一种真空镀膜机的制作方法
【专利摘要】本发明适用于镀膜设备技术领域，提供了一种真空镀膜机，包括真空腔体，真空腔体内设置有用于放置工件的工件架、靶材、公转齿轮、驱动齿轮、驱动电机、固定齿轮以及自转齿轮。靶材设置于工件架侧边，工件架通过一转轴可旋转地安装于公转齿轮上。驱动电机驱动驱动齿轮旋转，驱动齿轮与公转齿轮传动连接。固定齿轮固定于真空腔体内，工件架与一转轴固定连接，该转轴可旋转地安装于公转齿轮上，并且转轴与自转齿轮固定连接，自转齿轮与固定齿轮啮合。本发明的真空镀膜机可以在工件架的各个侧面上装载工件，装炉量为现有镀膜机的三倍多，在一次镀膜作业中，能给更多的工件镀膜，提高了生产效率。
【专利说明】
一种真空镀膜机
技术领域
[0001]本发明属于镀膜设备技术领域，尤其涉及一种真空镀膜机。
【背景技术】
[0002]真空镀膜机主要指一类在较高真空度下对工件进行镀膜的设备，其中，镀膜的技术具有很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
[0003]需要镀膜的对象被称为工件(或基片)，需要镀在工件上的材料被称为靶材，如硅靶、铌靶、铝靶、钛靶等。工件与靶材同在真空腔中。在真空条件下，通入一定气压的氩气，氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜。
[0004]目前的真空镀膜机一般为立式、卧式或水平公转结构工件架，其产品的装炉量少，生产效率低，同时，其所配置的平面靶利用率较低，在镀膜时发生氧化反应生成氧化物，容易污染靶材表面的边缘，从而导致靶面清洁度不好。
【发明内容】
[0005]本发明所要解决的技术问题在于提供一种真空镀膜机，旨在解决现有技术中的真空镀膜机所存在的装炉量少，生产效率低的问题。
[0006]本发明是这样实现的，一种真空镀膜机，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有用于放置工件的工件架、靶材、公转齿轮、驱动齿轮以及驱动电机;所述靶材设置于所述工件架侧边，所述工件架安装于所述公转齿轮上，所述驱动电机驱动所述驱动齿轮旋转，所述驱动齿轮与公转齿轮传动连接;所述真空镀膜机还包括固定齿轮以及自转齿轮，所述固定齿轮固定于所述真空腔体内，所述工件架与一转轴固定连接，所述转轴可旋转地安装于所述公转齿轮上，并且所述转轴与所述自转齿轮固定连接，所述自转齿轮与所述固定齿轮啮合。
[0007]进一步地，所述工件架的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件。
[0008]进一步地，所述靶材为圆柱形靶材。
[0009]进一步地，所述靶材可旋转地安装于所述真空腔体内。
[0010]进一步地，所述公转齿轮的边缘安装有若干沿其圆周方向间隔分布的所述工件架，所述固定齿轮与所述公转齿轮同心设置，并且所述固定齿轮同时与所有的自转齿轮啮入口 ο
[0011]进一步地，所述公转齿轮具有上、下间隔设置的上层板以及下层板，所述固定齿轮以及自转齿轮均位于所述上层板与下层板之间的间隙内；并且，所述工件架通过一转轴可旋转地安装于所述上层板上。
[0012]本发明与现有技术相比，有益效果在于:本发明的真空镀膜机，其工件架可跟随公转齿轮沿公转齿轮的圆周向方向公转，并且工件架在公转的同时，与其固定连接的自转齿轮在固定齿轮的作用下旋转，由于自动齿轮与转轴固定连接，因此，转轴以及工件架均能以转轴的轴心为中心进行自转。由于工件架能自转，因此，可以在工件架的侧面上均装载上工件，各侧面上的工件在自转过程中，均可旋转至与靶材相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜。而现有的真空镀膜机的工件架不能自转，因此只能在其一侧面上装载工件，可见，相比于现有的真空镀膜机，本发明的真空镀膜机可以在工件架的各个侧面上装载工件，装炉量为现有镀膜机的三倍多，在一次镀膜作业中，能给更多的工件镀膜，提高了生产效率。
【附图说明】
[0013]图1是本发明实施例提供的一种真空镀膜机的纵向剖视示意图。
【具体实施方式】
[0014]为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0015]如图1所示，为本发明的一较佳实施例，一种真空镀膜机，包括真空腔体100，真空腔体100内设置有用于放置工件的工件架1、靶材2、公转齿轮3、驱动齿轮4、驱动电机5、固定齿轮6以及自转齿轮7。公转齿轮3具有上、下间隔设置的上层板31以及下层板32，固定齿轮6以及自转齿轮7均位于上层板31与下层板32之间的间隙内。
