电子装置、照相装置及其驱动装置的制作方法

文档序号:18155121发布日期:2019-07-13 08:52阅读:155来源:国知局
电子装置、照相装置及其驱动装置的制作方法

本实用新型涉及电子装置,尤其涉及电子装置中照相装置的驱动装置。



背景技术:

随着便携式数码设备的普及,许多如笔记本电脑、手机等电子设备中都配置有照相装置。而这些照相装置平时均处于暴露在外的状态,使得如黑客等他人能够通过软件控制产品上的照相装置,进行违背使用者意愿的拍摄行为,并暴露用户的个人隐私。

如公开号为“CN108430185A”的发明专利申请公开了一种可自动遮挡照相装置的电磁门装置,其通过设置滑轨以及与滑轨配合的遮挡门,使得遮挡门在磁力的驱动下沿着滑轨方向滑动并遮挡照相装置的光圈。

然而发明人发现,现有照相装置中的遮挡镜头光圈用驱动装置的结构复杂、对体积大,且容易出现卡顿现象。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种驱动装置,其占用空间小且不易产生卡顿。

本实用新型的另一目的在于提供一种照相装置,其包括上述驱动装置。

本实用新型的又一目的在于提供一种电子装置,其包括上述照相装置。

为实现前述目的的驱动装置,包括:

基座,开设有透光孔;

第一活动臂,一端具有第一功能部、另一端与所述基座可转动连接;以及,

第一驱动结构,包括第一磁石以及第一线圈,所述第一磁石设置在所述基座和所述第一活动臂的一方上,所述第一线圈设置在所述基座和所述第一活动臂的另一方上;

其中,所述第一线圈通电后与所述第一磁石产生相互作用力,以使所述第一活动臂以所述另一端为中心、自第一位置转动至第二位置,所述第一功能部在所述第二位置暴露、在所述第一位置覆盖所述透光孔。

在一个或多个实施方式中,所述第一功能部在所述第一位置时,所述第一线圈不通电,所述设置有第一线圈的基座或第一活动臂设置有导磁体,与所述第一磁石对应设置,所述第一活动臂由所述第一磁石对导磁体的磁力吸附而保持在第一位置。

在一个或多个实施方式中,所述第一功能部为遮挡部。

在一个或多个实施方式中,所述驱动装置还包括第二活动臂,与所述基座可转动连接、自由端设置有第二功能部;以及,

第二驱动结构,包括第二磁石以及第二线圈,所述第二磁石设置在所述基座和所述第二活动臂的一方上,所述第二线圈设置在所述基座和所述第二活动臂另一方上;

其中,所述第二线圈通电后与所述第二磁石产生相互作用力,以使所述第二活动臂自第三位置转动至第四位置,所述第二功能部在所述第三位置暴露、在所述第四位置覆盖所述透光孔。

在一个或多个实施方式中,所述第二功能部在所述第三位置时,所述第二线圈不通电,所述设置有第二线圈的基座或第二活动臂设置有导磁体,与所述第二磁石对应设置,所述第二活动臂由所述第二磁石对导磁体的磁力吸附而位置得到保持。

在一个或多个实施方式中,所述第二功能部为红外滤光片或者光圈。

在一个或多个实施方式中,所述第一活动臂、所述第二活动臂分别与所述基座的两个对角连接。

在一个或多个实施方式中,所述基座上还设置有第一限位件以及第二限位件,所述第一限位件在所述第一位置限制所述第一活动臂向远离所述第二位置的方向继续转动,所述第二限位件在所述第二位置限制所述第一活动臂向远离所述第一位置的方向继续转动。

在一个或多个实施方式中,所述基座上还设置有第三限位件以及第四限位件,所述第三限位件在所述第三位置限制所述第二活动臂向远离所述第四位置的方向继续转动,所述第四限位件在所述第四位置分别限制所述第二活动臂向远离所述第三位置的方向继续转动。

为实现前述目的的照相装置,包括外壳体以及设置在所述外壳体内的镜头,其特征在于,所述镜头上设置有如前述的驱动装置。

为实现前述目的的电子装置,其特征在于,包括前述的照相装置。

本实用新型的增益效果在于:

