柔性有机电致发光装置及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及有机电发光领域，特别涉及一种柔性有机电致发光装置及其制备方 法。
【背景技术】
[0002] 有机电致发光（OrganicLightEmissionDiode)，以下简称0LED，具有亮度高、材 料选择范围宽、驱动电压低、全固化主动发光等特性，同时拥有高清晰、广视角，以及响应速 度快等优势，是一种极具潜力的显示技术和光源，符合信息时代移动通信和信息显示的发 展趋势，以及绿色照明技术的要求，是目前国内外众多研究者的关注重点。
[0003] 采用柔性0LED发光装置的优点在于，其具有挠曲性和轻便性，但是柔性0LED发 光装置也存在一些问题，典型的问题是其使用寿命较短，其原因在于，使用柔性基板的0LED 发光装置，基板的水氧渗透率过高，导致水氧容易渗入器件中，影响使用。并且由于封装薄 膜采用无机材料制备，其韧性较差，在多次挠曲下，容易发生裂纹和针孔，从而形成水氧渗 入的通道，因而影响使用寿命。
【发明内容】
[0004] 鉴于此，有必要提供一种使用寿命较长的柔性有机电致发光装置及其制备方法。
[0005] -种柔性有机电致发光装置，包括柔性基板及依次层叠于所述柔性基板上的阳极 层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层，还包括双层水氧阻挡层和封装盖，所述双层 水氧阻挡层设置于所述柔性基板与所述阳极层之间，所述双层水氧阻挡层包括层叠的氧化 铝层和二氧化硅层，所述封装盖设置于所述双层水氧阻挡层上，并与所述双层水氧阻挡层 相配合形成一个封闭的收容腔，所述阳极层、空穴传输层、发光层、电子传输层及阴极层收 容于所述收容腔内，所述封装盖包括有机层及层叠于所述有机层的外表面上的无机层，其 中，所述有机层的材料选自酞菁铜、酞菁锌及酞菁钼中的一种，所述无机层的材料为二氧化 硅或氧化铝。
[0006] 在其中一个实施例中，所述氧化铝层和二氧化硅层均为多层，且所述氧化铝层和 二氧化硅层的层数相等，所述氧化铝层和二氧化硅层交替层叠。
[0007] 在其中一个实施例中，所述氧化铝层的厚度为100纳米~200纳米，所述二氧化硅 层的厚度为100纳米~200纳米。
[0008] 在其中一个实施例中，所述双层水氧阻挡层的厚度为0. 5微米~1. 2微米。
[0009] 在其中一个实施例中，所述有机层和无机层均为多层，且所述有机层和无机层的 层数相等，所述有机层和无机层交替层叠。
[0010] 在其中一个实施例中，所述无机层的厚度为100纳米~200纳米，所述有机层的厚 度为50纳米~100纳米。
[0011] 在其中一个实施例中，所述封装盖的厚度为〇. 3微米~0. 9微米。
[0012] 一种柔性有机电致发光装置的制备方法，包括如下步骤：
[0013] 在柔性基板上制备形成双层水氧阻挡层，其中，所述双层水氧阻挡层包括层叠的 氧化铝层和二氧化硅层，所述氧化铝层和所述二氧化硅层均由电子束蒸发制备形成；
[0014] 在所述双层水氧阻挡层上磁控溅射制备形成阳极层；
[0015] 在所述阳极层上热阻蒸发制备形成空穴传输层；
[0016] 在所述空穴传输层上热阻蒸发制备形成发光层；
[0017] 在所述发光层上热阻蒸发制备形成电子传输层；
[0018] 在所述电子传输层上真空蒸镀制备形成阴极层；及
[0019] 在所述双层水氧阻挡层上制备形成封装盖，且所述封装盖与所述双层水氧阻挡层 相配合形成一个封闭的收容腔，所述阳极层、空穴传输层、发光层、电子传输层及阴极层收 容于所述收容腔内，所述封装盖包括有机层及层叠于所述有机层的外表面上的无机层，所 述有机层由热阻蒸发制备形成，所述无机层由电子束蒸发制备形成，其中，所述有机层的材 料选自酞菁铜、酞菁锌及酞菁钼中的一种，所述无机层的材料为二氧化硅或氧化铝。
[0020] 在其中一个实施例中，电子束蒸发制备形成所述氧化铝层的蒸发速度为0. 5纳米 /秒~2纳米/秒；电子束蒸发制备形成所述二氧化硅层的蒸发速度为0. 5纳米/秒~2纳 米/秒。
[0021] 在其中一个实施例中，热阻蒸发制备形成所述有机层的蒸发速度为0. 1纳米/ 秒~1纳米/秒；热阻蒸发制备形成所述无机层的蒸发速度为0. 1纳米/秒~1纳米/秒。
