掩膜板固定底板及掩模板固定装置的制作方法

本发明属于掩模板固定技术领域，具体涉及一种掩膜板固定底板及掩模板固定装置。

背景技术：

在众多oled面板封装方法中，边框加中间填充胶材(oled面板的周边区域采用封框胶密封，中间区域采用密封胶进行密封)的方式是对大尺寸oled面板封装的主要方法，封装胶材的固化一般采用紫外光照射和热固化相结合的方式。受封装胶材特性、oled器件结构、封装工艺流程和封装设备等多方面要求，往往需要边框胶和中间填充胶采用不同的紫外光照射条件，这就需要采用紫外光掩模板来实现对紫外光对封装胶材照射的差异化。

为保证对紫外光的高透过率，采用石英玻璃制作紫外光掩模板形变小、紫外光透过率高、不需要掩模板底板，但价格昂贵，同时更换繁琐。采用石英玻璃作为掩模板底板，在底板上粘贴或边缘吸附普通玻璃作为掩模板，掩模板形变量大，容易损伤下面需要曝光的胶材，同时形变对曝光精度影响大。

技术实现要素：

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种成本低、适用性强的掩膜板固定底板及掩模板固定装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种掩模板固定底板，所述掩模板固定底板包括用于固定掩模板的第一侧面，所述第一侧面包括凹面，且在所述凹面的周边区域设置有贯穿所述掩模板固定底板的真空吸附孔。

优选的是，在所述凹面的周边区域还设置有凹槽，所述真空吸附孔设置在所述凹槽中。

优选的是，所述凹面的底部为平面。

优选的是，所述凹面的深度小于0.1mm。

优选的是，所述真空吸附孔在所述凹面的周边区域均匀排布。

优选的是，所述掩模板固定底板的材料为石英。

优选的是，所述第一侧面还包括环绕所述凹面的平面。

优选的是，所述掩模板固定底板包括与所述第一侧面相对的第二侧面，所述第二侧面为平面，所述第一侧面的平面的位置到所述第二侧面之间的垂直距离在4mm-10mm。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种掩模板固定装置，其包括上述的掩膜板固定底板。

优选的是，所述固定装置还包括抽气模块；所述抽气模块与所述真空吸附孔气路连接。

本发明具有如下有益效果：

由于本发明中的掩模板固定底板的凹面的周边区域设置有真空吸附孔，因此将掩模板放置在凹面上方，利用抽气装置通过真空吸附孔对凹面与掩模板之间的空间进行抽气，以使凹面与掩模板之间的负压将掩模板可以牢牢的吸附在掩模板固定底板上。可以看出的是，掩模板的替换，仅需要通过真空吸附孔的抽放气即可实现。本发明中的掩模板固定底板特别适用于对紫外光掩模板(例如：对uv胶进行固化的掩模板)进行固定，选取玻璃材质的掩模板对uv胶进行固化即可，故其成本较现有技术而言较低，且容易实现。

附图说明

图1为本发明的实施例1的掩膜板固定底板的俯视图；

图2为本发明的实施例1的掩膜板固定底板的截面图；

图3为本发明的实施例1的掩膜板固定底板固定掩模板的截面图。

其中附图标记为：1、掩膜板固定底板；10、凹面；11、真空吸附孔；12、凹槽；2、掩模板。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

实施例1：

结合图1-3所示，本实施例提供一种掩模板固定底板1，其包括第一侧面和与第一侧面相对的第二侧面，在该第一侧面上包括凹面10。且在凹面10的周边区域设置有贯穿所述掩模板固定底板1的真空吸附孔11。

在此需要说明的是，本实施例中掩模板固定底板1的第一侧面上的凹面10是指：将掩模板设置在掩膜板固定底板1的第一侧面上，在第一侧面与掩模板之间存在间隙的位置的结构；也即第一侧面的凹面底部与第一侧面的周边存在高度差；而对于该凹面10边缘的形状可以是圆形、椭圆形、矩形、六边形等，在此不进行限定。