通过驱动装置中第一磁石与通电之后的第一线圈之间的相互作用力,使得第一功能部能够在遮挡或是暴露照相设备的镜头光圈的位置间进行运动,从而使光圈能够在遮挡状态与暴露状态之间切换。此外,第一活动臂以转动的方式运动,其与基座仅在连接处接触,相比传统槽、轨的接触方式,运动时接触的面积更小,不易产生卡顿现象。同时,第一活动臂在驱动装置内的运动路径为扇形,其在第一活动臂长度相等的条件下占用面积更小,起到了节省空间的作用。

附图说明

本实用新型的上述的以及其他的特征、性质和优势将通过下面结合附图和实施例的描述而变得更加明显,其中:

图1示出了驱动装置一个实施方式的示意图;

图2示出了驱动装置中基座的示意图;

图3示出了第一活动臂一个实施方式的示意图;

图4示出了第一活动臂一个实施方式的分解示意图;

图5示出了驱动装置另一实施方式的示意图;

图6示出了第二活动臂一个实施方式的分解示意图。

具体实施方式

下述公开了多种不同的实施所述的主题技术方案的实施方式或者实施例。为简化公开内容,下面描述了各元件和排列的具体实例,当然,这些仅仅为例子而已,并非是对本实用新型的保护范围进行限制。例如在说明书中随后记载的第一特征在第二特征上方或者上面形成,可以包括第一和第二特征通过直接联系的方式形成的实施方式,也可包括在第一和第二特征之间形成附加特征的实施方式,从而第一和第二特征之间可以不直接联系。另外,这些公开内容中可能会在不同的例子中重复附图标记和/或字母。该重复是为了简要和清楚,其本身不表示要讨论的各实施方式和/或结构间的关系。进一步地,当第一元件是用与第二元件相连或结合的方式描述的,该说明包括第一和第二元件直接相连或彼此结合的实施方式,也包括采用一个或多个其他介入元件加入使第一和第二元件间接地相连或彼此结合。

需要注意的是,在使用到的情况下,如下描述中的上、下、左、右、前、后、顶、底、正、反、顺时针和逆时针仅仅是出于方便的目的所使用的,而并不暗示任何具体的固定方向。事实上,它们被用于反映对象的各个部分之间的相对位置和/或方向。

驱动装置设置在照相装置中镜头上,用于遮挡外部光线进入照相装置的镜头。

图1示出了驱动装置一个实施方式的示意图。驱动装置设置在照相装置的外壳体100内,其包括基座1,在基座1上对应照相装置中的镜头开设有透光孔10,对应地,在外壳体上也设有孔。外部光线自透光孔进入到镜头内,从而实现后续的拍摄工作。

图2示出了驱动装置中基座1的示意图,在基座1上设置有如图3所示出的第一活动臂2,在第一活动臂2的一端设置有第一功能部20、另一端与基座1可转动地连接。

结合图1和图2可得,驱动装置还包括有第一驱动结构3,第一驱动结构3是包括设置在基座1上的第一磁石31以及设置在第一活动臂2上的第一线圈32。其中,第一磁石31也可以是与如图中所示不同、设置在第一活动臂2上,对应地,第一线圈32是设置在基座1上。

当照相装置处于未工作的状态时,第一线圈32内不通电,此时第一活动臂2处于靠近第一磁石31的第一位置,第一功能部20遮挡透光孔10。

当照相装置进入拍摄状态时,第一线圈32内通入电流,此时会在第一线圈32的周围会产生磁场,从而在第一线圈32与第一磁石31相靠近的一侧产生与第一磁石31相斥的极性,使得第一磁石31与第一线圈32之间产生相互作用力。在此作用力的作用下,第一活动臂2能够以与基座1的连接端为中心、在基座1的上表面平面内作转动运动,从而使得第一活动臂2自第一位置转动至第二位置,当第一活动臂2处于第二位置时,此时第一功能部20自透光孔10上方移开,透光孔10完全暴露于外界,外界光线能够进入到镜头内,照相设备可以进行正常的拍摄工作。

