技术特征：
技术总结
粗糙化发光设备的表面以提高表面的光提取效率，但是选择粗糙化区域的大小以实现所期望水平的光提取效率。光刻技术可以用来创建掩模，其将粗糙化限于发光表面的选择区域。因为粗糙化区域的大小可以被精确地控制，所以光提取效率可以被精确地控制，其基本上独立于用来粗糙化表面的特定过程。此外，表面的选择性粗糙化可以用来获得所期望的光发射输出图案。
技术研发人员：M.贝内迪特;P.S.马丁;B.克哈拉斯
受保护的技术使用者：亮锐控股有限公司
技术研发日：2013.01.03
技术公布日：2018.11.06