一种新型硅片气体钝化装置主控制柜的制作方法
【专利摘要】本实用新型提出一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，其包括上盖板，其内设有第一水平隔板，电路控制板固定在第一水平隔板上；第一水平隔板与底板之间设有第二水平隔板以及与第二水平隔板垂直的第三隔板，反应气体发生器固定在第二水平隔板上，反应气体分析仪设置于第二水平隔板与底板之间的容置空间内，气体流量仪表设置于第三隔板与右侧板之间的容置空间内；左侧板上设有多个散热孔以及多个通气孔，所述多个通气孔用于连接臭氧、空气、压缩空气等气体管道；右侧板上设有控制面板、开关按钮以及多个散热孔。所述主控制柜结构紧凑，可将主控制柜直接固定安装在硅片处理产线支架上，主控制柜和气体喷淋组件之间仅需要较短的管道和电源线连接，既节省了材料的使用也使产线空间得到合理的利用。
【专利说明】
一种新型硅片气体钝化装置主控制柜
技术领域
[0001]本发明涉及光伏太阳能电池制造技术领域，特别涉及一种光伏电池硅片气体钝化装置主控制柜。
【背景技术】
[0002]为了应对传统的石化燃料的大规模使用造成的日益严峻的环境问题，大力发展清洁能源如太阳能光伏发电越来越受到重视，而不断降低光伏发电的成本，提高发电效率是其能够得以不断推广的重要的因素。
[0003]目前在光伏领域使用最多的是硅基板太阳电池，为了提高其发电效率，需要对硅基板表面进行制绒处理再进行表面钝化，目前采用比较多的工艺是采用臭氧气体进行硅片表面钝化，这种钝化设备一般都包括气体喷淋组件20以及与之相连的主控制柜10(如图1所示)，气体喷淋组件20—般与硅片处理产线结合设置，而主控制柜10落地摆放，通过线路和气体管道与气体喷淋组件相连，主控制柜里面一般都包括电路控制板、气体发生器、分析仪、监控仪表、控制面板等。这种设计方式中，主控制柜落地摆放，占用了产线布局空间且在维修或产线改造时不易移动；另外，为了便于人工操作，主控制柜的高度一般也比较高，造成其空间结构不够紧凑，浪费了材料成本。
【实用新型内容】
[0004]针对现有技术中的问题，本实用新型的目的是提供一种机构紧凑且可以置放于产线支架上的硅片气体钝化装置主控制置，合理利用产线空间，也方便操作。
[0005]为达到本实用新型的目的，本实用新型的硅片气体钝化装置主控制柜大致呈长方体型构造，其包括上盖板，其内设有第一水平隔板，上盖板与第一水平隔板之间容置电路控制板，所述电路控制板固定在所述第一水平隔板上;第一水平隔板与底板之间设有第二水平隔板以及与第二水平隔板垂直的第三隔板，反应气体发生器固定在第二水平隔板上，反应气体分析仪设置于第二水平隔板与底板之间的容置空间内，气体流量仪表设置于第三隔板与右侧板之间的容置空间内；左侧板上设有多个散热孔以及多个通气孔，顶部设有多个管线接入口；右侧板上设有控制面板、开关按钮以及多个散热孔。
[0006]优选的，所述上盖板为可开合式构造。
[0007]再优选的，所述多个通气孔分别连接臭氧、环境浓度监测、排风压力监测、尾气浓度监测气体管道。
[0008]再优选的，顶部所述多个管线接入口包括空气、氧气以及电力接入口。
[0009]再优选的，所述左侧板上还设有出气口，将主控制柜中泄露的气体排至废气处理
目.ο
[0010]再优选的，所述主控制柜的底板上还设有多个螺丝固定孔。
[0011]本实用新型的有益效果是，所述气体钝化装置主控制柜结构紧凑，可将主控制柜直接固定安装在硅片处理产线支架上，主控制柜和气体喷淋组件之间仅需要较短的管道和电源线连接，既节省了材料的使用也使产线空间得到合理的利用。
【附图说明】
[0012]通过下面结合附图的详细描述，本实用新型前述的和其他的目的、特征和优点将变得显而易见。其中:
[0013]图1示出了现有的硅片气体钝化装置主控制柜的结构示意图；
[0014]图2所示为本实用新型的一实施例的硅片气体钝化装置主控制柜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]结合附图本实用新型的结构及特点详述如下。
