一种基板及其制造方法、显示面板和显示装置与流程

本申请涉及显示技术领域，具体为一种基板及其制造方法、显示面板和显示装置。

背景技术：

有机发光二极管(organiclightemittingdiode，oled)显示器件以其自发光、全固态、高对比度等优点，成为近年来最具潜力的新型显示器件。目前应用有机发光二极管的产品主要分在小尺寸的手机、平板电脑屏幕和较大尺寸的电视屏幕等。

在大尺寸有机发光二极管显示器件应用方向，市面上的产品大多采用底发射型结构，但随着分辨率的增长，底发射型结构会受到开口率的限制，难以实现高分辨率。而顶发射型结构具有可以实现高分辨率、高开口率等优势，因此也是大尺寸有机发光二极管显示器件发展的方向之一。

对大尺寸顶发射型有机发光二极管显示器件，为了实现高色域显示，一般在盖板玻璃上制作彩色色阻，并且为了维持封装盒厚均一性和防止显示面板内相邻像素漏光，在彩色色阻的基础上添加黑矩阵、平坦化层和隔垫物。但是，申请人发现，由于彩色色阻、黑矩阵、平坦化层和隔垫物的材质一般为光刻胶，容易在显示面板封装后释放水气，降低显示面板的封装信赖性。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请提供一种基板及其制造方法、显示面板和显示装置，用于解决现有技术显示面板封装后信赖性下降的技术问题。

为了解决上述问题，本申请实施例主要提供如下技术方案：

在第一方面中，本申请实施例公开了一种基板，包括：

基底；

黑矩阵和若干彩色色阻，设置在所述基底上，所述彩色色阻阵列排布，所述黑矩阵位于相邻两所述彩色色阻之间；

平坦化层，覆盖所述黑矩阵和所述彩色色阻；以及

多个隔垫物，设置在所述平坦化层远离所述基底的一侧；

所述黑矩阵和/或所述隔垫物包括激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性。

可选地，所述激发型吸水材料通过加热或光照的方式激发。

可选地，当加热所述激发型吸水材料时，加热温度小于100摄氏度，加热时间小于1小时。

可选地，所述激发型吸水材料在所述黑矩阵中的质量分数大于1％；

所述激发型吸水材料在所述隔垫物中的质量分数大于1％。

可选地，所述激发型吸水材料包括环氧类材料或纳米类材料。

可选地，所述黑矩阵包括第一光刻胶和激发型吸水材料，所述激发型吸水材料均匀分布在所述第一光刻胶内；和/或，

所述隔垫物包括第二光刻胶和激发型吸水材料，所述激发型吸水材料均匀分布在所述第二光刻胶内。

在第二方面中，本申请实施例公开了一种显示面板，包括阵列基板和第一方面所述的基板，

所述阵列基板包括：若干阵列分布的有机发光器件，所述阵列基板与所述基板对应贴合设置，所述基板用于封装所述阵列基板。

在第三方面中，本申请实施例公开了一种显示装置，包括：第二方面所述的显示面板。

在第四方面中，本申请实施例公开了一种基板的制造方法，包括：

通过构图工艺在基底上制作黑矩阵和若干彩色色阻，所述彩色色阻阵列排布，所述黑矩阵位于相邻两所述彩色色阻之间；

在所述黑矩阵和所述彩色色阻上制作平坦化层，在所述平坦化层上制作隔垫物；其中：

所述黑矩阵和/或所述隔垫物包括激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性。

可选地，所述在基底上制作黑矩阵，包括：在第一光刻胶中掺入激发型吸水材料，将掺有激发型吸水材料的第一光刻胶涂覆在所述基底上，并通过构图工艺形成黑矩阵；和/或，

所述在所述平坦化层上制作隔垫物，包括：在第二光刻胶中掺入激发型吸水材料，将掺有激发型吸水材料的第二光刻胶涂覆在所述平坦化层上，并通过构图工艺形成隔垫物。

借由上述技术方案，本申请实施例提供的技术方案至少具有下列优点：

由于本申请实施例中的黑矩阵和/或隔垫物都包括了激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性，因此，当本申请实施例中的基板用作显示基板的封装盖板时，在封装前或封装过程中可以对激发型吸水材料进行激发使其具有吸水性，从而使得黑矩阵和/或隔垫物具有吸水性。因此，与现有技术相比，本申请实施例能够在不改变显示面板整体结构的情况下，能够有效吸收彩色色阻、黑矩阵层、平坦化层和隔垫物在封装后所释放的水气，提高显示面板的封装信赖性。

