线圈盘组件及电磁加热烹饪装置的制作方法

本发明涉及电磁加热装置领域，特别涉及一种线圈盘组件及电磁加热烹饪装置。
背景技术：
：现有技术中，电磁炉主要分为平板电磁炉和凹形电磁炉，平板电磁炉一般只能加热平底锅具，且加热时只能加热锅具底部，炒菜效果较差；凹形电磁炉，其加热面整体呈弧形，可增加与被加热锅具的接触面积，对锅具的侧面进行加热，但是，凹形电磁炉对锅具的要求比较高，一般只能使用与其配套的尖底锅具，且无法兼容平底炒锅和平底汤锅等平底锅具，适用性较差。同理，容易想到的是，其它具有线圈盘的电磁加热烹饪装置也存在上述问题。技术实现要素：本发明的主要目的是提供一种线圈盘组件，旨在解决现有线圈盘组件烹饪效果差的问题。为实现上述目的，本发明提供的线圈盘组件，包括：线圈盘座，所述线圈盘座包括侧部和平板状的底部，所述侧部与所述底部的周缘固定连接并向所述底部的上方延伸；底部线圈组，所述底部线圈组包括多匝底部线圈，多匝所述底部线圈绕置在所述底部上；侧部线圈组，所述侧部线圈组包括多匝侧部线圈，多匝所述侧部线圈密绕于所述侧部上。优选地，所述线圈盘组件还包括沿着所述侧部的周向排布的多个压线筋，每一所述压线筋的上端为自由端，且与所述侧部相对设置，每一所述压线筋的下端为连接端，朝向所述底部延伸且与所述线圈盘座连接，多个所述压线筋与所述侧部之间限定出夹线槽。优选地，所述底部线圈组和所述侧部线圈组之间具有第一间距。优选地，所述第一间距的值为10mm～20mm。优选地，所述底部线圈组的数量为多个，相邻的所述底部线圈组之间具有间隙。优选地，所述底部呈圆形设置，所述底部的直径与所述侧部的高度的比值为10～18。优选地，所述底部的直径与所述侧部的高度的比值为14。优选地，所述底部呈圆形设置，所述侧部呈圆环状设置，所述侧部的宽度与其高度的比值为1～4。优选地，所述侧部的宽度与其高度的比值为2.6。优选地，所述底部呈圆形设置，所述线圈盘组件还包括设于所述底部上的多个长条形磁条，多个所述磁条偏离所述底部的中心并围绕该中心均匀设置。优选地，所述侧部自下至上呈内凸或外凸的弯曲状设置。本发明还提供一种电磁加热烹饪装置，包括线圈盘组件，所述线圈盘组件包括：线圈盘座，所述线圈盘座包括侧部和平板状的底部，所述侧部与所述底部的周缘固定连接并向所述底部的上方延伸；底部线圈组，所述底部线圈组包括多匝底部线圈，多匝所述底部线圈绕置在所述底部上；侧部线圈组，所述侧部线圈组包括多匝侧部线圈，多匝所述侧部线圈密绕于所述侧部上。优选地，所述电磁加热烹饪装置为电磁炉、电饭煲或电压力锅。本发明技术方案通过采用整体上呈平凹式结构的线圈盘组件，如此，当用该线圈盘组件加热平底锅具烹饪食物时，不仅可以对平底锅具的底部进行加热，也可以对锅具的侧部进行加热。此外，由于增加了加热面，不仅可以提高加热食物的效率，而且，被加热锅具的底部和侧部同时被加热，有利于被加热锅具中食物的运动，可防止单独加热锅具底部时容易出现的底部受热过于集中所导致的“糊底”问题。同时，设置多匝侧部线圈是密绕于所述侧部上，如此，可提高侧部线圈组的加热效率，当使用该线圈盘组件时，能够有效保证锅具侧面的温度，保证了锅具整体受热的均匀性，大大提高线圈盘组件的烹饪效果。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本发明线圈盘组件的结构示意图；图2为图1中所述的线圈盘组件沿A-A的剖视图；图3为图1中所述的线圈盘组件的俯视图；图4为图1中所述的线圈盘组件的仰视图。附图标号说明：标号名称标号名称10线圈盘座11底部12侧部20底部线圈组30侧部线圈组40压线筋50磁条D直径H高度W宽度本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。需要说明，若本发明实施例中有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则其仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，若在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述，则其仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。本发明提出一种线圈盘组件。如图1至3所示，该线圈盘组件包括线圈盘座10、底部线圈组20和侧部线圈组30，该线圈盘座包括侧部12和平板状的底部11，侧部12与底部11的周缘固定连接并向底部11的上方延伸；底部线圈组20包括多匝底部线圈，且多匝底部线圈绕置在底部11上；侧部线圈组30包括多匝侧部线圈，且多匝侧部线圈密绕于侧部12上。