[0016]参照图2所示的本实用新型的一实施例的硅片气体钝化装置主控制柜的结构示意图，所述的主控制柜为长方体型构造，其包括上盖板10，其内设有第一水平隔板12，其上固定安装电路控制板(未图示)；第一水平隔板12与底板40之间设有第二水平隔板14以及与第二水平隔板14垂直的第三隔板24，反应气体发生器(未图示)固定在第二水平隔板上，反应气体分析仪(未图示)设置于第二水平隔板14与底板40之间的容置空间内，气体流量仪表设置于第三隔板与右侧板30之间的容置空间内；左侧板20上设有多个散热孔22以及多个通气孔28，多个通气孔28用于连接臭氧、环境浓度监测、排风压力监测、尾气浓度监测等气体管道;顶部设有多个管线接入口 16，包括空气、氧气以及电力接入口等，右侧板30上设有控制面板32、开关按钮36以及多个散热孔34。
[0017]上述的实施例中，可以较优地将上盖板10设为可开合式，如此，当需要对设备进行调试或维修时，可以方便操作；另外，为了避免主机柜中有气体泄露污染环境，所述主控制柜的左侧板20上还设有出气口 26，将主控制柜中泄露的气体通过管道排至废气处理装置；再有，所述实施例中的隔板可以是整块的板材制成的隔板，也可以是多个板条构成的隔层。
[0018]在具体应用时，所述的主控制柜可直接置放在硅片处理产线气体喷淋组件上方的固定支架上，在一优选的实施方式中，所述主控制柜的底板40上还设有多个螺丝固定孔42，可将主控制柜与固定支架固定时操作更稳定。如此，在主控制柜和气体喷淋组件之间就不需要太长的管道和电源线连接，既节省了材料的使用也使产线空间得到合理的利用。
[0019]本实用新型并不局限于所述的实施例，本领域的技术人员在不脱离本实用新型的精神即公开范围内，仍可作一些修正或改变，故本实用新型的权利保护范围以权利要求书限定的范围为准。
【主权项】
1.一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，所述主控制柜大致呈长方体型构造，其特征在于，其包括上盖板，其内设有第一水平隔板，上盖板与第一水平隔板之间容置电路控制板，所述电路控制板固定在所述第一水平隔板上;第一水平隔板与底板之间设有第二水平隔板以及与第二水平隔板垂直的第三隔板，反应气体发生器固定在第二水平隔板上，反应气体分析仪设置于第二水平隔板与底板之间的容置空间内，气体流量仪表设置于第三隔板与右侧板之间的容置空间内；左侧板上设有多个散热孔以及多个通气孔;顶部设有多个管线接入口，右侧板上设有控制面板、开关按钮以及多个散热孔。2.如权利要求1所述的一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，其特征在于，所述上盖板为可开合式构造。3.如权利要求1所述的一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，其特征在于，所述多个通气孔分别连接臭氧、环境浓度监测、排风压力监测、尾气浓度监测气体管道。4.如权利要求1所述的一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，其特征在于，顶部所述多个管线接入口包括空气、氧气以及电力接入口。5.如权利要求1所述的一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，其特征在于，所述左侧板上还设有出气口，将主控制柜中泄露的气体排至废气处理装置。6.如权利要求1所述的一种新型硅片气体钝化装置主控制柜，其特征在于，所述主控制柜的底板上还设有多个螺丝固定孔。
【文档编号】H01L31/18GK205621757SQ201620467494
【公开日】2016年10月5日
【申请日】2016年5月20日
【发明人】王振交, 艾凡凡, 韩培育
【申请人】苏州中世太新能源科技有限公司