上述说明仅是本申请实施例技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请实施例的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请实施例的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本申请实施例的具体实施方式。

附图说明

通过阅读下文可选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出可选实施方式的目的，而并不认为是对本申请实施例的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1为本申请实施例的基板的结构示意图；

图2为本申请实施例的激发型吸水材料在未照射紫外线时的吸水性曲线图；

图3为本申请实施例的激发型吸水材料在照射紫外线后的吸水性曲线图；

图4为本申请实施例黑矩阵的具体结构示意图；

图5本申请实施例隔垫物的具体结构示意图；

图6为本申请实施例的基板的制造方法流程图。

附图标记介绍如下：

1-基板；2-基底；3-黑矩阵；4-彩色色阻；5-平坦化层；6-隔垫物；7-第一光刻胶；8-激发型吸水材料；9-第二光刻胶。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

在第一方面中，图1为本申请实施例公开的基板1的结构示意图。如图1所示，该基板1包括：基底2；黑矩阵3和若干彩色色阻4，黑矩阵3和彩色色阻4设置在基底2上，彩色色阻4阵列排布，黑矩阵3位于相邻两彩色色阻4之间；平坦化层5，该平坦化层5覆盖黑矩阵3和彩色色阻4；以及包括多个隔垫物6，隔垫物6设置在平坦化层5远离基底2的一侧。本申请实施例中的黑矩阵3和/或隔垫物6包括激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性。

由于本申请实施例中的黑矩阵3和/或隔垫物6都包括了激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性，因此，当本申请实施例中的基板用作显示基板的封装盖板时，在封装前或封装过程中可以对激发型吸水材料进行激发使其具有吸水性，从而使得黑矩阵3和/或隔垫物6具有吸水性。因此，与现有技术相比，本申请实施例能够在不改变显示面板整体结构的情况下，能够有效吸收彩色色阻4、黑矩阵3、平坦化层5和隔垫物6在封装后所释放的水气，提高显示面板的封装信赖性。

具体地，如图1所示，黑矩阵3覆盖彩色色阻4的边缘区域，这样能够有效防止像素边缘漏光。彩色色阻4包括红色色阻(如图1中位于左侧的彩色色阻4)、绿色色阻(如图1中位于中间的彩色色阻4)和蓝色色阻(如图1中位于右侧的彩色色阻4)，当然，在实际应用中，还可以包括其它颜色的色阻，本申请不对彩色色阻4的颜色做限定。

在一种具体的实施例中，如图1所示，隔垫物6在基底2上的正投影区位于黑矩阵3在基底2上的正投影区内，当本申请实施例中的基板用作封装盖板时，这种设置方式，对隔垫物6的透光性要求较低，并能够使得封装后形成的显示面板的透光性较佳。

可选地，激发型吸水材料通过加热或光照的方式激发，具体地，可以通过加热激发型吸水材料使其具有吸水性，也可以通过紫外线照射激发型吸水材料使其具有吸水性，进而使得黑矩阵3和/或隔垫物6具有吸水性。

可选地，在一个实施例中，当加热激发型吸水材料时，加热温度小于100摄氏度，且加热时间小于1小时，实际应用中，若加热温度过高，或加热时间较长，会使激发型吸水材料的吸水特性降低，且会增加加热设备的使用成本，因此，本申请具体实施例的加热温度可以选择80摄氏度到90摄氏度，加热时间可以选择30分钟到50分钟，进而使得黑矩阵3和/或隔垫物6具有吸水性。

可选地，在本实施例中，激发型吸水材料在黑矩阵3中的质量分数大于1％。在另一个实施例中，激发型吸水材料在隔垫物6中的质量分数大于1％；当激发型吸水材料在黑矩阵3和隔垫物6中的质量分数大于1％时，能够更好的激发本申请实施例的激发型吸水材料的吸水性能，并且当本申请实施例中的基板用作显示基板的封装盖板时，可以更好的吸收彩色色阻4、黑矩阵3、平坦化层5和隔垫物6在封装后产生的水气，确保显示面板的封装信赖性不受影响。

可选地，在本实施例中，激发型吸水材料包括环氧类材料或纳米类材料。本实施例中激发型吸水材料可以选择环氧类材料，该环氧类材料在未照射紫外线时的吸水性曲线如图2所示，在照射紫外线后的吸水性曲线如图3所示，图2和图3均是在温度为25摄氏度，湿度为50％的条件下进行实验后得到的曲线图。如图2所示，环氧类材料在未经紫外线照射时，没有任何吸水性能，无法吸收任何水气；如图3所示，环氧类材料在经历紫外线照射后的4小时内，其吸水性能从0.0％增加到接近于2.5％，且在之后一直保持吸水性能，因此，本申请实施例中的黑矩阵3和/或隔垫物6能够长时间吸收显示面板中的水气。

