图表，其描述了暴露于不同浓度的水性肥I溶液时，如通过飞 行时间二次离子质谱仪（T0F-SIM巧所测量的在玻璃基材表面处几种碱金属离子（钢和 钟）物质的标准化强度随时间的变化。显示玻璃基材暴露于浓度为1:200(菱形符号） 和1:80(圆圈符号）的肥I:&0溶液时的标准化钢强度，并显示玻璃基材暴露于浓度为 1:200(正方形符号）和1:80(加号符号）的肥1:&0溶液时的标准化钟强度。数据表明对 于两种浓度的HCl和两种碱金属，在玻璃基材表面处的碱金属的量快速下降，在仅仅100秒 的跨度中强度下降约400%。
[0067] 根据本文所述的实施方式，可将第二酸溶液保持在约50°C-约80°C的溫度，和 在一些实施方式中保持在约60°C-约70°C的溫度。玻璃基材与第二酸溶液的暴露时间可 为约0分钟-约10分钟，例如约30秒-约5分钟或约30秒-约10分钟。 W側在步骤140的第二子步骤14化中，可从喷嘴242施加去离子水淋洗240。运个最 终淋洗可为高压液体排放的形式，W提供全面淋洗玻璃基材表面和除去任何污染物和/或 化学残留物，准备用于如下所述的干燥步骤。
[0069] 在第六步骤150中，通过气体刀装置244干燥玻璃基材表面，其形成气体排放，该 气体排放构造成薄的细长的气体246流，其在第一子步骤150a中于玻璃基材202处相对 于玻璃基材表面W角度a引导，例如约30度-约60度。贴着玻璃基材表面引导的气体 驱除从最终淋洗步骤剩余的水。任选地，在步骤150的第二子步骤15化中，可使用ESD 离子化仪247处理玻璃基材的一个或两个表面，W中和玻璃基材表面上的任何积累的静态 电荷。
[0070] 使用本文所述的方法，对于尺寸等于或大于约0. 3微米的颗粒而言，可取得表面 颗粒密度小于0.02颗粒每cm2的玻璃基材。此外，使用本文所述的方法，厚度小于IOnm的 玻璃基材的表面层的金属含量可等于或小于1x10"原子/cm2。
[0071] 如上所述和如图2所示，可在线"工艺实施如上所述的过程，其中通过传送装 置248连续地传送要处理的玻璃基材，且当玻璃沿着传送方向206移动时，W连续的方式实 施各种前述步骤。例如，在图2所示的一种实施方式中，传送装置248可包含多个漉250， 其沿着传送方向206移动玻璃板。
[0072] 如图5所示，其显示典型漉250的横截面视图，其中传送方向垂直于纸张，漉250 可包含弹性接触表面252,其接触玻璃基材202同时最小化接触的玻璃基材表面的污染。例 如，接触表面252可包含由合适的橡胶状材料形成的"0形环"。0形环可设置在漉中形成 的凹槽之内，其防止0形环在漉表面移动。运种0形环通常具有圆形横截面形状，因此与玻 璃板的表面形成线接触。漉可包含驱动漉和非驱动漉，其中驱动漉连接到动力来源（未显 示），其赋予漉旋转运动。由驱动漉呈现的运种转动沿着传送方向206移动玻璃基材。另一 方面，非驱动漉自由旋转，并主要用来在玻璃基材由驱动漉沿着传送方向移动时支撑玻璃 基材。在本实施方式中，W基本上水平的取向传送玻璃基材。还可使用其它传送方法。例 如，可W基本上垂直的取向传送玻璃基材。
[0073] 又在另一种实施方式中，传送设备可包含使玻璃板在缓冲气体例如空气上浮起类 型的一个或多个"空气轴承"。可设置运种空气轴承，从而沿着水平取向或者相对于水平平 面W-定角度传送玻璃板。但是，使用空气轴承妨碍达到玻璃板的两个侧面，因此限制将上 述过程同时应用到玻璃板的两个侧面的能力。还可使用本技术领域所公知的其它形式的传 送，包括但不限于开放链条带，其提供达到玻璃基材的两个表面。
[0074] 对本领域的技术人员而言，显而易见可W在不偏离本发明范围的情况下下对本发 明进行各种修改和变动。因此，本发明人意图是本发明包括本发明的修改和变化，只要运些 修改和变化落在所附的权利要求和它们的等同内容的范围内。
【主权项】
1. 一种从玻璃基材表面除去污染物的在线方法，所述方法包含下述步骤： 使用传送装置沿着传送方向传送所述玻璃基材，其中在传送时对该玻璃基材的至少 一个表面进行表面处理，该表面处理依次包含： a) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于包含臭氧化的水的液体排放； b) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于第一碱溶液的液体排放； c) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于第二碱溶液的液体排放； d) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于第一酸溶液的液体排放，以从该玻璃基材的至 少一个表面除去金属离子，其中第一酸溶液包含HC1 ;和 e) 干燥该玻璃基材的至少一个表面。2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包含在步骤c)之后，将玻璃基材暴露于第 二酸溶液的液体排放。3. 