1.一种调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，包含一个基板和沉积在所述基板上的一个蛇形薄膜加热线，其特征在于，所述基板为长方形或平行四边形或正方形，所述蛇形薄膜加热线由多条彼此平行的加热线段以及连接线构成，所述每条加热线段的形状为中部宽两端窄，相邻加热线段的间距不相等或线宽不相等或间距与线宽皆不相等。
2.根据权利要求1所述的调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，其特征在于：所述加热线段的线宽相等而间距不相等时，间距在基板中心部位大而在两端处小。
3.根据权利要求1所述的调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，其特征在于：所述加热线段的间距相等而线宽不相等时，线宽在基板中心部位大而在两端处小。
4.根据权利要求1所述的调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，其特征在于：每条加热线段的中部宽而两端窄的优化外形为一对圆弧。
5.根据权利要求1所述的调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，其特征在于：所述连接线为短直线或180°圆弧线。
6.根据权利要求1所述的调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，其特征在于：所述蛇形薄膜加热线的材料包括铂、金、铜、钨单质金属及其合金，以及镍铬合金、掺杂多晶硅。
7.根据权利要求1所述的调节温度均匀性的蛇形薄膜加热器，其特征在于：所述基板为平板薄片状，材料包括半导体基片、玻璃片、陶瓷片、石英片、表面钝化的金属片、单层介质薄膜、多层介质薄膜、多层介质/金属复合薄膜、柔性聚合物薄膜。
8.一种调节温度均匀性的调温方法，其特征在于，包含一个二维平板薄片状基板和沉积在所述基板上的一个蛇形薄膜加热线，所述蛇形薄膜加热线由多条彼此平行的加热线段以及连接线构成，在基板的横向上，通过调节每条加热线段的间距或线宽或二者同步联调来提高横向温度均匀性，在基板的纵向上，通过将每条加热线段调节为中间宽而两端细的形状来提高纵向温度均匀性。
9.根据权利要求8所述的调节温度均匀性的调温方法，其特征在于，在基板的横向上，调节为所述基板中心部位的相邻加热线段的间距比两端处相邻加热线段的间距宽。
10.根据权利要求8所述的调节温度均匀性的调温方法，其特征在于，在基板的横向上，调节为基板中心部位加热线段的线宽大于两端处加热线段的线宽。