1.一种晶圆处理装置,包括两相对设置的侧壁,每一侧壁沿竖直方向设置有上层支架和下层支架,所述上层支架用于放置去胶前的晶圆,所述下层支架用于放置去胶后的晶圆;其特征在于,还包括设置于所述上层支架与下层支架之间的隔板,且所述隔板的两相对端分别与两侧壁连接,以隔离所述上层支架与所述下层支架。
2.根据权利要求1所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述隔板内设置有冷却组件,所述冷却组件用于冷却置于所述下层支架上的晶圆。
3.根据权利要求2所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述冷却组件包括布置于所述隔板内的管道,所述管道用于传输冷却水。
4.根据权利要求3所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述管道为在所述隔板内均匀分布的蛇形管。
5.根据权利要求3所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述管道包括冷却水入口和冷却水出口;所述晶圆处理装置还包括相对设置的大气传送阀门和真空传送阀门;所述冷却水入口设置于所述大气传送阀门端,所述冷却水出口设置于所述真空传送阀门端。
6.根据权利要求5所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述隔板与所述大气传送阀门之间具有预设间隙。
7.根据权利要求3所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述隔板采用陶瓷材料制作而成。
8.根据权利要求1所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述上层支架包括沿竖直方向设置的两层子支架,所述下层支架包括沿竖直方向设置的两层子支架。
9.根据权利要求1所述的晶圆处理装置,其特征在于,所述隔板与所述侧壁可拆卸的连接。