真空处理装置的制作方法

专利名称：真空处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种真空处理装置，并且更具体地是涉及一种用于在基板，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃、用于半导体装置的晶圆 等上应用真空操作，例如蚀刻、沉积等等的真空处理装置。
背景技术：
真空处理装置适用于通过使用物理反应或者化学反应，例如真空状 态下的等离子体而蚀刻或者沉积基板，例如用于LCD面板的玻璃、用于 半导体装置的晶圓等。真空处理装置通常包括上壳体及下壳体，彼此可分离地连接，并且 形成处理空间。上壳体和下壳体需要被设置而开启和关闭，以便于真空处理装置的 修复处理或者保护处理。图1是示出了根据现有技术的具有可开启上壳体的真空处理装置的 透视图。参照图1,在用于处理小面积的基板的真空处理装置中，上壳体3通 过使用铰链5和气缸7而从/至腔体l开启和关闭。然而，因为完全地开 启上壳体3是困难的，所以腔体l内部的任意模块并不容易替换为新的。此外，当被处理的基板是较大的时，为了开启上壳体，并且修补或 替换安装在腔体中的模块(未示出)，由于上壳体及模块的沉重的重量， 升降设备等将被使用。此处，由于上壳体3并未完全地开启，模块并没 有被升降设备支撑。通过增加图1中的真空处理装置的尺寸180°完全打开上壳体3是可能的。然而，增加了开启和关闭装置的尺寸，并且，上壳体的开启状态 不稳定。图2是示出了根据现有技术的另一实施例的真空处理装置的透视图。在韩国公开专利Laid-Open No. 10-2001-0067439中公开的真空处理 装置中，上壳体13从腔体11通过旋转和提升单元15以特定高度开启。 然后，上壳体13通过移动单元17向上移动至可转动的位置。旋转和提 升单元15通过旋转上壳体13而开启和关闭上壳体13。然而，由于开启和关闭装置的旋转和提升单元及水平方向的移动单 元构成一个组件，整个结构是复杂的，并且安装过程也是复杂的。此外，在用于真空处理装置的开启和关闭装置中，上壳体13从腔体 11开启，因而水平地移动。因此，开启和关闭过程是复杂的，并且花费 了大量的时间以从/至腔体11开启和关闭上壳体，从而需要大量的时间以 修复真空处理装置。由于该真空处理装置具有较大的尺寸，用于腔体的真空压力增大， 由此造成腔体具有更厚的厚度。因此，腔体的上壳体的重量也增加。当上壳体在没有平衡状态的情况下移动时，上壳体的重量造成机械 缺陷，例如磨损开启和关闭装置。因此，真空处理装置不得不频繁地修 复。发明内容因此，本发明的目的是提供能够通过无需顺序提升和水平移动过程 的简单结构而从下壳体分离上壳体的真空处理装置。本发明的另一个目的是提供能够通过单个移动而从下壳体分离上壳 体的真空处理装置。本发明的另一个目的是提供真空处理装置，其能够精确地和稳定地 从下壳体分离上壳体，并且然后移动上壳体。为了实现这些和其他的优点，并且根据本发明的目的，如此处具体 和广泛地描述，提供了真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，用于与下壳体可分离地 连接或者分离上壳体，通过相对于下壳体，沿水平的方向倾斜地移动。分离单元包括 一对导向单元，设置在下壳体的相对侧，该导向单 元具有导向槽，相对于下壳体的水平面是倾斜的；以及移动模块，用于 支撑上壳体，该移动模块连接于导向单元，所以上壳体可以沿着导向槽 移动。导向单元可以连接于下壳体的每一侧，或者可以通过支撑框架而 被支撑。移动模块可以包括一对下支撑单元，连接于导向单元并且沿着导向 槽移动； 一对上支撑单元连接于上壳体的侧面，用于支撑上壳体，并且 连接于下支撑单元；以及线性驱动单元，用于沿着导向槽移动下支撑单 元。上支撑单元可以包括转动单元，用于转动上壳体。线性驱动单元可以包括齿条部分，形成于导向单元；转动电机，连 接于上支撑单元；以及小齿轮部分，连接于转动电机的转动轴，并且连 接于齿条部分。下支撑单元可以包括支撑构件，用于支撑上支撑单元；以及导向块， 连接于支撑构件，并且沿着形成在导向单元处的导向槽移动。导向单元可以包括第一导向单元，对应于侧面长度而连接于下壳体； 以及第二导向单元，可转动地连接于第一导向单元的端部，可折叠至下 壳体的侧面，并且形成导向槽。
同时，分离单元可以包括一对导向单元，分别地设置在下壳体的相对侧，并且具有至少三个斜面；以及移动模块，具有挡块，分别地设置 在斜面处，并且以上壳体和下壳体彼此连接的状态而沿倾斜面移动。导向单元可以包括第一导轨，具有第一斜面；以及一对第二导轨， 平行的设置在第一导轨两侧，并且具有第二斜面，而没有与第一斜面重叠。移动模块可以包括一个或多个第一辊子，当上壳体和下壳体彼此连 接时，设置在第一斜面上，并且沿着第一导轨移动； 一个或多个第二辊 子，当上壳体和下壳体彼此连接时，设置在第二斜面上，并且沿着第二 导轨移动；以及支架，用于可转动地将第一辊子以及第二辊子连接至上 支撑单元的下表面。