撑板；和底部液体供给单元，其用于将液体供给到由支撑板支撑的基板的底部；其中底部液体供给单元包括本体和用于将处理液排出到基板的底部并与本体联接的液体排出喷嘴，且其中所述本体的上表面包括用于将残留在本体中的液体排出的排放孔。因此，可通过所述排放孔将残留在本体内的液体排出。
技术研发人员：金载容
受保护的技术使用者：细美事有限公司
文档号码：201611075932
技术研发日：2016.11.29
技术公布日：2017.06.09