监视系统的制作方法

本发明涉及一种监视系统。

背景技术：

专利文献1中记载了一种腔室装置，其在腔室空间内收纳需要在非活性气体的气氛中进行工件处理的工件处理装置，该腔室装置包括：形成为大致长方体形状的上述腔室空间；对上述腔室空间内供给非活性气体的气体供给流路；与上述气体供给流路相连并且在述腔室空间开口的送气口；将上述腔室空间内的非活性气体排出的排气流路；和与上述排气流路相连并且在上述腔室空间开口的排气口，上述送气口和上述排气口配置于彼此大致对角的位置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-88485号公报

技术实现要素：

发明要解决的技术问题

本发明的技术，将基片处理装置用壳体密闭，来提高将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的安全性。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一方式是监视用壳体将基片处理装置密闭、将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统，其包括：将上述壳体与上述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器；和控制装置，其基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置或上述密闭装置输出控制信号，或者输出基于上述检测结果的通知信号。

发明效果

依照本发明，能够将基片处理装置用壳体密闭，来提高将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的安全性。

附图说明

图1是示意地表示实施方式的监视系统的概要结构的平面的说明图。

图2是示意地表示实施方式的监视系统的概要结构的侧面的说明图。

图3是实施方式的监视系统中的退出时的流程图。

图4是实施方式的监视系统中的进入时的流程图。

图5是表示应用于其他基片处理装置的监视系统的概要结构的立体图。

附图标记说明

1、61监视系统

2、63壳体

10涂敷显影处理装置

31门

31a上锁机构

32显示部

41、42、43、71、72、73、74激光传感器

41a、42a、43a拍摄装置

51气体供给部

52空气供给部

53排气部

100控制装置。

具体实施方式

例如，在半导体器件、平板显示器的制造中，使用对半导体晶片、玻璃基片等基片进行规定的处理的基片处理装置。近年来，如专利文献1所公开的那样，将该基片处理装置本身用壳体密闭，将由壳体密闭的空间用规定的非活性气体例如氮气气氛充满以在上述基片处理装置中实施规定的处理。

在该情况下，进行基片处理装置的保养、维修等的操作员，进入壳体内进行操作，但是在壳体内如上所述例如为氮气气氛，因此，在操作时一旦释放氮气则需要与空气相当的氧浓度。于是，在操作结束后操作员从壳体退出，在确认到操作员退出后，对壳体内供给氮气。

然而，万一在操作员留在壳体内的状态下供给氮气，则有发生不测情况的可能性。因此，将这样的基片处理装置收纳在壳体内，在壳体内在非活性气体等的气氛下使基片处理装置工作的情况下，需要注意安全性，使得不发生上述的情况。

本发明的技术，如上所述将基片处理装置用壳体密闭，来提高将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的安全性。

下面，参照附图，对本实施方式的监视系统进行说明。此外，在本说明书中，对实质上具有相同的功能结构的要素，标注相同的附图标记，从而省略重复说明。

图1是示意地表示本实施方式的监视系统1的概要结构的监视系统1的平面的图，图2是示意地表示相同的监视系统1的侧面的图。能够应用该监视系统1的基片处理装置，是在光刻工序中使用的涂敷显影处理装置10。

涂敷显影处理装置10包括送入送出收纳有半导体晶片的晶片盒的晶片盒送入送出部11、储存晶片盒的储存部12、在储存部12与处理部13之间交接半导体晶片的中转部14。此外，在处理部13设置有对半导体晶片进行规定的热处理的热处理部15、进行规定的液处理的液处理部16。此外，涂敷显影处理装置10具有进行半导体晶片的输送的输送装置17、18、19。

具有上述结构的涂敷显影处理装置10能够由构成密闭装置的壳体2密闭上表面和四侧面。即，壳体2例如由面板材料构成，具有覆盖涂敷显影处理装置10的上表面的上表面部2a、包围四侧面的正面部2b、侧面部2c、背面部2d、侧面部2e。

另外，在该壳体2的例如背面部2d，设置有供操作员出入壳体2内的可开闭的门31。在门31设置有上锁机构31a。为了操作员进入壳体2内，需要将该上锁机构31a的上锁解除，打开门31进入。上锁机构31a例如为电磁锁，其构成为在后述的激光传感器41、42、43的任一者检测到物体期间，无法将电磁锁上锁。

如图1、图2所示，在涂敷显影处理装置10与壳体2之间，形成有可供操作员进入的俯视时大致コ字形的空间s。在该空间s中的2个相对的角部，即壳体2的俯视时位于对角线上的角部，设置有激光传感器41、42。