另外，分离单元可以包括导向单元，其包括第一导轨，具有第一斜 面和第二斜面，这其间具有间隙，以及第二导轨，与第一导轨平行的设 置，并且具有第一斜面和第二斜面，这其间具有间隙；以及移动模块， 包括第一辊子单元和第二辊子单元，每一个均具有一对辊子，可移动地 沿着第 一导轨和第二导轨设置，并且当上壳体和下壳体对应于第 一导轨 和第二导轨而彼此连接时，每一个设置在第一和第二斜面上。根据本发明的另一方面，提供真空处理装置，包括上壳体和下壳 体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，具有凸轮单 元，用于通过转动而将上壳体与下壳体可分离地连接或分离。分离单元可以包括一对挡块(block),连接于上壳体的对应侧，用于 支撑上壳体，并且凸轮单元可以包括一个或多个凸轮件，可转动地设置 在各自的挡块处，通过由一对设置在下壳体的相对侧处的支撑单元而支 撑的转动，用于将上壳体与下壳体可分离地连接或分离；以及凸轮转动 单元，用于转动凸轮件。 另外，分离单元可以包括一对导向单元，构成设置在下壳体的相对侧处的一对支撑单元，以支撑凸轮件，用于水平地移动挡块；以及线性 驱动模块，包括水平的驱动单元，其沿着导向单元移动挡块。 所述一对挡块可以可转动地支撑上壳体。凸轮件可以包括一个或多个辊子，通过被导向单元支撑而转动；以 及凸轮成型部，偏轴地连接于辊子的转动轴，并且可转动地连接于挡块。凸轮件可以包括支撑轴，连接于挡块；以及凸轮成型部，连接于支 撑轴，并且形成凸轮。线性移动模块可以进一步包括支撑块(supportingblock),通过导向单 元支撑，并且设置在导向单元和挡块之间，用于支撑该挡块。支撑单元可以固定于下壳体的每侧，并且挡块可以实现为一对导向 单元，用于水平地移动支撑块。分离单元可以包括 一对支撑块，设置在上壳体的相对侧，用于支 撑上壳体，并且沿着挡块移动；以及水平的驱动单元，用于沿着导向单 元移动支撑块。导向单元可以包括第一导向单元，设置在下壳体的侧面，用于通 过凸轮件的转动可以上下移动；以及第二导向单元，当第一导向单元通 过凸轮件的转动而向上地移动时，在一定高度上(height implemented) 连接于第一导向单元。当结合附图时，本发明的前述和其它目的、特征、方面和优点从本 发明的下述详细的描述中将变得更加显而易见。


附图，包括提供对本发明的进一步的理解，并且结合和构成说明书 的一部分，解释本发明的实施例，并且与描述一起用于解释本发明的原 理。在附图中图1是根据现有技术的具有可开启上壳体的真空处理装置的透视图；图2是根据现有技术的另一实施例的真空处理装置的透视图；图3是才艮据本发明的第一实施例的真空处理装置的透视图；图4是图3的真空处理装置的平面视图；图5是图3的真空处理装置的剖视图；图6是图3的真空处理装置的侧视图；图7是图3的真空处理装置的透视图；图8A和图8B是示出了用于开启和关闭图7的真空处理装置的过程 的视图；图9A是根据本发明的第二实施例的真空处理装置的透视图； 图9B是图9A的真空处理装置的平面视图； 图IOA是图9A的真空处理装置的透视图；图IOB是示出了图IOA的真空处理装置的上壳体处于被移开的状态 的透S见图；图11是图IOA的真空处理装置的分离单元的透视图； 图12是图IOA的真空处理装置的分离单元的导向单元的透视图； 图13A是图IOA的真空处理装置的分离单元的辊子挡块的透视图； 图13B是图13A的辊子挡块的正视图；图14A至图14C示出了图IOA的分离单元的辊子挡块的移动状态的 侧视图；图14D示出了通过密封件的压缩的图IOA的辊子挡块的微小移动状 态的侧;f见图；图15是才艮据一个修改的示例的图11的分离单元的侧视图； 图16是根据另一个修改的示例的图11的分离单元的侧视图； 图17A至图17B示出了图16的分离单元的辊子挡块的移动状态的 侧视图；图18A是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体和下壳体彼此相连接的状态；图18B是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体与下壳体分离的状态；图19是图18A的真空处理装置的分离单元的透视图；图20是图18A的真空处理装置的凸轮单元的局部剖视图；图21A和图21B是示出了用于开启和关闭的图18A的真空处理装置的过程的视图；图22A至图22C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关 闭图18A的真空处理装置的过程的视图；图23A至图23C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关 闭图18A的真空处理装置的过程的视图；图24A至图24C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关 闭图18A的真空处理装置的过程的视图。
具体实施方式
