1.一种用于离子束刻蚀的样品台，其用于放置待刻蚀的样片，其特征在于，其包括顺序连接的陶瓷环、承载盘、固定盘、旋转轴和支撑盘，所述承载盘设置有凸台，所述凸台的高度不小于所述陶瓷环的厚度，所述陶瓷环环绕所述凸台与所述承载盘固定连接，所述凸台的半径小于所述样片的半径。
2.根据权利要求1所述的用于离子束刻蚀的样品台，其特征在于，所述承载盘背面设置有第一凹陷部，所述固定盘设置有第二凹陷部，所述第一凹陷部和所述第二凹陷部形成有用于存储冷却液的腔体。
3.根据权利要求2所述的用于离子束刻蚀的样品台，其特征在于，从所述固定盘伸入所述第一凹陷部和所述第二凹陷部所形成的腔体内的连接轴设置有用于冷却液流通的通道，所述连接轴上连接有用于分离液流的分流板。
4.根据权利要求3所述的用于离子束刻蚀的样品台，其特征在于，所述承载盘与所述固定盘之间设置有密封圈。
5.根据权利要求1-4之一所述的用于离子束刻蚀的样品台，其特征在于，所述凸台的半径比所述样片的半径小3-5mm。