光沉积法(Pulsed Laser Deposit1n,PLD)中的任一种物理气相沉积法(Physical Vapor Deposit1n,PVD);选自热化学气相沉积法(Thermal Chemical Vapor Deposit1n)、电楽辅助化学气相沉积法(Plasma-EnhancedChemical Vapor Deposit1n，PECVD)、光化学气相沉积法(Light Chemical VaporDeposit1n)、激光化学气相沉积法(Laser Chemical Vapor Deposit1n)、金属有机化学气相沉积法(Metal-Organic Chemical Vapor Deposit1n，M0CVD)以及氢化物气相外延法(Hydride Vapor Phase Epitaxy，HVPE)中的任一种化学气相沉积法(Chemical VaporDeposit1n);或原子层沉积法(Atomic LayerDeposit1n,ALD)。
[0046]为了改进第一电极的电阻，还可以包括一个辅助电极。该辅助电极可以是通过使用沉积过程或印刷过程由选自由导电密封胶以及金属组成的一组的一种或多种形成的。更详细地，该辅助电极可以包括Cr、Mo、Al、Cu以及其合金中的至少一种，但不被限制于此。
[0047]辅助电极上还可以包括绝缘层。该绝缘层可以是通过使用本领域已知的材料和方法形成的。更详细地，该绝缘层可以是通过使用一般的光刻胶材料、聚酰亚胺、聚丙烯、氮化硅、氧化硅、氧化铝、氮化铝;碱金属氧化物、碱土金属氧化物等形成的，但不被限制于此。该绝缘层的厚度可以是1 Onm-lOym，但不被限制于此。
[0048]有机材料层的详细材料以及形成方法不被特别的限制，且可以使用本领域公知的材料和形成方法。
[0049]有机材料层可以通过溶剂法(solventprocess)、使用较少数目的层来制备，而非通过使用多种聚合物材料的沉积方法——例如，诸如旋转涂布方法、浸渍涂布方法、刮刀涂布(doctor blading)方法、丝网印刷方法、喷墨印刷方法或热转移方法——来制备。
[0050]有机材料层包括发光层，并且可以具有包括选自空穴注入层、空穴传输层、电子传输层以及电子注入层中的至少一个的层压结构。
[0051]可以形成空穴注入层的材料可以是具有大逸出功的材料，使得空穴可以顺利注入有机材料层内。空穴注入材料的详细实施例是:金属，诸如钒、铬、铜、锌以及金或其合金;金属氧化物，诸如氧化锌、氧化铟、氧化铟锡(ΙΤ0)、及氧化铟锌(IZ0);金属和氧化物的组合物，诸如Ζη0:Α1或Sn02:Sb;导电聚合物，诸如聚(3-甲基噻吩)、聚[3，4-(乙烯-1，2-二氧)噻吩KPEDT)、聚吡咯或聚苯胺，但不被限制于此。
[0052]可以形成电子注入层的材料一般可以是具有小逸出功的材料使得电子可以容易注入到有机材料层内。电子注入材料的详细实施例包括:金属，诸如镁、钙、钠、钾、钛、铟、钇、锂、钆、铝、银、锡、铅或它们的合金；多层结构材料，诸如LiF/Al或Li02/Al等，并且可以使用与空穴注入电子材料相同的材料，但不被限制于此。
[0053]可以形成发光层的材料可以是对荧光和磷光具有良好量子效率的材料，如可以通过接收分别来自空穴传输层和电子传输层的空穴和电子并结合空穴和电子来发射可见光范围的光的材料。一个详细实施例包括:8-羟基-喹啉铝复合物(Alq3);咔唑基化合物;二聚化苯乙稀基(dimerized styryl)化合物;Balq; 10-轻基苯亚喹啉-金属化合物;苯并恶挫、苯并噻卩坐以及苯并咪卩坐基化合物；聚(对乙稀基)(PPV)基聚合物；螺环(spiro)化合物；聚荷、红焚稀;磷光主体CBP对[[4，4’_双(9-卩卡卩坐基)联苯](phosphorescent host CBP p[[4,4’-bis(9_carbazolyl)biphenyl])等，但不被限制于此。
[0054]此外，为了改进荧光性能和磷光性能，发光材料还可以包括磷光掺杂物或荧光掺杂物。磷光掺杂物的一个详细实施例包括:ir(ppy) (3) (fac三(2-苯基卩比啶)铱)(ir(ppy)
(3)(factris(2-phenylpyridine) iridium))、？21印;[(3[铱(111)双(4，6-二氣苯基-卩比啶-1^，C2)P比啶甲酸](F2Irpic[iridium(III)bis(4,6-d1-f luorophenyl-pyridinato-N, C2)picol inate])等。焚光掺杂物可以使用本领域已知的材料。