以下将参照附图中描述的示例，详细描述本发明的优选实施例。图3是根据本发明的第一实施例的真空处理装置的透视图，而图4 是图3的真空处理装置的平面视图。参照图3和图4,至少一个根据本发明的第一实施例的真空处理装置 200可以作为多复室系统而实现，进一步包括传递腔室120及连接于传递 腔室120的负荷锁定腔室130。每一个真空处理装置200可以包括上壳体210和下壳体220,彼此可 分离地的连接，以形成操作空间。用于基板的真空处理，在减压情况下 的操作空间中执行例如蚀刻或者沉积。提供有排气系统的真空处理装置200包括泵，使操作空间、排放管 等减压；气体供给系统，用于供给气体，以在操作空间中实现真空操作； 电源系统用于形成等离子及其他。并且方便起见，省略了详细描述。同时，上壳体210和下壳体220需要彼此分离，以致于容易地修复 或保养真空处理装置200。图5是图3的真空处理装置的剖视图，图6是图3的真空处理装置 的侧视图，而图7是图3的真空处理装置的透视图。如图3至图7所示，根据本发明的第一实施例的真空处理装置200 包括分离单元300,用于通过沿着水平方向，使上壳体210相对于下壳体 220倾斜地移动而使上壳体210与下壳体220可分离地连接或分离。上壳体210和下壳体220 4皮此可分离地连接，因而形成用于真空操 作的操作空间。下壳体220可以通过设置在其下的支撑框架410而支撑。 用于密封操作空间的密封件230设置在上壳体210和下壳体220的至少 一个^姿触面处。开启部分(未示出)，用于将基板放入或取出操作空间，形成于传递 腔室120和真空处理装置200之间的连接部。用于支撑基板的基板支撑 板240设置在通过支撑件241而被支撑的下壳体220的下表面。参照图5,附图标记250标记出用于排出操作空间中的气体的排气系 统，260标记出用于向操作空间供给操作气体的气体供给管，并且270标 记出用于在操作空间中形成等离子体的外部电源。上壳体210和下壳体220具有有内部空间的容器结构。然而，上壳 体210可以作为板状件而实现。如图5和图6中所示，分离单元300可以包括 一对导向单元310，
设置在下壳体220的相对侧处，并且具有导向槽312,与下壳体的水平面 是倾斜的；以及移动模块320，用于支撑上壳体210，移动模块320连接 于导向单元310,从而上壳体210可以沿着导向槽312移动。导向单元310包括一对导向件311,设置在下壳体220的相对侧处。 导向件311可以具有连同移动模块210的下支撑单元321不同的结构。 如图7中所示，导向单元310可以固定于下壳体220的侧壁，或者可以 被安装以通过支撑结构410而被支撑。一对导向单元310 ^L置在下壳体220的对应侧处。为了减少用于真 空处理装置的安装空间，在具有开启部(未示出)的下壳体220的侧面 处，导向单元310被优选地设置，其中基板被放入/拿出操作空间，并且 在侧表面的相对侧处，具有开启部。此处，导向单元310连接于具有开启部的下壳体220的侧面，与开 启部具有确定的间隙，用于安装或修复用于开启和关闭开启部的闸阀。 同样，导向单元310设置在具有开启部的下壳体的侧面处，考虑到与开 启部的干涉，安装在上壳体210的上侧面或接近上侧面。如图5中所示，导向件311可以具有"U，，形横截面，因而导槽312可 以沿着纵向形成。导槽312被形成以与下壳体220的水平面倾斜。此处， 移动模块的下支撑单元321插入到导槽312,因而沿着导槽312移动。导向单元310可以包括第一导向单元，连接于下壳体220，而与下壳 体220的侧面长度相对应；以及第二导向单元，可转动地连接于第一导 向单元的端部，被可折叠于下壳体220的侧面，并且形成导槽312。由于 导向单元310被构为可折叠，由导线单元310占用的空间减少以提高对 于真空处理装置200的空间利用率。第一导向单元和第二导向单元可以被设置，以彼此是可分离的并且其中至少一个是可上下移动的。第二导向单元可以通过支撑框架410而
被支撑，可上下移动。第二导向单元可以被构成为，在上壳体210转动 之后向下地移动，从而上壳体210能够被容易地修补。如图7中所示，移动模块320可以包括一对下支撑单元321,连接于 导向单元310,并且沿着导槽312移动； 一对上支撑单元322，连接于上 壳体210的侧面，用于支撑上壳体210，并且连接于下支撑单元321;以 及线性驱动单元323，用于沿着导槽312移动下支撑单元321。下支撑单元321可以包括一个或多个用于支撑上支撑单元322的支 撑件321b;以及导向挡块321a,连接于支撑件321b，并且沿着形成在导 向单元310处的导槽312移动。支撑件321b被构成为一个或多个，在其一端连接于导向挡块321a 的状态下支撑上支撑单元322。 一对支撑件321b设置在上壳体210的一 侧处。支撑件321b可以进一步包括高度控制器(未示出)，用于控制支 撑件的每一个高度，从而上壳体可以保持水平的状态。高度控制器作为 液压缸或气缸而实现，并且通过控制支撑件321b的每一个高度而移动上 壳体210而保持上壳体210的水平的状态。导向单元310可以被设置，从而只有导槽312的一部分能够与下壳 体220的水平面是倾斜的。此处，由于该斜面，下壳体220的倾斜状态 被高度控制器阻止。