可选地，如图4所示，黑矩阵3包括第一光刻胶7和激发型吸水材料8，激发型吸水材料8均匀分布在第一光刻胶7内；这种设置方式能够使得黑矩阵3的不同区域的吸水性相同，有效的避免了黑矩阵3的不同区域因吸水性不同而导致其变形的问题。

如图5所示，在另一个实施例中，隔垫物6包括第二光刻胶9和激发型吸水材料8，激发型吸水材料8均匀分布在第二光刻胶9内；同样地，这种设置方式能够使得隔垫物6的不同区域的吸水性相同，有效的避免了隔垫物6的不同区域因吸水性不同而导致其变形的问题。当然，为了降低制造成本，第一光刻胶7和第二光刻胶9可以使用相同材料。

在一个具体实施例中，沿基底正投影方向，彩色色阻4的厚度为0.1微米至5微米；黑矩阵3的厚度为0.1微米至5微米；平坦化层5的厚度为0.1微米至5微米；隔垫物6的厚度为0.5微米至8微米。

在第二方面中，本申请实施例公开了一种显示面板，包括阵列基板和第一方面的基板1。该阵列基板包括：若干阵列分布的有机发光器件，阵列基板与基板1对应贴合设置，基板1用于封装阵列基板。由于第二方面的显示面板包括了第一方面的基板1，使得显示面板具有与基板1相同的有益技术效果。因此，在此不再重复赘述第二方面的显示面板的有益效果。

具体地，本申请实施例中的阵列基板为制作有像素电路以及有机发光器件的显示基板，该显示基板的具体结构与现有技术类似，由于显示基板不涉及本申请的改进点，因此这里不再赘述；基板1用作该显示基板的封装基板，能够保证封装后的显示面板具有良好的信赖性。

在第三方面中，本申请实施例公开了一种显示装置，包括：第二方面的显示面板。由于第三方面的显示面板包括了第二方面的显示面板，使得显示装置具有与显示面板相同的有益技术效果。因此，在此不再重复赘述第三方面的显示装置的有益效果。

在第四方面中，本申请实施例公开了一种基板1的制造方法，如图6所示，该方法包括：

s101：通过构图工艺在基底2上制作黑矩阵3和若干彩色色阻4，彩色色阻4阵列排布，黑矩阵3位于相邻两彩色色阻4之间。

s102：在黑矩阵3和彩色色阻4上制作平坦化层5，在平坦化层5上制作隔垫物6；其中：黑矩阵3和/或隔垫物6包括激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性。

由于制造出的黑矩阵3和/或隔垫物6都包括了激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性，因此，当本申请实施例中制作的基板用作显示基板的封装盖板时，在封装前或封装过程中可以对激发型吸水材料进行激发使其具有吸水性，从而使得黑矩阵3和/或隔垫物6具有吸水性。因此，本申请实施例在不改变显示面板整体结构的情况下，能够有效吸收彩色色阻4、黑矩阵3层、平坦化层5和隔垫物6在封装后所释放的水气，提高显示面板的封装信赖性。

需要说明的是，本申请实施例中的激发型吸水材料在受到外界激发后，其吸水性会一直保持，如：对激发型吸水材料进行加热后，该激发型吸水材料就转换为任何情况下均可以吸水的吸水材料。本申请的申请人考虑到单纯的吸水材料不好保存，且在制作转移过程中会吸收空气中的水分，起不到封装吸水的效果，因此本申请实施例选择需要外界激发后才具有吸水性的激发型吸水材料。

在一种可选的实施方式中，在基底2上制作黑矩阵3，包括：在第一光刻胶7中掺入激发型吸水材料8，将掺有激发型吸水材料8的第一光刻胶7涂覆在基底2上，并通过构图工艺形成黑矩阵3。具体实施时，第一光刻胶7可以选择负性光刻胶，激发型吸水材料8可以选择环氧类材料，在第一光刻胶7中掺入激发型吸水材料8，包括：将环氧类材料混入负性光刻胶中并搅拌，使环氧类材料均匀分布在负性光刻胶中，保证形成的黑矩阵3的不同区域具有相同的吸水性。

