技术总结
本发明公开了一种镀膜设备，属于镀膜技术领域。镀膜设备包括：相对设置的第一极板和第二极板，第二极板靠近第一极板的表面设置有开口面面积大于底面面积的凹槽，凹槽的截面为梯形，截面垂直于开口面，底面用于平置待镀膜基板。本发明解决了基板表面较容易发生断裂的问题，实现了防止待镀膜基板表面发生断裂的效果，本发明用于镀膜。
技术研发人员：高会朝;冯海清
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
文档号码：201710001780
技术研发日：2017.01.03
技术公布日：2017.05.31