142可由大体上不相容于曝露至等离子体的材料形成。为了避免材料曝露至等离子体，侧壁102的内部表面与顶部衬垫环140的环状底部表面156覆盖有可以相容于曝露至等离子体的保护层。侧壁102与顶部衬垫环140可由铝形成，且它们的保护涂层可包括钇或可通过阳极电镀来形成。
[0065]模块化的部件会是方便的，且可用图21与图22绘示的方式重复地组装与拆装，而不会损伤各种部件，同时允许各种部件之间的紧密配接，部分是因为O型环所提供的保护(参见上述)。具体地，图6的O型环194在注入喷嘴148插设进入喷嘴囊164的期间保护注入喷嘴148。气体传送插件146上的O型环209在插件146插设进入注入喷嘴148中的插件接收孔186的期间保护注入喷嘴148免于气体传送插件。O型环194与209在一实施例中为弹性可压缩的。
[0066]图21与图22中的组装程序必需:将注入喷嘴148插设进入顶部衬垫环140中的喷嘴囊164、安装气体传送插件146于气体传送环140上、以及然后将气体传送环144与顶部衬垫环144带至一起，以将气体传送插件146插设进入个别的插件接收孔186。
[0067]虽然例示的实施例示范了包含八个注入喷嘴148的四通道对称结构，可使用包含不同数量的注入喷嘴148的其他对称结构。
[0068]虽然前述是关于本发明的实施例，本发明的其他与进一步实施例可被设想出而无偏离其基本范围，且其范围是由下面的权利要求书来决定。
【主权项】
1.一种等离子体反应器，包括: 腔室，可调整的气体喷嘴耦接于该腔室与该腔室周围的侧部气体气室； 耦接于该侧部气体气室的多数N个气体入口，以及从该侧部气体气室径向地延伸的数个侧部气体出口； N通道气体流率控制器，该N通道气体流率控制器具有分别耦接于该等N个气体入口的N个输出； M通道气体流率控制器，该M通道气体流率控制器具有M个输出，该等M个输出的个别一者耦接于该可调整的气体喷嘴与该N通道气体流率控制器的气体输入。
2.如权利要求1所述的等离子体反应器，其特征在于，该可调整的气体喷嘴具有耦接于该等M个输出的其中二者的两个气体输入，且其中M是三，且N是四。
3.如权利要求1所述的等离子体反应器，进一步包括: 气体供应板，该气体供应板耦接于该M通道气体流率控制器的气体输入。
4.如权利要求3所述的等离子体反应器，进一步包括: 处理控制器，该处理控制器耦接于该M通道气体流率控制器并且耦接于该N通道气体流率控制器；及 用户界面，该用户界面耦接于该处理控制器。
5.如权利要求1所述的等离子体反应器，其特征在于，该侧部气体气室包括多数组的气体流动通道，该等多数组的气体流动通道的每一者包括: 拱形气体分配通道，该拱形气体分配通道具有耦接于该等数个侧部气体出口的对应的一对侧部气体出口的一对端部； 拱形气体供应通道，该拱形气体供应通道的一端部连接至该等多数N个气体入口的对应一者，且该拱形气体供应通道的一相对端部在该气体分配通道的中点附近耦接于该气体分配通道。
6.如权利要求5所述的等离子体反应器，其特征在于，该等多数组的气体流动通道为相等的路径长度。
7.如权利要求5所述的等离子体反应器，其特征在于，该侧部气体气室包括衬垫边缘，该等离子体反应器进一步包括: 气体传送环，该气体传送环在该衬垫边缘之上，该等多数组的气体流动通道形成于该气体传送环中；以及 顶部衬垫环，该顶部衬垫环在气体传送环之上，该等数个侧部气体出口延伸进入该顶部衬垫环，该顶部衬垫环包括顶部衬垫环表面，该顶部衬垫环表面面向该腔室内部。
