一种表面覆膜的双面单晶硅片的制作方法

文档序号:11449804阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种表面覆膜的双面单晶硅片,包括硅片基体(1),其特征在于,所述硅片基体(1)的两侧面均设置有弹性保护层(5),所述弹性保护层(5)包括基体强化层(6)和光学胶弹性层(7),所述光学胶弹性层(7)粘接在硅片基体(1),所述基体强化层(6)粘接在光学胶弹性层(7)远离硅片基体(1)一侧,所述基体强化层(6)远离光学胶弹性层(7)的一侧设置有增透层(4),所述增透层(4)远离光学胶弹性层(7)的一侧设置有钢化玻璃层(3),所述钢化玻璃层(3)远离钢化玻璃层(3)的一侧设置有陷光层(2)。

2.根据权利要求1所述的一种表面覆膜的双面单晶硅片,其特征在于,所述陷光层(2)为透明玻璃,其表面成矩阵状设置有棱台形减反射凸块(10)。

3.根据权利要求1所述的一种表面覆膜的双面单晶硅片,其特征在于,所述增透层(4)包括氧化硅层(8)和氧化锆层(9),氧化硅层(8)和氧化锆层(9)的数量为均不少于两层,且氧化硅层(8)和氧化锆层(9)自上至下交替设置。

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