适用于高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种金属屏蔽罩，具体涉及一种锥台形金属短管荧光屏屏蔽罩。
【背景技术】
[0002]Rheed(分子束外延生长的实时监测技术)已得到了广泛的应用。从电子枪发射出来的具有一定能量(通常为10-30kev)的电子束以1-2°的掠射角射到样品表面，然后衍射到荧光屏上成像，因此RHEED所反映的完全是样品表面的结构信息。然而在高气压(数百mTorr)的生长环境下，荧光屏必须靠近样品台以减少电子束的散射。这样就带来两个技术难题:一，蒸发材料会蒸镀到荧光屏上，大大缩短其使用寿命;二，如果样品台温度较高，如激光分子束外延样品温度接近1000C，荧光粉很容易挥发掉。
【实用新型内容】
[0003]针对现有技术存在的问题，本实用新型目的是，提供一种适用于高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩，通过在荧光屏的前面放置一个锥台形的金属短管，电子束可以通过锥台形金属短管的前端小孔入射到荧光屏上显示成像，锥台形短管往前伸出一段距离，可以有效地屏蔽蒸发源蒸发出的材料附着到荧光屏上；同时，锥台形短管也可以屏蔽样品处的加热源的热量辐射到荧光屏上将荧光粉蒸发掉。
[0004]本实用新型的技术方案是:一种适用高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩，在分子束外延生长的实时监测荧光屏的前面放置一个屏蔽罩，所述屏蔽罩纵截面为锥台形的金属短管，锥台形金属短管的大口径端与荧光屏座接触并压紧荧光屏座2，锥台形的斜线与分子束外延的水平线呈20-35度角。
[0005]电子束5从锥台形金属短管的小口径端进入，然后在后面的荧光屏上成像。锥台形管一方面完全挡住了下方的蒸镀材料，另一方面也有效屏蔽样品台的热辐射。
[0006]本实用新型有益效果:通过在荧光屏的前端安置一个锥台形短管，工作时，可以让电子束通过锥台形短管的小孔入射到荧光屏上成像，可以有效地保护荧光屏，在工作中，防止蒸发源蒸出的材料附着到荧光屏上面，污染荧光屏;在蒸发过程中，可以有效地屏蔽样品处的加热源辐射出的高温且能让Rheed的电子束顺利的打到荧光屏上成像。
【附图说明】
[0007]图1为本实用新型的金属屏蔽罩的结构使用说明图。
【具体实施方式】
[0008]下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
[0009]如图所示，荧光屏1放置于屏蔽罩座内，在荧光屏的前面放置一个屏蔽罩3即纵截面为锥台形的金属短管，锥台形金属短管的大口径端与荧光屏座2接触，压紧荧光屏座2，锥台形(喇叭)金属短管小口径端朝向样品4处，锥台形金属短管大口径端通过屏蔽罩座上面的螺丝锁紧。电子束5从锥台形金属短管的小口径端进入，然后在后面的荧光屏上成像。锥台形金属短管一方面完全挡住了下方(或其它位置)蒸发源处蒸发的蒸镀材料6，保护了荧光屏不被蒸镀材料附着而造成的污染，同时也有效地样品台处加热源的热辐射。
[0010]与传统的没有屏蔽罩的结构相比，荧光屏的寿命提高了约十倍。
[0011]本实用新型提供一种适用于高气压下的Rheed荧光屏金属短管屏蔽罩，通过在荧光屏的前端放置一个锥台形金属短管，电子束可以从锥台形短管的小口径端进入，然后成像在后面的荧光屏上，同时锥台形短管一方面挡住了下方的蒸镀材料，另一方面也有效的屏蔽了样品台的热辐射，从而大大提高了荧光屏的实用寿命。
[0012]虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型。本实用新型所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本实用新型的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
【主权项】
1.一种适用于高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩，其特征是在分子束外延生长的实时监测荧光屏的前面放置一个屏蔽罩，所述屏蔽罩纵截面为锥台形的金属短管，锥台形金属短管的大口径端与荧光屏座接触并压紧荧光屏座，锥台形的斜线与分子束外延的水平线呈20-35度角。
【专利摘要】一种适用于高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩，在分子束外延生长的实时监测荧光屏的前面放置一个屏蔽罩，所述屏蔽罩纵截面为锥台形的金属短管，锥台形金属短管的大口径端与荧光屏座接触并压紧荧光屏座，锥台形的斜线与分子束外延的水平线呈20-35度角。通过在荧光屏的前端安置一个锥台形短管，工作时，可以让电子束通过锥台形短管的小孔入射到荧光屏上成像，可以有效地保护荧光屏，在工作中，防止蒸发源蒸出的材料附着到荧光屏上面，污染荧光屏。
【IPC分类】H01J37/06, H01J37/02
【公开号】CN205140923
【申请号】CN201520849342
【发明人】马建行, 陆伟华, 邵玮
【申请人】苏州新锐博纳米科技有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年10月29日