[0055]可以形成电子传输层的材料可以是具有大电子迀移率的材料，如可以良好接收来自电子注入层的电子以将所接收的电子运送到发光层的材料。一个详细实施例包括:8_羟基喹啉铝复合物、包含Alq3的复合物、有机自由基化合物、羟基黄酮-金属复合物等，但不被限制于此。
[0056]第二电极可以包括六1^8、0&、1%^11、10、1匕(>、11、？(1以及它们的合金中的至少一种，但不被限制于此。
[0057]在本发明的示例性实施方案中，该方法还可以包括封装有机发光装置。封装防止外来物质诸如氧气、水分等渗入到有机发光装置内，并且可以通过使用本领域已知的材料、方法等来执行。
[0058]封装过程可以是通过形成覆盖有机发光装置的外部的密封部分来执行的。
[0059]只要密封部分可以密封有机发光装置同时覆盖有机发光装置的外部，其材料不被特别地限制。例如，密封部分是通过借助于封装膜或沉积金属或金属氧化物来按压有机发光装置的外部形成的，或者密封部分可以是通过涂布和固化树脂组成物形成的。
[0060]此外，密封部分可以是通过用原子层沉积(ALD)方法沉积金属或金属氧化物形成的。在此，形成的金属层或金属氧化物层可以具有两层或更多层的结构。
[0061]此外，本发明的示例性实施方案提供一种通过所述用于制备有机发光装置的方法所制备的有机发光装置。该有机发光装置可以是柔性有机发光装置。
[0062]根据本说明书的示例性实施方案的有机发光装置可以包括光提取结构。更详细地，该有机发光装置可以附加地包括在基板与有机发光装置之间的光提取层。
[0063]该光提取层不被特别地限制，条件是该光提取层具有可以通过诱发光散射来改进有机发光装置的光提取效率的结构。更详细地，该光提取层可以具有其中散射颗粒分布于粘合剂中的结构。
[0064]此外，光提取层可以通过诸如旋转涂布、棒涂布以及狭缝涂布的方法而直接形成在基板上，或通过制备并且附接膜形式的光提取层的方法来形成。
[0065]此外，光提取层上还可以包括平坦层。
[0066]此外，本发明的一个示例性实施方案提供一种包括所述有机发光装置的显示装置。在该显示装置中，所述有机发光装置可以用作像素或背光。可以应用本领域已知的显示装置的其他配置。
[0067]此外，本发明的一个示例性实施方案提供一种包括所述有机发光装置的照明装置。在该照明装置中，所述有机发光装置可以用作发光单元。可以应用本领域已知的照明装置所需的其他配置。
[0068]根据本申请的示例性实施方案，通过借助于印刷方法在基板上直接形成有机材料掩模，该有机材料掩模可以用作现有技术中的阴影掩模。因此，由于在将有机材料等沉积在基板上的过程期间在真空蒸发器中无需对准系统并且物流系统的重量可以降低，因此可以降低工艺的成本。
[0069]此外，不同于现有技术，由于在有机材料掩模被附接至基板上时基板可以移动，因此当基板移动时不会发生掩模变形的问题。因此，本发明可以更优选地应用在使用大基板时，且更优选地应用在棍对棍(roll-to-roll)的沉积系统中。
【主权项】
1.一种层压体，包括: 基板；以及 掩模，所述掩模设置在所述基板上并且包括有机材料。2.根据权利要求1所述的层压体，其中所述层压体是玻璃、无机材料基板、塑料基板或柔性基板。3.根据权利要求1所述的层压体，其中包括所述有机材料的所述掩模包括选自由聚酰亚胺、聚乙烯和聚氯乙烯组成的一组中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的层压体，其中包括所述有机材料的所述掩模通过印刷方法形成在所述基板上。5.—种用于制备有机发光装置的方法，包括: 通过使用根据权利要求1到4中的任一项所述的层压体来形成第一电极、有机材料层和第二电极中的一个或多个。6.根据权利要求5所述的方法，其中通过使用沉积法来执行所述第一电极、所述有机材料层和所述第二电极中的一个或多个的形成。7.根据权利要求5所述的方法，还包括: 在形成所述第一电极、所述有机材料层和所述第二电极中的一个或多个之后，去除包括所述有机材料的所述掩模。
【专利摘要】本发明涉及一种包括有机掩模的层压体以及一种用于使用其的有机发光装置的制造方法。根据本发明的一个实施方案的层压体包括：基板；以及掩模，该掩膜设置在该基板上并且包括有机物质。
【IPC分类】H05B33/10, H01L51/56
【公开号】CN105453298
【申请号】CN201480045519
【发明人】姜旼秀, 朴显植, 孙世焕
【申请人】株式会社Lg化学
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2014年8月19日
【公告号】EP3016170A1, US20160197276, WO2015026139A1