技术总结
一种用于离子束刻蚀的样品台，其用于放置待刻蚀的样片，其包括顺序连接的陶瓷环、承载盘、固定盘、旋转轴和支撑盘，所述承载盘设置有凸台，所述凸台的高度不小于所述陶瓷环的厚度，所述陶瓷环环绕所述凸台与所述承载盘固定连接，所述凸台的半径小于所述样片的半径。本实用新型所提供的一种用于离子束刻蚀的样品台，可大大减少刻蚀所产生的溅射污染物，从而有效降低对离子源及样品的污染。
技术研发人员：王长梗;关江敏
受保护的技术使用者：北京创世威纳科技有限公司
文档号码：201720168014
技术研发日：2017.02.23
技术公布日：2017.08.29