同时，上支撑单元322可以包括支撑体322a,被支撑件321b支撑， 并且通过转动轴211而连接于上壳体210的相对侧；以及转动单元322b, 设置在支撑体322a处，并且转动上壳体210。支撑体322a通过转动轴211而连接于上壳体210,从而上壳体210 是可转动的。转动单元322b作为电机而实现，其设置在用于通过旋转转 动轴211而转动上壳体210的转动轴211的至少一端处。同时，线性驱动单元323被设置，以沿着导槽312而完全地移动移 动模块320，并且可以具有不同的修改。线性驱动单元323可以包括齿条 部323a，形成或安装在导向单元310处；电力或液压性转动电机连接于 上支撑单元322;以及小齿4仑部323c，连接于转动电机323b的转动轴， 并且连接于齿条部323a。液压驱动装置可以作为线性驱动单元323而使 用。尽管未示出，用于啮合移动模块320的下支撑单元321的多个齿轮 凹槽可以沿纵向的方向在导槽312处形成。此处，下支撑单元321可以提供有可转动的齿轮部(未示出)，以及 用于转动齿4仑部的驱动单元。这样，导向单元310及下支撑单元321用 作移动模块320的线性驱动单元323。导向单元310及下支撑单元321被设置，从而下支撑单元321可以 沿着导槽312移动，并且因此上壳体210可以移动并且与下壳体220分 离。同时，如图3和图4中所示，导向单元310和分离单元300的移动 模块320可以沿着与上壳体210连接于传递腔室120的方向垂直的方向 而安装，因此减少真空处理装置占用的空间。用于开启和关闭真空处理装置的操作将参照图8A和图8B而被说明。当上壳体210与真空处理装置200的下壳体220分离，操作空间被 控制以具有真空压力的气压。然后，移动模块320的线性驱动单元323启动以被操作，并且下支 撑单元321启动以沿着导向单元310的导槽312移动，沿着与下壳体220 的水平面倾斜的方向平行的方向。随着下支撑单元321移动，通过被移动模块320支撑的上壳体210 通过如图8A中所示的单个移动而与下壳体220分离。
一旦上壳体210如图8B中所示移动而与下壳体220分离，上支撑单 元322的转动单元322b以特定角度转动，由此通过替换或修补内置模块 而执行维修或修复操作。在完成上壳体210的维修或修复操作之后，上壳体210连接于下壳 体220。此处，该连接通过转动和移动上壳体210而实现，以图8B至图 8A的顺序。本发明的分离单元用于通过单个移动将上壳体与下壳体分离，并且 可以具有各种不同的修改。在下文中，将描述具有根据第二实施例的修 改的分离单元的真空处理装置。第二实施例在分离单元方面与第一实施例是不同的，因而除了分离 单元，具有与第一实施例相同的附图标记和术语。图9A是根据本发明的第二实施例的真空处理装置的透视图，图10A 是图9A的真空处理装置的透视图，图IOB是示出了图IOA的真空处理 装置的上壳体处于被移开的状态的透视图，图11是图IOA的真空处理装 置的分离单元的透^L图，图12是图IOA的真空处理装置的分离单元的导 向单元的透视图，图13A是图IOA的真空处理装置的分离单元的辊子挡 块的透-见图，图13B是图13A的辊子挡块的正视图，图14A至图14C是 示出了图10A的分离单元的辊子挡块的移动状态的侧视图，以及图14D 是示出了通过密封件的压缩的图10A的辊子挡块的微小移动状态的侧视 图。如图9A至图14D中所示，根据本发明的第二实施例的分离单元800 可以包括 一对导向单元810,设置在下壳体220的相对侧；以及移动模 块820，连接于导向单元810，从而上壳体210可以沿着导向单元810移 动，以与下壳体220相分离。导向单元810设置在下壳体220的相对侧处。为了减少用于真空处
理装置的安装空间，在具有开启部109的下壳体220的侧面处，导向单 元810^皮优选地设置，其中基板被放入/拿出操作空间，并且在相对侧处， 设置于具有开启部109的侧面。
此处，导向单元810连接于具有开启部109的下壳体220的侧面， 与开启部109具有确定的间隙，以致于安装或修复用于开启和关闭开启 部109的闸阀。同样，导向单元810设置在具有开启部109的下壳体220 的侧面处，考虑到与开启部109的干涉，安装在上壳体210的上侧面或 接近上侧面。
导向单元810可以包括第一导轨811，具有第一斜面811a，以及第二 斜面811b,沿纵向方向〗皮此间隔；以及第二导轨812，与第一导轨811 平行设置，并且具有第一斜面812a和第二斜面812b,沿纵向方向彼此间隔。
第一导轨811及第二导轨812可以彼此单独的形成，或者彼此整体 的形成。第一导轨811的第一和第二斜面811a和811b形成以没有彼此重 叠的偏离第二导轨812的第一和第二斜面812a和812b。第一导轨811和 第二导轨812被形成，从而只有其中的第一和第二斜面811a、 811b、 812a 和812b与上壳体210的水平面是倾斜的，并且其它的可以是平面。
第一导轨811和第二导轨812可以连接于下壳体220的侧壁，或者 可以;故安装，以致于被支撑框架410支撑。开启部109通过基板一皮放入/ 拿出操作空间，而设置在第一和第二导轨811和812之下，以阻止与基 板干涉。