[0016]靶材2设置于工件架I侧边，工件架I通过一转轴8可旋转地安装于上层板31上。驱动电机5驱动驱动齿轮4旋转，驱动齿轮4与公转齿轮3传动连接。固定齿轮6固定于真空腔体100内，工件架I与一转轴8固定连接，转轴8可旋转地安装于上层板31上，并且转轴8与自转齿轮7固定连接，自转齿轮7与固定齿轮6啮合。
[0017]具体地，上述工件架I的横向截面呈矩形状，工件架I的四个侧面均能装载工件。公转齿轮3的边缘安装有若干沿其圆周方向间隔分布的工件架I，固定齿轮6与公转齿轮3同心设置，并且固定齿轮6同时与所有的自转齿轮7啮合。
[0018]本实施例的真空镀膜机，其工件架I可跟随公转齿轮3沿公转齿轮3的圆周向方向公转，并且工件架I在公转的同时，与其固定连接的自转齿轮7在固定齿轮6的作用下旋转，由于自动齿轮7与转轴8固定连接，因此，转轴8以及工件架I均能以转轴I的轴心为中心进行自转。由于工件架I能自转，因此，可以在工件架I的侧面上均装载上工件，各侧面上的工件在自转过程中，均可旋转至与靶材2相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜。而现有的真空镀膜机的工件架不能自转，因此只能在其一侧面上装载工件，可见，相比于现有的真空镀膜机，本实施例的真空镀膜机可以在工件架I的各个侧面上装载工件，装炉量为现有镀膜机的三倍多，在一次镀膜作业中，能给更多的工件镀膜，提高了生产效率。
[0019]优化地，上述靶材2为圆柱形靶材，靶材2可旋转地安装于真空腔体100内，相比于平面靶，圆柱形靶材2的利用率高；同时，在镀膜时即使发生氧化反应，也不容易生成氧化物而污染靶面。
[0020]本实施例的真空镀膜机的工作过程如下:
[0021]启动驱动电机5，驱动电机5带动驱动齿轮4旋转，驱动齿轮4带动公转齿轮3旋转，公转齿轮3上的工件架I以及工件架I上装载的工件沿着公转齿轮3的圆周方向运动。工件架I在公转的同时，不断自转，其各个侧面上的工件交替旋转到与靶材2相对的位置，而在此过程中，靶材2也不断自转，其周缘上的各个位置交替地旋转到与工件相对的位置。往真空腔体100内通入一定气压的氩气，氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材2，从而将靶材2材料溅射到工件表面，形成薄膜。
[0022]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种真空镀膜机，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有用于放置工件的工件架、靶材、公转齿轮、驱动齿轮以及驱动电机;所述靶材设置于所述工件架侧边，所述工件架安装于所述公转齿轮上，所述驱动电机驱动所述驱动齿轮旋转，所述驱动齿轮与公转齿轮传动连接;其特征在于，所述真空镀膜机还包括固定齿轮以及自转齿轮，所述固定齿轮固定于所述真空腔体内，所述工件架与一转轴固定连接，所述转轴可旋转地安装于所述公转齿轮上，并且所述转轴与所述自转齿轮固定连接，所述自转齿轮与所述固定齿轮啮合。2.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述工件架的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件。3.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述靶材为圆柱形靶材。4.如权利要求1至3中任意一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述靶材可旋转地安装于所述真空腔体内。5.如权利要求1至3中任意一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述公转齿轮的边缘安装有若干沿其圆周方向间隔分布的所述工件架，所述固定齿轮与所述公转齿轮同心设置，并且所述固定齿轮同时与所有的自转齿轮啮合。6.如权利要求1至3中任意一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述公转齿轮具有上、下间隔设置的上层板以及下层板，所述固定齿轮以及自转齿轮均位于所述上层板与下层板之间的间隙内；并且，所述工件架通过一转轴可旋转地安装于所述上层板上。
【文档编号】C23C14/50GK106048552SQ201610569203
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年7月19日
【发明人】胡伟, 陈振宇, 陈芳华, 常瑞荆
【申请人】深圳市东丽华科技有限公司