一种发光二极管的外延片的制作方法

文档序号:12772537阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种发光二极管的外延片,所述外延片包括依次层叠的衬底、缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型层、有源层和P型层,其特征在于,所述成核层包括层叠的多层N型AlxGa1-xN层,其中,0≤X≤1,各层所述N型AlxGa1-xN层的掺杂浓度不变,多层所述N型AlxGa1-xN层的掺杂浓度沿所述外延片的层叠方向连续变化。

2.根据权利要求1所述的外延片,其特征在于,多层所述N型AlxGa1-xN层的掺杂浓度沿所述外延片的层叠方向增大。

3.根据权利要求1所述的外延片,其特征在于,多层所述N型AlxGa1-xN层的掺杂浓度沿所述外延片的层叠方向减小。

4.根据权利要求1所述的外延片,其特征在于,多层所述N型AlxGa1-xN层的掺杂浓度沿所述外延片的层叠方向先增大后减小。

5.根据权利要求1所述的外延片,其特征在于,多层所述N型AlxGa1-xN层的掺杂浓度沿所述外延片的层叠方向先减小后增大。

6.根据权利要求1~5任一项所述的外延片,其特征在于,所述成核层还包括多层N型GaN层,所述N型GaN层与所述N型AlxGa1-xN层交替层叠。

7.根据权利要求1~5任一项所述的外延片,其特征在于,所述成核层的厚度大于或等于200nm。

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