线性驱动单元823的齿条部823a沿着纵向方向设置在第一和第二导 轨811和812的每一个侧面或者每一个上表面处。
移动模块820可以包括一对上支撑单元822，可转动地连接于上壳体 210的侧面，以支撑上壳体210;辊子挡块830设置在上支撑单元822的
每一个下表面处，并且沿着导向单元810是可移动的；以及线性驱动单 元823，用于沿着导向单元810移动辊子挡块830。
上支撑单元822可以包括支撑体822a，通过转动轴211而连接于上 壳体210的两侧；以及转动单元822b,设置在支撑体822a处，并且转动 上壳体210。
辊子挡块830可以包括第一辊子单元831以及第二辊子单元832，分 别地沿着导向单元810的第一导轨811和第二导轨812移动，其中导向 单元810连4妾于上支撑单元822的下表面，其间具有间隙。
第一辊子单元831可以包括一对辊子831a和832a，当上壳体210和 下壳体220 4皮此相互连接并且沿着第一和第二导轨811和812移动时， 分别地i殳置在第一^l"面811a和812a处；以及支架833，用于可转动地将 辊子831a和832a连接至上支撑单元822的下表面。
第二辊子单元832可以包括一对辊子831b和832b，当上壳体210和 下壳体220 ;f皮此相互连接并且沿着第一和第二导轨811和812移动时， 分别地i殳置在第二斜面811b和812b处；以及支架833,用于可转动地将 辊子83 lb和832b连接至上支撑单元822的下表面。
由于辊子挡块830需要以水平的状态支撑上壳体210，用于支撑辊子 挡块830的第一导專九811的第一和第二斜面811a和811b优选地设置在第 二导轨812的第一和第二斜面812a和812b之间或外侧。
如图11中所示，线性驱动单元823可以被设置以完全地沿着导向单 元810移动4莫块820。线性驱动单元823可以包括齿条部823a，设置在 导向单元810的一侧处；转动电机823b连接于上支撑单元822;以及小 齿轮部823c,连4妄于转动电机823b的转动轴，并且齿轮连接于齿条部 823a。由于小齿4仑部823c随着上壳体210的移动而向上地移动一点，齿 条部823a和小齿轮部823c优选地以充分的高度设置。
在与第一实施例相同的方式中，液压驱动装置可以作为线性驱动单
元823而<吏用。
才艮据本发明第二实施例的真空处理装置中的用于将上壳体210与下 壳体220分离的操作将被描述。
首先，线性驱动装置823连接于上支撑单元821被操作，由此沿着 导向单元810的纵向方向移动上支撑单元821。
随着上支撑单元821的移动，第一和第二辊子单元831和832连接 于分别地如图10A和10B以及图14A至图14C中所示沿着第一和第二导 轨811和812移动的上支撑单元821。
此处，第一和第二辊子单元831和832的辊子831a、 832a、 831b及 832b分别地沿着第一斜面811a和812a以及第二斜面811b和812b移动， 然后沿着下壳体220的平面移动至上壳体210的转动位置。
此处，辊子831a、 832a、 831b及832b中的一些越过第二斜面811b 和812b之上，以被其它辊子的支撑的非接触状态。
在根据本发明的真空处理装置中，操作空间需要被减压至用于真空 操作的真空压力。上壳体210及下壳体220彼此相互连接，处于密封件 230插入到其中的状态之下。当操作空间被减压至真空压力，压力被施 加于上壳体210和下壳体220的外侧，通过大气压。如图14D中所示， 通过向下地，极;微地移动，上壳体210需要粘附于下壳体220，使得在操 作空间中形成真空压力。
分离单元800可以进一步设置有闭合单元880，用于向下地闭合上壳 体210至下壳体220，而没有水平地移动。
闭合单元880可以不同方式实施，从而上壳体210可以向下地并且 极微地移动以压缩密封件230,并且闭合至下壳体220,当真空压力形成 在操作空间中时。如图13A和图13B中所示，闭合单元880包括一个或
多个导向槽881,沿着导向单元810的纵向的方向设置在第一和第二辊子 单元831和832上；以及一个或多个导向件882，用于可移动地连接支撑 体822a和导向槽811。
如图14中所示，导向件882设置在导向槽881处，以沿着导向槽881 是可移动的，从而上壳体210能够通过向下地并且极微地移动而闭合至 下壳体220。
为了防止真空压力于操作空间中形成之前，上壳体210相对于第一 和第二辊子单元831和832移动，闭合单元880可以被设置，从而第一 和第二辊子单元831和832能够保持固定于支撑体822a的状态，从而导 向件882能够通过液压装置等沿着导向槽881极微地移动。
分离单元800的特征在于其中的导向单元具有至少一个斜面。分离 单元800的导向单元和移动模块彼此不同地连接，这对于本领域技术人 员而言是显而易见的。