由于底部线圈组20是设于底部11上，侧部线圈组30是设于侧部12上，如此，底部线圈组20和侧部线圈组30大体上呈碗状分布设置，即线圈盘组件整体上呈平凹式结构。当将线圈盘组件用于电磁炉中时，容易想到的是，可设置电磁炉的加热面板与该线圈盘座10的结构相适配，即电磁炉的加热面板也设置成大体上呈碗状的结构，即也呈平凹式的结构，如此，当用该电磁炉加热平底锅具烹饪食物时，不仅可以对平底锅具的底部进行加热，也可以对锅具的侧部进行加热。此外，由于增加了加热面，不仅可以提高加热食物的效率，而且，被加热锅具的底部和侧部同时被加热，有利于被加热锅具中食物的运动，可防止单独加热锅具底部时容易出现的底部受热过于集中所导致的“糊底”问题。此外，本申请中的侧部12为一环形结构，该侧部12是朝着远离底部11的方向设置的，整个该侧部12可设置为具有凹陷部，该凹陷部可朝向环形结构的内部凹陷，也可朝向环形结构的外部凹陷。当然，也可将侧部12的表面呈一圆台的侧面设置，即该侧部12的侧面是平滑型结构，其上没有凸起和凹陷。如图1至3所示，设置多匝侧部线圈是密绕于侧部12上，如此，可提高侧部线圈组30的加热效率，当使用具有该线圈盘组件的电磁炉时，能够有效保证锅具侧面的温度，保证了锅具整体受热的均匀性，大大提高电磁炉的烹饪效果。值得一提的是，提到的密绕是相对的，并不是唯一的绕置方法，一般的，由于绕置的线圈外部一般都是包裹着一层绝缘层，该密绕可以是多个侧部线圈紧贴在一起绕置的方式；容易想到的是，该密绕也可以是相邻的侧部线圈之间设置某一较小的间隙绕置的方式。当然，在其他实施例中，也可根据需要设置侧部线圈是疏绕于侧部12上，该疏绕的方式是相对密绕的方式而言的，疏绕时，相邻的侧部线圈之间的间隙是大于密绕时，相邻的侧部线圈之间的间隙。具体地，如图1和3所示，线圈盘组件还包括沿着侧部12的周向排布的多个压线筋40，每一压线筋40的上端为自由端，且与侧部12相对设置，每一压线筋40的下端为连接端，朝向底部11延伸且与线圈盘座10连接，多个压线筋40与侧部12之间限定出夹线槽。如此，通过该夹线槽可将多匝侧部线圈之间保持紧密地绕置于侧部上。其中压线筋40可以对应侧部12的内表面设置，也可以对应侧部12的外表面设置；所述压线筋40的连接端可以与线圈盘座10的侧部12连接，也可以与线圈盘座10的底部11连接，具体地，该连接端可以与线圈盘座10的侧部12的下端连接，也可以与线圈盘座10的底部11靠近侧部12的位置连接；所述压线筋40的自由端可延伸至侧部12的上端，大致与侧部12的上端高度相当的位置。当然，在本发明的其它实施例中，也可直接在侧部上设置一凹槽，将多匝侧部线圈绕置于该凹槽中。一般的，由于底部线圈组20在工作时，其与被加热的锅具的底部的距离相对侧部线圈组30与被加热锅具的侧部的距离较近，如此，如图1至3所示，可设置多匝底部线圈是疏绕于底部11上。具体的，设置相邻的底部线圈之间的间距，大于相邻的侧部线圈之间的间距，如此，当使用具有该线圈盘组件的电磁炉加热锅具时，可避免被加热锅具底部受热过大，导致被加热锅具整体受热不均，而降低电磁炉的烹饪效果；相反的，通过使用具有该线圈盘组件的电磁炉加热锅具时，可尽可能地保证被加热锅具整体受热的均匀性，提高电磁炉的加热效果，从而保证了食物被烹饪的效果。为了避免侧部线圈组30和底部线圈组20在工作状态时，各自的磁场之间产生过多的交错，而干扰各自的加热效果，设置底部线圈组20和侧部线圈组30之间具有第一间距，如此，可有效降低侧部线圈组30和底部线圈组20各自在工作时产生的磁场间的干扰，使各自产生的磁场有效作用于各自预定的加热面，从而保证了具有该线圈盘组件的电磁炉的加热效果。优选地，考虑到底部线圈组20和侧部线圈组30之间的第一间距如若设置太大，可能会影响到被加热锅具的加热效果，即被加热锅具的有些地方可能会加热不到；而第一间距太小，正如上述所阐述的，又会产生干扰，为此，经过多次试验，设置底部线圈组20和侧部线圈组30之间的第一间距为10mm～20mm，如可将该第一间距具体设置为14mm，如此，即可保证具有该线圈盘组件的电磁炉的加热全面性，又可有效降低侧部线圈组30和底部线圈组20在工作时产生磁场间的干扰。为了保证底部线圈组20加热的均匀性，设置底部线圈组20的数量为多个，且相邻的底部线圈组20之间具有间隙，如此，当被加热锅具被加热时，多个底部线圈组20可对应被加热锅具底部的不同位置，从而使被加热锅具的底部受热面分散开来，可有效避免设置一个底部线圈时，导致被加热锅具的底部受热较于集中，而出现“糊底”的问题。优选地，相邻的底部线圈组20之间的间隙也设置为10mm～20mm，如可将该间隙具体设置为14mm。