如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二酸溶液包含HF。4. 如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二酸溶液包含氟化氢铵溶液，其摩尔 浓度是约0. 2M-约2M。5. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤e)之后，所述玻璃基材的平均表面粗 糙度Ra是等于或大于约0· 2nm_约0· 8nm〇6. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一碱溶液包含NH40H:H202:H20,其以体 积计的混合物比例为约1:1:5-约1:2:80。7. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一碱溶液的温度为约40°C-约80°C， 且将所述玻璃基材暴露于第一碱溶液约1分钟-约30分钟的时间。8. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，第一碱溶液的pH大于约10。9. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包含向第一碱溶液施加超声波 能量，其频率是约20kHz-约200kHz。10. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包含向第二碱溶液施加兆声波 能量，其频率是约850kHz-约1. 2MHz。11. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤e)之后，在至少一个表面的5nm之 内，所述玻璃基材包含小于1. 6xl012个原子/cm2的Na，K，Fe，Cu和Zn。12. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤e)之后，该玻璃基材的至少一个表 面包含小于〇. 02个颗粒/cm2,该颗粒的有效直径大于0. 3微米。13. -种从玻璃基材表面除去污染物的在线方法，所述方法包含下述步骤： 使用传送装置沿着传送方向传送所述玻璃基材，其中在传送时对该玻璃基材的至少 一个表面进行表面处理，该表面处理依次包含： a) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于包含臭氧化的水的液体排放； b) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于第一碱溶液的液体排放； c) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于第二碱溶液的液体排放； d) 将该玻璃基材的至少一个表面暴露于第一酸溶液的液体排放，以从该玻璃基材的至 少一个表面除去金属离子，其中第一酸溶液包含HC1 ; e) 干燥该玻璃基材的至少一个表面；和 其中，将所述玻璃基材暴露于第二酸溶液的液体排放。14. 如权利要求13所述的方法，其特征在于，在步骤c)之后，实施将玻璃基材暴露于第 二酸溶液的液体排放。15. 如权利要求13所述的方法，其特征在于，在步骤c)之前，实施将玻璃基材暴露于第 二酸溶液的液体排放。16. 如权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第二酸溶液包含HF。17. 如权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第二酸溶液包含氟化氢铵溶液，其摩 尔浓度是约0. 2M-约2M。18. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤e)之后，在至少一个表面的10nm之 内，所述玻璃基材包含小于1. 6xl012个原子/cm2的Na，K，Fe，Cu和Zn。19. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤e)之后，该玻璃基材的至少一个表 面包含小于〇. 02个颗粒/cm2,该颗粒的有效直径大于0. 3微米。
【专利摘要】一种清洁薄玻璃基材的方法，该方法包含当沿着传送方向传送薄玻璃基材时，施加一系列的化学洗涤步骤。此外,可处理玻璃基材表面，来增强玻璃基材的静电放电性质。
【IPC分类】B08B7/00, H01L21/00
【公开号】CN105340057
【申请号】CN201480024558
【发明人】D·G·阿尼克斯, 中村吉弘, S·文卡塔查拉姆, W·J·瓦尔扎克, L·王
【申请人】康宁股份有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2014年4月29日
【公告号】US20140318578, WO2014179251A1