通过第一磁石31与通电之后的第一线圈32之间的相互作用力,使得第一功能部20能够在遮挡或是暴露照相设备的镜头光圈的位置间进行运动,从而使光圈能够在遮挡状态与暴露状态之间切换。此外,第一活动臂2以转动的方式运动,其与基座1仅在连接处接触,相比传统槽、轨的接触方式,运动时接触的面积更小,不易产生卡顿现象。同时,第一活动臂2在驱动装置内的运动路径为扇形,其在第一活动臂2长度相等的条件下占用面积更小,起到了节省空间的作用。

虽然本驱动装置的一个实施例如上所述,但是在本驱动装置的其他实施例中,驱动装置相对于上述实施例在许多方面都可以具有更多的细节,并且这些细节的至少一部分可以具有多样的变化。下面以一些实施例对这细节和些变化中的至少一部分进行说明。

图4示出了第一活动臂2一个实施方式的分解示意图,在第一活动臂2上还设置有导磁体320,导磁体320可以设置在第一线圈32内或是设置靠近第一线圈32的位置,导磁体320与第一磁石31对应设置,当照相装置处于未工作的状态时,第一线圈32内不通电,此时第一活动臂2由于第一磁石31对导磁体320的磁力吸附而被保持在第一位置。在一个与图4所示不同的实施方式中,第一线圈32是设置在基座1上,同时导磁体320也是设置在基座1上。

在一个实施方式中,第一功能部20是设置在第一活动臂2上的遮挡部,其可以是一种具有遮蔽光线功能的挡光片,从而当第一活动臂2被吸附并保持在第一位置时,遮挡部能够在透光孔10处遮挡外部光线。

图5示出了驱动装置另一实施方式的示意图,驱动装置还可包括第二活动臂3,第二活动臂3的一端也与基座1可转动地连接,在与基座1连接端相对的自由端设置有第二功能部30。

驱动装置还包括有第二驱动结构4,第二驱动结构4包括设置在基座1上的第二磁石41以及设置在第二活动臂3上的第二线圈42。其中,第二磁石41也可以是与图中所示不同、设置在第二活动臂3上,对应地,第二线圈42是设置在基座1上。

当第二线圈42内未通入电流时,此时其周围未产生磁场,第二活动臂3处在第三位置,此时第二功能部30未在上方遮挡透光孔10,透光孔10完全暴露于外界,外界光线能够进入到镜头内。

当第二线圈42内通入电流时,会在其周围会产生磁场,从而在与第二磁石41相靠近的一侧产生与第二磁石41相斥的极性,使得第二磁石41与第二线圈42之间产生相斥的互相作用力。从而在此作用力的作用下,第二活动臂3能够以与基座1的连接端为中心、在基座1的上表面平面内作转动运动,从而使得第二活动臂3自第三位置转动至第四位置。此时,第二功能部30将覆盖在透光孔10上,外界光线无法直接进入到镜头中,其要经过第二功能部30后再进入到镜头内。

图6示出了第二活动臂3一个实施方式的分解示意图,第二活动臂3也设置有导磁体420,导磁体420可以设置在第二线圈42内或是设置靠近第二线圈42的位置。当照相装置正常拍摄状态时,第二线圈42内不通电,此时第二活动臂3通过第二磁石41对导磁体420的磁力吸附而被保持在第三位置。在一个与图4所示不同的实施方式中,第二线圈42是设置在基座1上,同时导磁体420也是设置在基座1上。

在一个实施方式中,第二功能部30是一种红外滤光片,其可以是一种由光学玻璃镀膜、有色玻璃、塑料、硅、硒化锌、蓝宝石、氟化钙、石英玻璃等制成,能够将外界照入光线中的红外波段光线进行过滤,从而在拍摄时起到能起到更好的拍摄效果。

在另一实施方式中,第二功能部30是一种光圈结构,该光圈结构的外径大于透光孔10、内径小于镜头光圈的直径,从而当光圈结构覆盖于透光孔10上方时,其能够将外界照入光线中一部分进行遮挡,起到了调节光圈大小的作用。

