显示面板、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法。
【【背景技术】】
[0002]如图1至图3所示，传统的显示面板中的薄膜晶体管阵列基板一般包括基板101、扫描线层、第一绝缘层102、非晶硅层、数据线层103、第一透明电极层104、第二绝缘层以及第二透明电极层。
[0003]其中，在形成所述数据线层103之后，以及在形成所述第二绝缘层之前，所述第一透明电极层104上往往会出现孔洞105，这些孔洞105是所述第一透明电极层104上的颗粒受腐蚀性物质201的作用或显影工序(显影液301)的影响而形成的。
[0004]如图4所示，这些孔洞会造成所述数据线层中的部分线路断线，从而影响整个显示面板的显示效果。
[0005]故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
【
【发明内容】
】
[0006]本发明的目的在于提供一种显示面板、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法，其能避免出现断线缺陷，确保显示效果。
[0007]为解决上述问题，本发明的技术方案如下:
[0008]一种显示面板，所述显示面板包括:彩色滤光片阵列基板；液晶层；以及薄膜晶体管阵列基板；所述薄膜晶体管阵列基板包括:基板；第一金属层，所述第一金属层设置于所述基板上；第一绝缘层，所述第一绝缘层设置于所述基板和所述第一金属层上；半导体层，所述半导体层设置于所述第一绝缘层上；第二金属层，所述第二金属层设置于所述第一绝缘层上；第一透明电极层，所述第一透明电极设置于所述第一绝缘层和所述第二金属层上；第二绝缘层，所述第二绝缘层设置于所述第一透明电极层上；以及第二透明电极层，所述第二透明电极层设置于所述第二绝缘层上；所述薄膜晶体管阵列基板还包括:修补层，所述修补层设置于所述第一透明电极层上，并且，所述修补层设置于所述第一透明电极和所述第二绝缘层之间。
[0009]在上述显示面板中，所述第一金属层、所述第一绝缘层、所述半导体层、所述第二金属层、所述第一透明电极层、所述修补层、所述第二绝缘层和所述第二透明电极层是依次形成的。
[0010]在上述显示面板中，所述修补层用于修补所述第一透明电极层上位于所述第二金属层处的第一孔洞，以防止所述第二金属层在所述第一孔洞处受损。
[0011]在上述显示面板中，所述第一透明电极层用于修补所述修补层上位于所述第二金属层处的第二孔洞，以防止所述第二金属层在所述第二孔洞处受损。
[0012]一种薄膜晶体管阵列基板，所述薄膜晶体管阵列基板包括:基板；第一金属层，所述第一金属层设置于所述基板上；第一绝缘层，所述第一绝缘层设置于所述基板和所述第一金属层上；半导体层，所述半导体层设置于所述第一绝缘层上；第二金属层，所述第二金属层设置于所述第一绝缘层上；第一透明电极层，所述第一透明电极设置于所述第一绝缘层和所述第二金属层上；第二绝缘层，所述第二绝缘层设置于所述第一透明电极层上；以及第二透明电极层，所述第二透明电极层设置于所述第二绝缘层上；所述薄膜晶体管阵列基板还包括:修补层，所述修补层设置于所述第一透明电极层上，并且，所述修补层设置于所述第一透明电极和所述第二绝缘层之间。
[0013]在上述薄膜晶体管阵列基板中，所述第一金属层、所述第一绝缘层、所述半导体层、所述第二金属层、所述第一透明电极层、所述修补层、所述第二绝缘层和所述第二透明电极层是依次形成的。
[0014]在上述薄膜晶体管阵列基板中，所述修补层用于修补所述第一透明电极层上位于所述第二金属层处的第一孔洞，以防止所述第二金属层在所述第一孔洞处受损。
[0015]在上述薄膜晶体管阵列基板中，所述第一透明电极层用于修补所述修补层上位于所述第二金属层处的第二孔洞，以防止所述第二金属层在所述第二孔洞处受损。
[0016]一种上述薄膜晶体管阵列基板的制作方法，所述方法包括以下步骤:A、在所述基板上依次形成所述第一金属层、所述第一绝缘层、所述半导体层、所述第二金属层、所述第一透明电极层、在所述第一透明电极层上设置所述修补层，以利用所述修补层修补所述第一透明电极层上位于所述第二金属层处的第一孔洞；C、在所述修补层上依次设置所述第二绝缘层和所述第二透明电极层。