在另一种可选的实施方式中，在平坦化层5上制作隔垫物6，包括：在第二光刻胶9中掺入激发型吸水材料8，将掺有激发型吸水材料8的第二光刻胶9涂覆在平坦化层5上，并通过构图工艺形成隔垫物6。具体实施时，第二光刻胶9可以选择正性光刻胶，激发型吸水材料8可以选择环氧类材料，在第二光刻胶9中掺入激发型吸水材料8，包括：将环氧类材料混入正性光刻胶中并搅拌，使环氧类材料均匀分布在正性光刻胶中，保证形成的隔垫物6的不同区域具有相同的吸水性。

当本申请实施例制作的基板用于对显示基板进行封装时，可以对黑矩阵3和隔垫物6进行加热处理，以激发黑矩阵3和隔垫物6的吸水性能，具体实施时，加热温度小于100摄氏度，加热时间小于1小时。或者，在另一个实施例中，对黑矩阵3和隔垫物6进行紫外线照射处理，以激发黑矩阵3和隔垫物6的吸水性能。

下面结合一个具体实施例，详细介绍一下本申请实施例中的基板的制作过程。

在本实施例中，首先，在基底2上通过构图工艺制作红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻的厚度可以为0.1微米到5微米；其中，基底2可以为玻璃基板，红色色阻可以是掺杂红色色素的正性光刻胶或者负性光刻胶，绿色色阻可以是掺杂绿色色素的正性光刻胶或者负性光刻胶，蓝色色阻可以是掺杂蓝色色素的正性光刻胶或者负性光刻胶。本申请实施例中的构图工艺包括光刻胶的涂覆、曝光、显影、刻蚀、去除光刻胶的部分或全部过程。

接着，在负性光刻胶中掺入激发型吸水材料，将掺有激发型吸水材料的负性光刻胶涂覆在基底2上，之后通过构图工艺制作形成黑矩阵3，如图1所示，为了防止像素边缘漏光，黑矩阵3一般覆盖彩色色阻4的边缘区域；黑矩阵3的厚度可以为0.1微米到5微米。

之后，再通过构图工艺制作平坦化层5，平坦化层5的材料可以是树脂材质或者正性光刻胶或者负性光刻胶，平坦化层5的厚度为0.1微米至5微米。

最后，在正性光刻胶中掺入激发型吸水材料，将掺有激发型吸水材料的正性光刻胶涂覆在平坦化层5上，之后通过构图工艺制作形成隔垫物6，隔垫物6的厚度为0.5微米至8微米。

进一步地，本申请实施例中的激发型吸水材料可以为具有吸水功能的金属氧化物或无机氧化物或纳米类材料,可以但不限于环氧树脂类，纳米-分子筛等。

当本申请实施例中的基板用作显示基板的封装盖板时，在封装过程中，首先可以通过填充等封装工艺，在上述制作完成的基板表面涂胶，之后将涂胶后的基板与完成发光器件工艺的阵列基板压合，完成有机发光二极管显示面板的制作，具体的封装过程与现有技术类似，由于封装过程不涉及本申请的改进点，因此这里不再赘述。

应用本申请实施例所获得的有益效果包括：

1、由于本申请实施例中的黑矩阵和/或隔垫物都包括了激发型吸水材料，用于在外界产生激发时具有吸水性，因此，当本申请实施例中的基板用作显示基板的封装盖板时，在封装前或封装过程中可以对激发型吸水材料进行激发使其具有吸水性，从而使得黑矩阵和/或隔垫物具有吸水性。因此，与现有技术相比，本申请实施例能够在不改变显示面板整体结构的情况下，能够有效吸收彩色色阻、黑矩阵层、平坦化层和隔垫物在封装后所释放的水气，提高显示面板的封装信赖性。

2、本申请实施例中的激发型吸水材料在黑矩阵和隔垫物中的质量分数大于1％，能够激发出较好的吸水性能，并且当本申请实施例中的基板用作显示基板的封装盖板时，可以吸收由彩色色阻、黑矩阵、平坦化层和隔垫物产生的大部分水气，确保显示面板的封装信赖性不受影响。

3、在制备黑矩阵时，可以将环氧类材料混入在负性光刻胶中并搅拌，使环氧类材料均匀分布在负性光刻胶中，确保制作形成的黑矩阵的不同区域具有相同的吸水性能。

4、在制备隔垫物时，可以将环氧类材料混入在正性光刻胶中并搅拌，使环氧类材料均匀分布在正性光刻胶中，确保制作形成的隔垫物的不同区域具有相同的吸水性能。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。