具有边缘障壁膜的电子装置和其制备方法与流程

文档序号:14913427发布日期:2018-07-11 00:02阅读:来源:国知局
技术总结
本申请案涉及具有边缘障壁膜的电子装置和其制备方法。提供第一制品,所述第一制品包括衬底、安置在所述衬底之上的具有装置占据空间的装置和在所述衬底之上并且实质上沿所述装置占据空间的侧面安置的障壁膜。所述障壁膜可包含聚合物材料与非聚合物材料的混合物。所述障壁膜可具有离所述装置占据空间的所述侧面不到或等于3.0mm的垂直长度。所述障壁膜可减少装置降级并保护敏感组件以防例如水蒸气等环境污染物进入。

技术研发人员:普拉什特·曼德利克;瑞清·马;茱莉亚·J·布朗
受保护的技术使用者:环球展览公司
技术研发日:2013.03.15
技术公布日:2018.07.10

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