1.一种显示面板制作方法，其特征在于，包括，
提供衬底基板；
在所述衬底基板上形成多个发光单元；
形成覆盖所述多个发光单元的薄膜封装层；
在所述薄膜封装层上形成第一膜层，所述显示面板上驱动芯片绑定区邻近所述发光单元的边缘在所述衬底基板上的投影和所述第一膜层邻近所述驱动芯片绑定区的边缘在所述衬底基板上的投影之间的距离大于或等于Oμm，小于或等于100μm，且所述第一膜层在所述衬底基板上的投影位于所述薄膜封装层在所述衬底基板上的投影内；
采用所述第一膜层为掩膜对所述薄膜封装层刻蚀，以使所述第一膜层的边缘在所述衬底基板上的投影与刻蚀后的所述薄膜封装层的边缘在所述衬底基板上的投影重合。
2.根据权利要求1所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述第一膜层为胶黏剂层或偏光片。
3.根据权利要求1所述的显示面板制作方法，其特征在于，以所述第一膜层为掩膜对所述薄膜封装层进行干法刻蚀，以使所述第一膜层的边缘在所述衬底基板上的投影与刻蚀后的所述薄膜封装层的边缘在所述衬底基板上的投影重合。
4.根据权利要求1所述的显示面板制作方法，其特征在于，以所述第一膜层为掩膜对所述薄膜封装层刻蚀，以使所述第一膜层的边缘在所述衬底基板上的投影与刻蚀后的所述薄膜封装层的边缘在所述衬底基板上的投影重合之后，还包括：
在所述第一膜层上形成第二膜层。
5.根据权利要求4所述的显示面板制作方法，其特征在于，
所述第二膜层为胶黏剂、偏光片、四分之一波片和增透膜中的至少一种。
6.一种利用权利要求1-5任一所述的显示面板制作方法制作形成的显示面板，其特征在于，包括，
衬底基板；
形成在所述衬底基板上的多个发光单元；
覆盖所述多个发光单元的薄膜封装层；
形成在所述薄膜封装层上的第一膜层，其中，所述显示面板上驱动芯片绑定区邻近所述发光单元的边缘在所述衬底基板上的投影与所述第一膜层邻近所述驱动芯片绑定区的边缘在所述衬底基板上的投影之间的距离大于或等于Oμm，小于或等于100μm。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层为胶黏剂层或偏光片。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括第二膜层，所述第二膜层设置于所述第一膜层背离所述发光单元的侧面上。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，
所述第二膜层为胶黏剂、偏光片、四分之一波片和增透膜中的至少一种。
10.一种显示装置，其特征在于，包括，权利要求6-9任一所述的显示面板。