在一个实施方式中,图中未示出的部分中,驱动装置还包括控制系统,该控制系统可以是具有一种控制芯片,用于接收用户指令,并调节外部电源对第一线圈32、第二线圈42的输出电流,该控制芯片可以是包括一个或多个硬件处理器,诸如微控制器、微处理器(例如MCU芯片或51单片机)、精简指令集计算机(RISC)、专用集成电路(ASIC)、应用特定指令集成处理器(ASIP)、中央处理单元(CPU)、图形处理单元(GPU)、物理处理单元(PPU)、微控制器单元、数字信号处理器(DSP)、现场可编程门阵列(FPGA)、高级RISC机(ARM)、可编程逻辑器件(PLD)、能够执行一个或多个功能的任何电路或处理器等中的一种或多种的组合。

当用户指令需要让拍照装置进入到拍摄状态时,控制系统发出指令,使得外部电源对第一线圈32通入电流,使得第一活动臂2被推动并暴露出透光孔10。当用户指令需要让拍摄状态下的拍照装置进行滤光功能时,控制系统发出指令,使得外部电源对第二线圈42中通入电流,使得第二活动臂3被推动并覆盖透光孔10。当用户指令需要结束拍摄状态时,控制系统发出指令,使得外部电源对第一线圈32、第二线圈42中都不通入电流,使得第一活动臂2被吸附到第一位置、第二活动臂3被吸附到第三位置。

请继续参见图5,在一个实施方式中,基座1上还设置有第一限位件5a以及第二限位件5b。当第一活动臂2被吸引回第一位置时,第一限位件5a与第一活动臂2的一部分相接触,并限制第一活动臂2围绕转动中心、向远离第二位置的方向继续转动。当第一活动臂2被推动至第二位置时,第二限位件5b与第一活动臂2的一部分相接触,并限制第一活动臂2围绕转动中心、向远离所述第一位置的方向继续转动。从而在第一活动臂2与第一限位件5a、第二限位件5b的配合作用下,对第一活动臂2的转动起到限位作用。在一个实施方式中,第一限位件5a、第二限位件5b是设置在基座1上的凸台。

在一个实施方式中,基座1上还设置有第三限位件6a以及第四限位件6b,当第二活动臂3被吸回至第三位置时,第三限位件6a与第二活动臂3的一部分相接触,并限制第二活动臂3围绕转动中心向远离第四位置的方向继续转动。当第二活动臂3被推动至第四位置时,第四限位件6b与第二活动臂3的一部分相接触,并限制第二活动臂3围绕转动中心向远离第三位置的方向继续转动。从而在第二活动臂3与第三限位件6a、第四限位件6b的配合作用下,对第二活动臂3的转动起到限位作用。在一个实施方式中,第三限位件6a、第四限位件6b是设置在基座1上的凸台。

请继续参见图4,在一个实施方式中,第一活动臂2、第二活动臂3分别设置在基座1的两侧,且第一活动臂2与基座1的连接处、第二活动臂3与基座1的连接处分别处于基座1的对角,从而在转动时,第一活动臂2与第二活动臂3之间不会产生干扰,且进一步节省了驱动装置内的空间。

请结合参见图4至图6,驱动装置的一个实施方式中,在基座1上还设置有凸柱7,第一活动臂2、第二活动臂3与基座1的连接端还设置有孔,第一活动臂2、第二活动臂3通过孔与凸柱7的配合可转动地设置在基座1上。在一个实施方式中,第一活动臂2、第二活动臂3与凸柱7连接处还设置有轴环8,从而使得第一活动臂2、第二活动臂3在基座1上的转动更加平顺,不易出现卡顿现象。

在照相装置的一个实施方式中,前述照相装置是设置在如笔记本电脑、手机等电子装置内。

本实用新型虽然以较佳实施例公开如上,但其并不是用来限定本实用新型,任何本领域技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内,都可以做出可能的变动和修改。因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何修改、等同变化及修饰,均落入本实用新型权利要求所界定的保护范围之内。

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