由于本实施例中的掩模板固定底板1的凹面10的周边区域设置有真空吸附孔11，因此将掩模板2放置在凹面10上方，利用抽气装置通过真空吸附孔11对凹面10与掩模板2之间的空间进行抽气，以使凹面10与掩模板2之间的负压将掩模板2可以牢牢的吸附在掩模板固定底板1上。可以看出的是，掩模板2的替换，仅需要通过真空吸附孔11的抽放气即可实现。本实施例中的掩模板固定底板1特别适用于对紫外光掩模板2(例如：对uv胶进行固化的掩模板2)进行固定，选取玻璃材质的掩模板2对uv胶进行固化即可，故其成本较现有技术而言较低，且容易实现。

其中，在凹面10的周边区域还优选的设置有凹槽12，真空吸附孔11设置在凹槽12中。可以看出的是，凹槽12的宽度大于真空吸附空的宽度，且该凹槽12环绕设置在凹面10的周边区域上，也即较吸附孔吸附掩模板2而言，增大了吸附面积，从而可以有效的避免的在对掩模板2的吸附过程中，掩模板2变形的问题，同时，由于吸附面积的增大，掩模板2的可以牢牢的固定在掩膜板固定底板上。

其中，上述的真空吸附孔11在凹面10的周边区域均匀排布，此时可以保证被吸附的掩模板2不同位置受到的吸附力是均匀的，进一步的防止吸附在掩膜板底板上的掩模板2周边区域出现变形的问题。

其中，本实施例中的掩模板固定底板1的凹面10包括的底部优选为平面，此时在曝光时不会影响的出光方向。当然，凹面10包括的底部也可以是弧形，当然，本实施例中的凹面也不局限于这两种情况，只要满足将掩模板放置于掩模板固定底板1的第一侧面上时，在凹面的位置与掩模板之间存在一定的间隙，以便真空吸附时所用即可。在需要说明的是，如果凹面10包括的底部采用非平面型的，在曝光时要对光线进行处理，以防止光线透过掩膜板固定底板1之后出现不均匀的问题。

其中，本实施例中的掩模板固定底板1采用石英材料。该种采用透明且不容易变形，可以有效的保证在曝光工艺中光线的透过率。当然，掩模板固定底板1的材料也不局限于石英，也可以采用其他具有相同作用的透明材料。

其中，在本实施例的掩模板2固定板中，第一侧面上还包括环绕凹面10的平面。平面结构的设置可以更好的承载以及固定待进行曝光的掩模板2。

其中，本实施例中的凹面10的深度小于0.1mm，当然该深度也可以根据具体情况而具体设定。

其中，本实施例中的掩模板固定底板1包括与第一侧面相对的第二侧面，第二侧面为平面，第一侧面的平面的位置到第二侧面之间的垂直距离在4mm-10mm。当然，本实施例中的掩模板固定底板1的第二侧面可以具有与第一侧面相同的形状，只要保证掩模板固定底板1具有一定的厚度即可。

实施例2：

本实施例提供一种掩模板2的固定装置，其包括实施例1中的掩模板固定底板1，当然还包括与掩膜板固定底板上的真空吸附孔11气路连接抽气模块。

由于本实施例中的掩模板2的固定装置包括实施例1中的掩模板固定底板1，而且在掩模板固定底板1的凹面10的周边区域设置有真空吸附孔11，因此将掩模板2放置在凹面10上方，利用抽气模块通过真空吸附孔11对凹面10与掩模板2之间的空间进行抽气，以使凹面10与掩模板2之间的负压将掩模板2可以牢牢的吸附在掩模板固定底板1上。可以看出的是，掩模板2的替换，仅需要通过真空吸附孔11的抽放气即可实现。本实施例中的掩模板固定底板1特别适用于对紫外光掩模板2(例如：对uv胶进行固化的掩模板2)进行固定，选取玻璃材质的掩模板2对uv胶进行固化即可，故其成本较现有技术而言较低，且容易实现。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。