技术特征：
1.一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板，具有所述陶瓷电介体基板侧的上面和所述上面的相反侧的下面；接合部，设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间；气体导入路，穿通所述陶瓷电介体基板、所述基座板和所述接合部，具有位于所述陶瓷电介体基板的第1孔部、位于所述基座板的第2孔部和位于所述接合部的第3孔部；锪孔部，设置在所述第1孔部及所述第2孔部的至少任意一个；及陶瓷多孔质部，具有向所述第3孔部露出的露出面且设置在所述锪孔部，其特征为，当将从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向作为第1方向，将与所述第1方向大致正交的方向作为第2方向时，所述陶瓷多孔质部具有：具有透气性的多孔部；及与所述多孔部相比更致密的致密部，所述致密部被配置成覆盖所述多孔部的外周，所述致密部的至少一部分构成从所述露出面沿着所述第1方向朝着所述第3孔部突出的第1突出部。2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征为，所述第1突出部的沿着所述第1方向离所述露出面的长度，大致相同于所述接合部的沿向所述第1方向的长度。3.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其特征为，所述锪孔部设置在所述第1孔部。4.根据权利要求3所述的静电吸盘，其特征为，所述第1孔部具有：第1部分，向所述第1主面侧发生开口；第2部分，向所述第2主面侧发生开口；及中间部分，设置在所述第1部分与所述第2部分之间，所述锪孔部设置在所述第2部分，沿向所述第2方向的所述中间部分的长度，大于沿向所述第2方向的所述第1部分的长度，所述陶瓷多孔质部具有所述露出面的相反侧的面，所述面构成为向所述中间部分露出。5.根据权利要求4所述的静电吸盘，其特征为，所述致密部还具有从所述面沿着所述第1方向朝着所述第1部分突出的第2突出部。6.一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板，具有所述陶瓷电介体基板侧的上面和所述上面的相反侧的下面；接合部，设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间；气体导入路，穿通所述陶瓷电介体基板、所述基座板和所述接合部，具有位于所述陶瓷电介体基板的第1孔部、位于所述基座板的第2孔部和位于所述接合部的第3孔部；锪孔部，设置在所述第2孔部；及陶瓷多孔质部，具有向所述第3孔部露出的露出面且设置在所述锪孔部，其特征为，
当将从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向作为第1方向，将与所述第1方向大致正交的方向作为第2方向时，所述陶瓷多孔质部具有：具有透气性的多孔部；及与所述多孔部相比更致密的致密部，所述致密部被配置成覆盖所述多孔部的外周，所述致密部的至少一部分构成从所述露出面沿着所述第1方向朝着所述第3孔部突出的第1突出部，所述第1孔部包含多个细孔。7.一种处理装置，其特征为，具备：权利要求1、2及6的任意一项所记载的静电吸盘；及能够向设置于所述静电吸盘的气体导入路供给气体的供给部。
技术总结
本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘，具备：接合部，设置在基板与基座板之间；气体导入路，具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部；锪孔部，设置在第1孔部及第2孔部的至少任意一个；及多孔质部，具有向第3孔部露出的露出面且设置在锪孔部，当将从基座板朝向基板的方向作为第1方向时，多孔质部具有：具有透气性的多孔部；及与多孔部相比更致密的致密部，致密部被配置成覆盖多孔部的外周，致密部的至少一部分构成从露出面沿着第1方向朝着第3孔部突出的第1突出部。出的第1突出部。出的第1突出部。
技术研发人员：佐佐木雄基 白石纯 籾山大 河野玲绪
受保护的技术使用者：TOTO株式会社
技术研发日：2022.08.19
技术公布日：2023/3/2