如图1至4所示，在本发明线圈盘组件设置两个底部线圈组20。在本发明线圈盘组件的一具体实施例中，如图1至4所示，具体设置底部11呈圆形设置，如此，可方便对平底锅具的加热，保证了平底锅具被加热时，受热的均匀性；同时限定底部11的直径D与侧部12的高度H的比值为10～18，其中侧部12的高度为侧部12沿垂直于底部11的方向的长度，由此限定了侧部12的高度H相对底部11的直径D来说是相对比较小的，经实践证明，具有该种尺寸线圈盘组件的电磁炉可兼容更多尺寸的平底锅具，实现了具有该线圈盘组件的电磁炉不仅加热效果好，而且兼容性强的特点。优选地，可具体设置底部11的直径D侧部12的高度H的比值为14，该结构经试验具有较高的兼容性，能够对多种形状的平底锅具进行加热。在本发明线圈盘组件的另一具体实施例中，在结构的基础上，如图1至4所示，具体设置底部11呈圆形，如此，可方便对平底锅具的加热，保证了平底锅具被加热时，受热的均匀性。侧部12呈圆环状设置，侧部的宽度W与其高度H的比值为1～4，即设置侧部12在与底部11平行的面上的正投影为一圆环，通过该限定和限定底部11的直径D与侧部12的高度H的比值为10～18的限定，共同限定了线圈盘座10的大体结构。具体的，该线圈盘座10的底部11的尺寸相对侧部12的尺寸较大，且该线圈盘座10的深度不是太深，如此，可实现具有该种尺寸线圈盘组件的电磁炉可兼容更多尺寸的平底锅具，即具有该线圈盘组件的电磁炉不仅加热效果好，而且兼容性强的特点。优选地，设置侧部的宽度与其高度的比值为2.6，该结构经试验具有较高的兼容性，能够对多种形状的平底锅具进行加热。为了增强该线圈盘组件中底部线圈组20的加热功率，如图1至4所示，设置底部11呈圆形，线圈盘组件还包括设于底部11上的多个长条形磁条50，多个磁条50偏离底部11的中心并围绕该中心均匀设置，通过设置该多个长条形的磁条50，可将底部线圈组20工作时发出的磁场更集中于被加热锅具的底部，从而避免了能量的损失，提高了线圈盘组件中底部线圈组20的加热功率。当然，在本发明的线圈盘组件的其他实施例中，也可在侧部12上设置侧部磁条，该侧部磁条用于将侧部线圈组30工作时发出的磁场更集中于被加热锅具的侧部，从而避免了能量的损失，提高了线圈盘组件中侧部线圈组30的加热功率。值得一提的是，本发明线圈盘组件中的磁条50不局限于长条形的，也可以设置为其他形状的，如圆形、方形、其他不规则的多边形等。优选地，侧部12自下至上呈内凸或外凸的弯曲状设置。如图1至4所示，可设置线圈盘座10为旋转体，即底部11和侧部12均是轴对称结构，且两者的轴线均是底部11的中心轴；且设置侧部12具有凹陷部，该凹陷部朝向线圈盘座10的轴线凹陷，即该线圈盘座10的碗状结构是平常常用的一种碗状结构。具有该种线圈盘组件的电磁炉具有较大的加热空间，方便被加热锅具的放置。当然，在其他实施例中，也可设置凹陷部背离轴线凹陷，或者，侧部12的表面呈圆台的侧面设置，也都可以加热不同尺寸的平底锅具。值得一提的是，本发明中底部11的直径可设置为120mm～220cm，整个线圈盘座10在与底部11平行的面上的正投影为一大圆盘，该大圆盘的直径可以设置为200mm～300mm，如此，具有该线圈盘组件的电磁炉可加热大部分尺寸的锅具，即该电磁炉不仅可以兼容多种平底锅具，而且可以保证加热效果。当然，尺寸只是优选的尺寸，并不用于限制本发明线圈盘组件的尺寸，如当将该线圈盘用于大型商用的电磁炉时，该线圈盘组件也应该根据需要适当的扩大尺寸。此外，本发明线圈盘组件中的底部线圈组20和侧部线圈组30可以是串联后与控制器连接，也可以单独与控制器连接。串联的方案比较简单，启动后底部线圈组20和侧部线圈组30即同时工作；底部线圈组20和侧部线圈组30分别单独与控制器连接的方案，可实现智能控制，如可选择性的启动底部线圈组20和/或侧部线圈组30的工作，以满足不同的使用需求。本发明还提出一种电磁加热烹饪装置，该电磁加热烹饪装置包括线圈盘组件，线圈盘组件的具体结构参照实施例，由于电磁加热烹饪装置采用了所有实施例的全部技术方案，因此至少具有实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。值得一提的是，该电磁加热烹饪装置的加热面板一般是设置成与线圈盘组件的碗状结构相适配的结构，以方便和保证实现线圈盘组件提到的各种功能。优选地，本发明中的电磁加热烹饪装置可以是电磁炉、电饭煲或电压力锅。以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的
技术领域：
均包括在本发明的专利保护范围内。当前第1页1 2 3