8.如权利要求7所述的等离子体反应器，其特征在于，该等数个侧部气体出口的每一者包括: 侧部气体注入喷嘴，该侧部气体注入喷嘴径向延伸于该顶部衬垫环内朝向该腔室内部，且该侧部气体注入喷嘴包括轴向延伸的气体传送插件接收孔；以及 气体传送插件，该气体传送插件从该气体传送环延伸进入该轴向延伸的气体传送插件接收孔。
9.如权利要求8所述的等离子体反应器，进一步包括: 轴向内部气体流动通路以及径向内部气体流动喷嘴通路，该轴向内部气体流动通路在该气体传送插件中，且该径向内部气体流动喷嘴通路通过该轴向延伸的气体传送插件孔的侧壁，该轴向内部气体流动通路配接于该径向内部气体流动喷嘴通路。
10.如权利要求9所述的等离子体反应器，其特征在于: 该顶部衬垫环包括在该顶部衬垫环表面中的数个喷嘴囊，该侧部气体注入喷嘴延伸进入该等喷嘴囊的对应一者；以及 该侧部气体注入喷嘴包括与该侧部气体注入喷嘴同中心的数个O型环喷嘴槽，该等离子体反应器进一步包括在该等数个O型环喷嘴槽中的第一组O型环，该等第一组O型环压抵该等喷嘴囊的对应一者的内部侧壁。
11.如权利要求10所述的等离子体反应器，其特征在于，该侧部气体注入喷嘴进一步包括: 圆柱形外部喷嘴表面，其中该等O型环喷嘴槽界定了相对于该圆柱形外部喷嘴表面凹陷的喷嘴槽表面； 轴向排空狭孔，包括:(a)在该圆柱形外部喷嘴表面中的狭孔部，此狭孔部从该喷嘴囊内的该侧部气体注入喷嘴的一端部延伸，以及(b)在该喷嘴槽表面中的狭孔部。
12.如权利要求11所述的等离子体反应器，进一步包括缝隙，该缝隙在该圆柱形外部喷嘴表面与该等喷嘴囊的对应一者的该内部侧壁之间。
13.一种侧部气体注入套组，包括: 顶部衬垫环，该顶部衬垫环包括数个喷嘴囊； 数个侧部气体注入喷嘴，该等数个侧部气体注入喷嘴延伸进入该等喷嘴囊，该等数个侧部气体注入喷嘴的每一者包括: 外部喷嘴表面与数个O型环喷嘴槽，该等数个O型环喷嘴槽在该外部喷嘴表面中并且与该侧部气体注入喷嘴同中心；以及 第一组O型环，该等第一组O型环在该等数个O型环喷嘴槽中，该等第一组O型环压抵该等喷嘴囊的对应一者的内部侧壁。
14.如权利要求13所述的侧部气体注入套组，其特征在于，该侧部气体注入喷嘴进一步包括: 喷嘴槽表面，该等喷嘴槽表面相对于该外部喷嘴表面而凹陷，并且形成于该等O型环喷嘴槽中；以及 轴向排空狭孔，包括:在该外部喷嘴表面中的狭孔部，以及在该喷嘴槽表面中的狭孔部，在该外部喷嘴表面中的该等狭孔部从该喷嘴囊内的该侧部气体注入喷嘴的一端部延伸。
15.如权利要求14所述的侧部气体注入套组，进一步包括缝隙，该缝隙在该外部喷嘴表面与该等喷嘴囊的对应一者的内部侧壁之间，在该等喷嘴槽表面中的该等狭孔部提供该等第一组O型环周围的排空路径，在该外部喷嘴表面中的该等狭孔部提供至该缝隙的排空路径。
【专利摘要】一种气体注入系统包括：(a)侧部气体气室；(b)耦接于该侧部气体气室的多数N个气体入口；(c)从该气室径向向内延伸的数个侧部气体出口；(d)N通道气体流率控制器，该N通道气体流率控制器具有分别耦接于该等N个气体入口的N个输出；及(e)M通道气体流率控制器，该M通道气体流率控制器具有M个输出，该等M个输出的个别一者耦接于该可调整的气体喷嘴与该N通道气体流率控制器的气体输入。
【IPC分类】H05H1-34
【公开号】CN104798446
【申请号】CN201480003019
【发明人】Y·罗森佐恩, K·坦蒂翁, I·优素福, V·克尼亚齐克, B·基廷, S·巴纳
【申请人】应用材料公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2014年2月3日
【公告号】WO2014163742A1