如图16中所示，分离单元800的导向单元810可以被设置，具有三 个或更多个斜面85la、 85lb和85lc。辊子挡块830可以由辊子861a、 861b 和861c构成，其中辊子通过导向单元810的斜面851a、 851b和851c支 撑而移动。斜面851a、 851b和851c可以^皮形成，使得具有一个或多个 通道。优选地，斜面851a、 851b和851c沿着纵向的方向连续地形成， 在其间具有不同的间隙。
当名+面851a、 851b和851c及辊子861a、 861b和861c以三个或更多 个分别地实施时，如果挡块861a、 861b和861c之一穿过斜面中的一个， 剩余的两个挡块支撑上壳体210。因此，上壳体210能够被稳定地移动。 (参见图15中的①、②、③)。
如图16至图17B中所示，分离单元800的导向单元910可以包括第 一导轨951,具有第一斜面951a;以及一对第二导轨952,设置在与第一
导轨951平行的相对侧，并且每一个具有第二斜面952a，并没有与第一 在+面951a重叠。
移动模块的辊子挡块可以包括一个或多个第一辊子931,当上壳体 210和下壳体220彼此连接，并且沿着第一导轨951移动时，设置在第一 斜面951a处； 一个或多个第二辊子932,当上壳体210和下壳体220彼 此连接，并且沿着第二导轨952移动时，设置在第二斜面952a处；以及 支架933，用于可转动地将第一辊子931和第二辊子932连接至上支撑单 元822的下表面。
分离单元800如图18A至图18B操作时，由此将上壳体210与下壳 体220分离。
上壳体210和下壳体220需要彼此分离，用于修复本发明的真空处 理装置200。考虑到从下壳体220分离时其中的重量，上壳体210需要更 精确地支撑并且上下移动。
图18A是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示 出了上壳体和下壳体彼此相连接的状态，图18B是根据本发明的第三实 施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体与下壳体分离的状态， 图19是图18A的真空处理装置的分离单元的透视图，图20是图18A的 真空处理装置的凸轮单元的局部剖视图，图21A和图21B是示出了用于 开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图，图22A至图22C是示 出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置 的过程的视图，图23A至图23C是示出了根据本发明的另一实施例的用 于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图，图24A至图24C是 示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装 置的过程的;f见图。
如图18A至图20中所示，根据本发明的第三实施例的真空处理装置
300可以包括分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动上壳体210,将上 壳体210与下壳体220可分离地连接或分离。分离单元被设置，从而真空处理装置能够容易地维修或修复，在上 壳体210与下壳体220分离，然后移动至预设位置之后。分离单元可以被设置，从而支撑上壳体210，并且可以被设置具有用 于转动上壳体210的转动单元770。分离单元可以包括一个或多个挡块731，连接于上壳体210的相对侧， 用于可转动地支撑上壳体210。凸轮单元可以包括一个或多个凸轮件751,可转动地设置在各自的挡 块731处，用于通过由一对设置在上壳体210相对侧的支撑单元而支撑 的转动，将上壳体210与下壳体220可分离地连接或分离；以及凸轮转 动部752，用于转动凸轮件751。如图19至20中所示，凸轮转动单元752可以包括转动杆752a, 固定地连接于凸轮件751的转动单元或凸轮轴，用于转动凸轮件751;以 及驱动单元752b,连接于转动杆752a,用于转动定心在凸轮轴的转动杆 752a。分离单元需要设置有线性移动模块，用于水平地移动上壳体210。线 性移动模块可以包括一对导向单元710,设置在下壳体220的相对侧，由 此构成支撑凸轮件751的支撑单元，用于水平地移动挡块731;以及线性 驱动单元720，用于沿着导向单元710移动挡块731。导向单元710直接地连接于下壳体220的相对侧，或者由额外的支 撑件支撑，并且支撑/导向凸轮件751。导向单元710可以在支撑凸轮件751的一个或多个表面上设置有一 个或多个斜面，从而凸轮件751能够倾斜地移动，以上下移动上壳体210。随着凸轮件751沿垂直方向在不同位置移动，斜面用于相对于下壳