[0017]在上述薄膜晶体管阵列基板的制作方法中，所述修补层的材料为透明金属、透明绝缘材料中的任意一者。
[0018]相对现有技术，本发明能有效避免所述薄膜晶体管阵列基板的所述第二金属层中出现断线缺陷，有利于确保显示面板的显示质量。
[0019]为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。
【【附图说明】】
[0020]图1至图3为传统的显示面板中的薄膜晶体管阵列基板在制作过程中形成断线部的不意图；
[0021]图4为传统的显示面板中的薄膜晶体管阵列基板中的断线部的示意图；
[0022]图5为本发明的薄膜晶体管阵列基板为避免出现断线部所作出的改进的示意图；
[0023]图6为本发明的薄膜晶体管阵列基板的制作方法的流程图。
【【具体实施方式】】
[0024]本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。此外，本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”，除非另外指定或从上下文可以清楚确定单数形式。
[0025]本发明的显不面板可以是TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示面板)等。
[0026]参考图5，图5为本发明的薄膜晶体管阵列基板为避免出现断线部所作出的改进的示意图。
[0027]本发明的显示面板包括彩色滤光片阵列基板、液晶层以及薄膜晶体管阵列基板。
[0028]其中，所述薄膜晶体管阵列基板包括基板101、第一金属层、第一绝缘层102、半导体层、第二金属层103、第一透明电极层104、修补层501、第二绝缘层、第二透明电极层。
[0029]所述第一金属层设置于所述基板101上；所述第一绝缘层102设置于所述基板101和所述第一金属层上；所述半导体层设置于所述第一绝缘层102上；所述第二金属层103设置于所述第一绝缘层102上；所述第一透明电极设置于所述第一绝缘层102和所述第二金属层103上；所述修补层501设置于所述第一透明电极层104上；所述第二绝缘层设置于所述修补层501和/或所述第一透明电极层上；所述第二透明电极层设置于所述第二绝缘层上。
[0030]在本实施例中，所述第一金属层、所述第一绝缘层102、所述半导体层、所述第二金属层103、所述第一透明电极层104、所述修补层501、所述第二绝缘层和所述第二透明电极层是依次形成的。
[0031]在本实施例中，所述修补层501用于修补所述第一透明电极层104上位于所述第二金属层103处的第一孔洞105，以防止所述第二金属层103在所述第一孔洞105处受损。其中，所述第一孔洞105是在形成所述第一透明电极层104后，因受到腐蚀性物质201和/或显影工序(显影液301)的作用而形成的。
[0032]在本实施例中，所述第一透明电极层104用于修补所述修补层501上位于所述第二金属层103处的第二孔洞502，以防止所述第二金属层103在所述第二孔洞502处受损。其中，所述第二孔洞502是在形成所述修补层501后，因受到腐蚀性物质201和/或显影工序(显影液301)的作用而形成的。
[0033]所述修补层501的材料为透明金属、透明绝缘材料中的任意一者。优选地，所述修补层501的材料跟所述第一透明电极层104相同，也就是说，所述修补层501也为透明电极层(透明金属)。
[0034]在上述技术方案中，第一次成膜时膜破的地方将被第二次成膜给覆盖，第二成膜膜破的地方由第一次成膜垫底，而在两层膜中同一个地方因颗粒(Particle)造成膜破的概率非常之小。
[0035]也就是说，在设置所述第一透明电极层104和所述修补层501的过程中，所述第一透明电极层104中的第一孔洞105被所述修补层501覆盖(修补)，所述修补层501中的第