一种清洗机下料传送装置的制作方法

本实用新型涉及光伏发电技术领域，尤其涉及一种清洗机下料传送装置。

背景技术：

太阳能发电可持续、无污染，作为一种绿色能源，日益受到重视。硅片清洗是光伏制造技术领域中很重要的环节。

清洗工序需要将线据切割完成的硅片清洗干净，清洗机目前市场上分为7槽清洗机、9槽清洗机、11槽清洗机。硅片完成清洗后，需要经设备自带烘箱高温将硅片控水烘干，烘干后的硅片通过设备自带的出料传送带传送至出料区域，有人工卸载至卸料区进行下一工序的操作，由于设备自带的出料区域较短，且缺少进一步的冷却环节，导致料篮出料后温度较高，比较烫手，工人在操作过程中存在诸多不安全因素，且由于温度过高，当硅片从料篮取出放入周转泡沫箱时，往往会融化熔点较低的泡沫箱，进一步产生硅片的脏污片，继而影响后续电池片制绒工艺，影响电池转换效率的提升。

所以，如何提供一种清洗机下料传送装置，解决现有硅片清洗烘干后温度过高影响后续工艺的弊端，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型提供了一种清洗机下料传送装置，解决现有技术中存在的问题，具体方案如下：

一种清洗机下料传送装置，包括传送支架20，所述传送支架20上设有传送电机21，所述传送电机21通过传送轮211带动传送履带210转动实现物料流转，所述传送履带210的外侧与出料传送带13的内侧之间的距离D为2-4cm，所述传送履带210与所述出料传送带13在一个水平面上。

具体的，所述传送履带210的外侧与出料传送带13的内侧之间的距离D为3cm。

具体的，在所述传送履带210的一侧且靠近卸料区30的一端设有料篮警报传感器22。

具体的，所述支架20靠近所述卸料区30的一侧设有传送控制按钮23，所述传送控制按钮23包括急停按钮、停止按钮以及启动按钮。

具体的，所述传送履带210为尼龙材质。

具体的，所述传送支架20的下方还设有废料箱40，所述废料箱40为漏斗形状，所述废料箱40的底部设有废料存储抽屉41。

具体的，所述传送支架20的下方还设有滚轮24。

具体的，本装置适用于SC-GP11200D自动超声波硅片清洗设备。

本实用新型提供的硅片清洗机下料传送装置，具有以下有益效果：1、实现了对清洗机生产效率的提升。2、提升硅片合格率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的下料连接装置的俯视图；

图2为本实用新型提供的下料连接装置的主视图；

图中：10、清洗机烘箱 11、清洗机出料架 12、出料控制电机 13、出料传送带 20、传送支架 21、传送电机 210、传送履带 211、传送轮 22、料篮警报传感器 23、传送控制按钮 24、滚轮 30、卸料区 40、废料箱 41、废料存储抽屉。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

图1和图2分别为本实用新型提供的下料连接装置的俯视图和主视图，本实用新型请求保护一种清洗机下料传送装置，包括传送支架20，所述传送支架20上设有传送电机21，所述传送电机21通过传送轮211带动传送履带210转动实现物料流转，所述传送履带210的外侧与出料传送带13的内侧之间的距离D为2-4cm，优选为3cm，所述传送履带210与所述出料传送带13在一个水平面上。

载有硅片的料篮（未图示）通过清洗机烘箱10后，被传送至清洗机出料架11上的出料传送带，出料传送带13在出料控制电机12的动力作用下，将料篮传送至传送履带210上，通过传送电机21的动力作用，传送至卸料区区域。在所述传送履带210的一侧且靠近卸料区30的一端设有料篮警报传感器22，所述支架20靠近所述卸料区30的一侧设有传送控制按钮23，所述传送控制按钮23包括急停按钮、停止按钮以及启动按钮，所述按钮开关以及所述出料控制电机12以及所述传送电机21均与设备的PLC控制系统（未图示）连接，使得清洗机自动运转时可以自动与传送装置同步运站，手动操作可以通过传送控制按钮23来实现，亦可实现一键启动和停止，达到提升了设备的工作效率，提升清洗质量的目的。

具体的，所述传送履带210为尼龙材质，尼龙材质使运行更加平稳，可以有效降低碎片率，提升合格品比例。

具体的，所述传送支架20的下方还设有废料箱40，所述废料箱40为漏斗形状，所述废料箱40的底部设有废料存储抽屉41。

具体的，所述传送支架20的下方还设有滚轮24，所述滚轮24可以方便移动，并且可以上下微调，保证传送履带210与出料传送带13在一个水平面上。

具体的，本装置适用于SC-GP11200D自动超声波硅片清洗设备。

进一步的，在本装置的上方或者侧面可以增加通风设施（未图示），也可进一步解决硅片温度过高影响后续操作的问题，使硅片尽快恢复至室温。

上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本发明的保护之内。