体220移动上壳体210。优选地，当上壳体210和下壳体220彼此相互连 接时，斜面设于凸轮件751的设置处。线性驱动单元720用于沿着导向单元710移动挡块731,并且可以不 同地设置。如图所示，线性驱动单元720可以通过将齿条部和小齿轮部 彼此相互连接而设置。凸轮件751用于通过转动将上壳体210与下壳体220可分离地连接 或分离，并且可以具有不同的结构。如图20至图21B中所示，凸轮件751可以包括一个或多个辊子761, 通过由导向单元710支撑而转动；凸轮成形部751a偏轴地连接于辊子761 的转动轴762,并且通过可转动地连接于挡块731而形成凸轮轴。如图22A至图22C中所示，凸轮件753可以包括支撑轴753b,连接 于挡块731;以及凸轮成形部753a，连接于支撑轴753b,并且形成凸轮。 此处凸轮成形部753a可以在导向单元710上滑行地移动。如图23A至图23C所示，线性驱动模块可以进一步包括支撑块780， 由导向单元710支撑，并且设置在导向单元710和挡块731之间，用于 支撑挡块731。支撑块780可以包括挡块体781，用于支撑挡块731;以及一个或多 个辊子782，通过转动沿着导向单元710移动。同时，图23A至图23C中所示的挡块和支撑块的位置可以替换。如 图24A至24C中所示，凸轮件753可以通过支撑单元713支撑，设置在 下壳体220的两侧。同样，挡块可以用作导向单元710，设置在下壳体 220的两侧，用于移动支撑块781。导向单元710可以被设置，从而第一导向单元711和第二导向单元 712能够彼此相分离。第一导向单元711设置在下壳体220的侧面处，以 使得通过凸轮件753的转动而上下移动。同样，第二导向单元712可以 连接于第一导向单元711，以一定高度实施，当第一导向单元711通过凸 轮件753的转动而向上地移动时。根据本发明的真空处理装置的操作将被描述。如图21A、 22A、 23A和24A中所示，上壳体210移动以与下壳体 220间隔。如图18B所示，上壳体210移动至预设位置或者通过转动单 元770以90。或180。转动，由此执行修复或维修操作。当上壳体210闭合于下壳体220时，凸轮件751和753如图21B、 22B、 22C、 23B、 23C、 24B和24C中所示而转动。更具体地，当凸轮件751和753连接于沿第一方向转动的挡块731 时，上壳体210和导向单元710之间的距离减少，并且挡块731向上壳 体220移动。因此，连接于挡块731的上壳体210移动以邻接下壳体220， 由此密封地连接于下壳体220。相反，当上壳体210与下壳体220分离时，连接于挡块731的凸轮 件751和753沿着第二方向转动。因此，上壳体210和导向单元710之 间的距离增加，并且挡块731移动以与下壳体220间隔。因此，连接于 挡块731的上壳体210与下壳体220分离。一旦上壳体210通过凸轮单元与下壳体220相分离，分离单元通过 线性驱动单元720将上壳体210移动至预设位置。同时，由于真空处理装置的操作空间内的压力从大气压减少到真空 压力，或者从真空压力增加到大气压，设置在上壳体210和下壳体220 之间的密封件膨胀或压缩。上壳体210需要相对于下壳体220需要极微 地移动。此处，凸轮件751和753极微地转动，从而上壳体210能够通过密 封件的膨胀量或压缩量而移动。优选地，上壳体210被设置，当极微地 移动时，不会与下壳体不对齐。
本发明的真空处理装置并不需要一个由用于转动、提升以及水平地 移动上壳体使得从下壳体分离上壳体的装置构成的组件。因此，真空处 理装置的整个结构被简化。当真空处理装置被修补时，上壳体仅仅通过单个移动与下壳体相分 离。因此，用于从下壳体分离上壳体的操作被简化。前述实施例和优点仅仅是典型地并且并不解释为限制本发明。本说 明能够容易地应用于装置的其它类型。该说明用于解释，而不用于限制 权利要求的范围。对于本领域技术人员而言，多种替换方法，修改及变 化将是显而易见的。这里描述的典型实施例的特征、结构、方法以及其 它特征可以以多种方式结合，以获得另外的和/或替换的典型实施例。本发明的特点可以表现为几种形式，而没有与其中的特征相分离， 也可以理解为上述实施例并不由前述说明的任意细节所限制，除非另有 说明，但应当广泛地解释为在附属权利要求限制的范围之内，并且由此 所有的变化和修改属于权利要求的界限和范围，或者这些界限和范围的 等同物，所以被确定为被附属权利要求所包含。
权利要求
1. 一种真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及 分离单元，用于通过相对于所述下壳体，沿水平的方向倾斜地移动 所述上壳体，将所述上壳体与所述下壳体可分离地连接或者分离。
2. 根据权利要求1所述的装置，其中，所述分离单元包括一对导向单元，设置在所述下壳体的相对侧，并且具有相对于所述 下壳体的水平面是倾斜的导向槽；以及移动模块，连接于所述导向单元，从而所述上壳体可以沿着所述导 向槽移动，用于支撑所述上壳体。
3. 根据权利要求2所述的装置，其中，所述导向单元连接于所述下壳体 的每一侧，或者通过支撑框架而被支撑。
4. 根据权利要求2或3所述的装置，其中，所述移动模块包括一对下支撑单元，连接于所述导向单元并且沿着所述导向槽移动； 一对上支撑单元连接于所述上壳体的侧面，支撑所述上壳体，并且 连接于所述下支撑单元；以及线性驱动单元，用于沿着所述导向槽移动所述下支撑单元。