激光传感器41、42具有相同的结构，在本实施方式中，使用将红外光的激光束以规定角度的范围往复旋转辐射状地扫描并照射的所谓激光束扫描结构。在该例中，激光传感器41、42的旋转角度被设定为90度，如图1所示，激光传感器41构成为以将壳体2的正面部2b和侧面部2c之间的区域作为检测范围的、图中的往复转动箭头所示的旋转角度a照射激光束，激光传感器42构成为以将壳体2的背面部2d和侧面部2e之间的区域作为检测范围的、图中的往复转动箭头所示的旋转角度b照射激光束。在该检测范围存在物体时，激光传感器41、42检测该物体，对控制装置100输出检测信号。激光传感器41、42的设置高度例如为从底面f起100～300mm、例如200mm的高度。由此，例如也能够检测倒下的人员。

另一方面，在壳体2的上表面部2a的附近，即比涂敷显影处理装置10的顶部高的位置，例如在俯视下侧面部2c的中央部分设置有激光传感器43。该激光传感器43的基本结构与激光传感器41、42相同，不过往复旋转角度被设定为180度。即，如图1所示，来自激光传感器43的激光束的旋转角度c被设定为180度。

在各激光传感器41、42、43设置有拍摄装置41a、42a、43a，例如一直拍摄各激光传感器41、42、43的检测范围的例如拍摄装置41a、42a具有视场角90度以上的照相机，拍摄装置43a具有视场角180度的照相机。当然也可以构成在激光传感器41、42、43检测到物体时，拍摄该检测到的位置的各拍摄装置41a、42a、43a。在该情况下，照相机的视场角可以比上述的90度、180度小。

然后，将拍摄的图像数据与激光传感器41、42、43的任一者检测到物体的位置、时刻相关联地保存在适当的存储装置例如服务器、控制装置100的存储区域。而且，在激光传感器41、42、43的任一者检测到物体的情况下，将检测到的位置、检测到物体的激光传感器的确定、拍摄到的图像，显示到在壳体2的外侧设置于门31的附近的显示部32。

而且，在激光传感器41、42、43的任一者检测到物体的情况下，由控制装置100输出将该情况通知外部的警报、注意信号，例如也在显示部32示出该情况。

监视系统1具有对壳体2内供给规定的气体例如氮气等非活性气体的气体供给部51。基于该气体供给部51的非活性气体的供给、停止由控制装置100控制。例如在激光传感器41、42、43的任一者检测到物体时，将不进行基于气体供给部51的非活性气体的供给的控制信号输出到气体供给部51。

另外，在壳体2设置有空气供给部52。基于该空气供给部52的空气的供给由控制装置100控制。壳体2内的气氛的排出通过设置于壳体2的排气部53进行。在排气部53设置有阀53a，阀53a的开闭由控制装置100控制。

实施方式的监视系统1如以上那样构成，下面对其动作进行说明。本发明的技术在操作员退出时操作员留在壳体2内的状态下不将壳体2密闭对壳体2内供给气体，以提高安全性。于是，首先，基于图3，对退出时的流程进行说明。

首先，当操作员从壳体2内退出时(步骤s1)，关闭门31(步骤s2)。接着，将上锁机构31a上锁(步骤s3)。接着，将激光传感器41、42、43启动(步骤s4)。由此，开始由激光传感器41、42、43进行的检测流程。然后，确认从该状态起，激光传感器41、42、43的任一者在规定时间例如20～30秒都没有检测到任何物体的情况(步骤s5)。然后，在确认了激光传感器41、42、43的任一者都没有检测到物体的情况后，开始从气体供给部51供给气体(步骤s6)。来自气体供给部51的气体的供给能够在控制装置100认识到以上的所有步骤完成了的情况后进行来自气体供给部51的气体的供给。

在以上的各步骤的中途激光传感器41、42、43的任一者在壳体2内检测到物体的情况下，无法进入下一步骤。例如，在步骤s2中关闭了门31后，在激光传感器41、42、43的任一者检测到物体时，上锁机构31a不能上锁。这样控制也能够由控制装置100进行。

然后，在将激光传感器41、42、43启动后，在激光传感器41、42、43的任一者在壳体2内检测到物体的情况下，无法开始从气体供给部51供给气体。因此，处于壳体2内的操作员的安全性提高。

另外，在激光传感器41、42、43的任一者在壳体2内检测到物体的情况下，通知警报，因此处于壳体2内的操作员本身或者其他操作员能够知晓该警报。在激光传感器41、42、43的任一者在壳体2内检测到物体的情况下，拍摄检测到的物体存在的区域，由此能够容易地确认检测到的物体是操作员或者是遗漏的操作工具类。但是，与上述检测事实相关连地拍摄到的图像能够被保存在服务器或者控制装置100，因此能够接着或者之后进行确认。

