表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷配线板的制造方法、以及电子机器的制造方法与流程

文档序号:15744922发布日期:2018-10-23 22:58阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷配线板的制造方法、以及电子机器的制造方法,具体地,提供一种表面处理铜箔,其即便用于高频电路基板中,也可良好地抑制传输损耗。本发明的表面处理铜箔在至少一个表面形成有表面处理层,表面处理层中的Co、Ni及Mo的合计附着量为1000μg/dm2以下,表面处理层包含0.4个/μm2以上的具有三个以上突起的粒子,表面处理层侧的以接触式粗糙度计测定的表面粗糙度Rz为1.3μm以下。

技术研发人员:福地亮
受保护的技术使用者:JX金属株式会社
技术研发日:2018.03.29
技术公布日:2018.10.23

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