[0022] 上述柔性有机电致发光装置，通过在柔性基板和阳极层之间设置双层水氧阻挡 层，由于双层水氧阻挡层包括层叠的氧化铝层和二氧化硅层，而氧化铝层对氧气有很好的 阻挡性能，二氧化硅层对水分子有很好的阻挡性能，使得具有氧化铝层和二氧化硅层的双 层水氧阻挡层能够兼具对水分子和氧都有很好的阻挡性能，从而能够有效地提高柔性有机 电致发光装置的使用寿命；且上述柔性有机电致发光装置使用的封装盖包括有机层及层叠 于有机层的外表面上的无机层，有机层能够使封装盖具有优异的韧性，从而减少无机层在 挠曲过程中产生的内应力，保证挠曲过程中封装盖不发生破坏；且由于酞菁铜（CuPc)、酞 菁锌（ZnPc)及酞菁钼（PtPc)均具有较好的成膜性，能够形成致密度高的薄膜，使得有机层 具有很好的阻挡性能，且使用上述材料制备的有机层具有很好的热稳定性能，且由于无机 层采用二氧化硅（Si02)或氧化铝（A1203)作为材料，而使用这些材料制备无机层时，产生的 高热量对上述材料制备的有机层的破坏较小，从而能保证封装盖在制备过程中的稳定性， 从而进一步提高柔性有机电致发光装置的使用寿命，因此，上述柔性有机电致发光装置具 有较长的使用寿命。
【附图说明】
[0023] 图1为一实施方式的柔性有机电致发光装置的结构示意图；
[0024] 图2为一实施方式的柔性有机电致发光装置的制备方法的流程图；
[0025] 图3 (a)为柔性有机电致发光装置的两端固定在两块相对平行的刚性板上的结构 示意图；
[0026] 图3(b)为固定于两块刚性板上的柔性有机电致发光装置被挠曲后的结构示意图。
【具体实施方式】
[0027] 下面主要结合附图及具体实施例对柔性有机电致发光装置及其制备方法作进一 步详细的说明。
[0028] 如图1所示，一实施方式的柔性有机电致发光装置100,包括柔性基板110上的双 层水氧阻挡层120、阳极层130、空穴传输层140、发光层150、电子传输层160、阴极层170和 封装盖180。其中，双层水氧阻挡层120、阳极层130、空穴传输层140、发光层150、电子传输 层160及阴极层170依次层叠于柔性基板110上。
[0029] 柔性基板110的材料为聚合物透明薄膜。具体的，柔性基板110的材料可以为聚 对苯二甲酸乙二酯（PET)薄膜、聚醚砜树脂（PES)薄膜、聚碳酸酯（PC)薄膜、聚酰亚胺（PI) 薄膜等材料。柔性基板110的厚度为〇. 1毫米~〇. 5毫米。
[0030] 双层水氧阻挡层120包括层叠的氧化铝层122和二氧化硅层124。氧化铝层122 厚度为100纳米~200纳米。二氧化硅层124的厚度为100纳米~200纳米。优选的，双 层水氧阻挡层120的厚度为0. 5微米~1. 2微米。
[0031] 其中，层叠于柔性基板110上的可以为氧化铝层122和二氧化硅层124中任一层。 即层叠于柔性基板110上的可以为氧化铝层122,也可以为二氧化硅层124。
[0032] 其中，氧化铝层122和二氧化硅层124均为多层，且氧化铝层122和二氧化硅层 124的层数相等，氧化铝层122和二氧化硅层124交替层叠。氧化铝层122对氧气有很好 的阻挡性能，而二氧化硅层124对水分子有很好的阻挡性能，因此，氧化铝层122和二氧化 硅层124交替层叠能够兼具对水分子和氧都有很好的阻挡性能。在本实施例中，氧化铝层 122和二氧化硅层124各为一层，且层叠于柔性基板110上的为氧化铝层122。
[0033] 阳极层130的材料为透明导电薄膜，例如，铟锡氧化物薄膜（IT0)、掺铝的氧化锌 薄膜（AZ0)或掺铟的氧化锌薄膜（IZ0)，一般为铟锡氧化物薄膜（IT0)。阳极层130的厚度 为70纳米~200纳米。
[0034] 其中，当与柔性基板110层叠的为氧化铝层122时，则阳极层130层叠于二氧化硅 层124上；当与柔性基板110层叠的为二氧化硅层124时，则阳极层130层叠于氧化铝层 122 上。
[0035] 空穴传输层140的材料为乂^-二苯基4州'-二（1-萘基）-1，1'-联苯-4,4'-二 胺（NPB)或4, 4'，4' ' -三（N-3-甲基苯基-N-苯基氨基）三苯胺（m-MTDATA)。空穴传输层 140的厚度为20纳米~60纳米。
[0036] 发光层150的材料为5, 6, 11，12-四苯基萘并萘（Rubrene)或4, 4'-二（2, 2-二 苯乙烯基）-1，1'-联苯（DPVBi)。其中，发光层150的厚度为5纳米~30纳米。
[0037] 电子传输层160的材料为8-羟基喹啉铝（Alq3)、4, 7-二苯基-邻菲咯啉（Bphen) 或4,