另外，也可以以如下方式构成控制装置100，即在以上的各步骤的中途，在激光传感器41、42、43的任一者检测到物体的情况下，对涂敷显影处理装置10施加联锁。由此，能够进一步确保操作员的安全性。

接着，根据图4，对入室时的流程进行说明。首先，停止从气体供给部51供给气体(步骤s11)。接着，开放排气部53的阀53a(步骤s12)。然后，开始从空气供给部52对壳体2内供给空气(步骤s13)。步骤s12和步骤s13也可以同时进行。由此，将壳体2内置换为空气。

然后，确认了经过规定时间(根据壳体2的容积而不同，例如1个小时左右)后，确认壳体2内的氧浓度(步骤s14)。氧浓度的基准例如为19.5％以上，在不超过该基准的情况下，继续进行空气置换作业直至满足该基准。然后，在满足氧浓度的基准后，解除门31的上锁机构31a的上锁状态(步骤s15)。在该情况下，优选控制装置100构成为能够控制上锁机构31a，使得在不满足该基准时，操作员即使想要解除上锁机构31a的上锁也无法实现。

然后，在解除了门31的上锁机构31a的上锁状态后，操作员打开门31(步骤s16)，接着进入壳体2内(步骤s17)。此外，在门31开放的情况下，例如也可以进行控制以施加联锁使得来自气体供给部51的气体不被供给到壳体2内。

上述的监视系统1中，仅在底面具有作为构成监视对象的基片处理装置的涂敷显影处理装置10，因此以操作员进入的区域仅在壳体2内的底面的情况为例，但是并不限于这样的基片处理装置，例如，也能够应用于如图5所示的在比底面靠上的部分具有供操作员进入的区域的装置。

即，给出了图5所示的监视系统61应用于密闭基片处理装置62密的壳体63的情况，该基片处理装置62在底面的上方具有供操作员进入进行操作的区域62a和有台阶的区域62b。即，除了设置在底面附近的激光传感器71、72之外，还设置有将上述区域62a、62b作为检测区域的激光传感器73、74。由此，对于具有高度的基片处理装置例如喷墨装置，也能够消除死角，防止在操作员留在壳体内的状态下对壳体内供给规定的气体的情况。

当然并不仅限于这样处于高的位置的区域，例如在比所设置的基片处理装置的底面靠下的部分具有供人进入的区域时，在该区域也可以设置上述的激光传感器。

本发明公开的实施方式在所有方面均是例示而不应该认为是限制性的。上述的实施方式在不脱离所附的权利要求的范围及其主旨的情况下，能够以各种方式省略、替换、改变。

此外，以下的构成也属于本发明示的技术的范围。

(1)一种监视用壳体将基片处理装置密闭、将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统，其包括：

将上述壳体与上述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器；和

控制装置，其基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置或上述密闭装置输出控制信号，或者输出基于上述检测结果的通知信号。

此处所谓的基片处理装置例如为半导体器件、平板显示器的制造装置。

另外，对基片处理装置输出的控制信号例如能够例举出施加联锁的信号。

对密闭装置输出的控制信号例如能够例举出不可结束密闭、不可将门上锁、不可供给规定的气体等的信号。

基于检测结果的通知信号，例如能够例举出适当的注意信号、警报的发出、警告灯的点亮等。

(2)在(1)记载的监视系统中：

上述密闭装置具有用于将上述密闭的空间用上述规定的气体气氛充满的、供给规定的气体的供给部，

上述控制装置在由上述激光传感器检测到物体时，对上述密闭装置输出不进行用上述供给部供给上述规定的气体的动作的控制信号。

(3)在(1)或(2)中任一项记载的监视系统中：

还包括拍摄上述人能够进入的区域的拍摄装置，

在由上述激光传感器检测到物体的情况下，用上述拍摄装置拍摄至少检测到上述物体的区域。

(4)在(3)记载的监视系统中：

将上述激光传感器的检测结果与上述拍摄到的图像相关联。

(5)在(1)～(4)中任一项记载的监视系统中：

上述密闭装置具有用于出入上述密闭的空间内的可开闭的门和该门的上锁机构，

上述控制装置基于上述激光传感器的检测结果，输出用于切换上述门的上锁机构的动作的信号。

门的上锁机构的动作例如能够例举出人员想要上锁也无法上锁的动作。

(6)在(1)～(5)中任一项记载的监视系统中：

基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置输出的控制信号，是用于将上述基片处理装置联锁的信号。