5. 根据权利要求4所述的装置，其中，所述上支撑单元包括转动单元， 用于转动所述上壳体。
6. 根据权利要求4所述的装置，其中，所述线性驱动单元包括齿条部分，位于所述导向单元处； 转动电机，连接于所述上支撑单元；以及小齿轮部分，连接于所述转动电机的转动轴，并且连接于所述齿条 部分。
7. 根据权利要求4所述的装置，其中，所述下支撑单元包括支撑元件，用于支撑所述上支撑单元；以及导向块，连接于所述支撑元件，并且沿着形成在导向单元处的导向 槽移动。
8. 根据权利要求l所述的装置，其中，所述分离单元包括一对导向单元，分别地设置在所述下壳体的相对侧，并且具有至少 三个杀牛面；以及移动模块，具有挡块，分别地设置在斜面处，并且以所述上壳体和 所述下壳体彼此连接的状态而沿着倾斜面移动。
9. 根据权利要求8所述的装置，其中，所述导向单元包括第一导轨，具有第一斜面；以及一对第二导轨，平行的设置在所述第一导轨相对侧，并且具有没有 与所述第一斜面重叠的第二斜面； 其中移动模块包括一个或多个第一辊子，当所述上壳体和所述下壳体彼此连接时，设 置在所述第一斜面上，并且沿着所述第一导轨移动；一个或多个第二辊子，当所述上壳体和所述下壳体彼此连接时，设置在所述第二斜面上，并且沿着所述第二导轨移动；以及支架，用于可转动地将所述第一辊子以及所述第二辊子连接至上支 撑单元的下表面。
10. 根据权利要求1所述的装置，其中，所述分离单元包括 导向单元，包括第一导轨，具有第一斜面和第二斜面，这其间具有间隙，以及第二导轨，与第一导轨平行的设置，并且具有第一斜面和第 二斜面，这其间具有间隙；以及移动模块，包括第一辊子单元和第二辊子单元，每一个均具有一对辊子，可移动地沿着所述第一导轨和所述第二导轨设置，并且当所述上 壳体和所述下壳体对应于所述第 一导轨和所述第二导轨而彼此连接时， 每一个设置在所述第一斜面上。
11. 根据权利要求IO所述的装置，其中，所述第一导轨的所述第一和第 二斜面被形成以偏离所述第二导轨的所述第一和第二斜面，而没有彼此 重叠。
12. 根据权利要求8至IO之一所述的装置，其中所述移动模块包括 一对上支撑单元，可转动地连接于所述上壳体的侧面，支撑所述上壳体；辊子挡块，设置在所述上支撑单元的每一个下表面处，并且沿着所 述导向单元是可移动的；以及线性驱动单元，用于沿着所述导向槽移动所述辊子挡块。
13. 根据权利要求12所述的装置，其中，所述上支撑单元包括支撑体，通过转动轴而连接于所述上壳体的相对侧；以及 转动单元，设置在所述支撑体处，用于转动所述上壳体。
14. 根据权利要求12所述的装置，其中，所述线性驱动单元包括 齿条部分，形成在所述导向单元处；转动电机，连接于所述上支撑单元；以及小齿轮部分，连接于所述转动电机的转动轴，并且连接于所述齿条 部分。
15. 根据权利要求12所述的装置，其中，所述分离单元进一步包括闭合 单元，用于当真空压力在操作空间中形成时，向下地将所述上壳体闭合 至所述下壳体，而没有水平地移动。
16. 根据权利要求15所述的装置，其中，所述闭合单元包括一个或多个导向槽，沿着所述导向单元的纵向的方向设置在所述第 一和第二辊子单元上；以及一个或多个导向件，用于可移动地将所述上支撑单元连接至所述导 向槽。
17. 根据权利要求9或IO所述的装置，其中，所述两个导向单元中的一 个设置在所述下壳体的侧面处，具有开启部，通过放入到操作空间的基 板，并且所述两个导向单元中的另一个设置在所述侧面的相对侧处，具 有开启部。
18. 根据权利要求17所述的装置，其中，所述导向单元设置在具有开口 的所述下壳体的所述侧面处，被定位在开口之上。
19. 一种真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及 分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动而将所述上壳体与所述下 壳体可分离地连接或分离。
20. 根据权利要求19所述的装置，其中，所述分离单元包括 一对挡块，连接于所述上壳体的相对侧，用于支撑所述上壳体，以及其中所述凸轮单元包括一个或多个凸轮件，可转动地设置在各自的所述挡块处，用于通过 由一对设置在所述下壳体的相对侧处的支撑单元而支撑的转动，将所述 上壳体与所述下壳体可分离地连接或分离；以及凸轮转动部，用于转动所述凸轮件。
21. 根据权利要求20所述的装置，其中，所述分离单元包括 一对导向单元，构成设置在所述下壳体的相对侧处的所述支撑单元，以支撑所述凸轮件，用于水平地移动所述挡块；以及线性驱动才莫块，包括沿着所述导向单元移动所述挡块的水平驱动单元。
22. 根据权利要求20或21所述的装置，其中， 一对挡块可旋转地支撑所 述上壳体。
23. 根据权利要求21所述的装置，所述凸轮件包括 一个或多个辊子，通过被所述导向单元支撑而转动；以及 凸轮成型部，偏轴地连接于所述辊子的转动轴，并且可转动地连接于所述挡块。
24. 根据权利要求20或21所述的装置，其中，所述凸轮件包括支撑轴，连接于所述挡块；以及凸專仑成型部，连接于所述支撑轴，并且形成凸轮。
25. 根据权利要求21所述的装置，其中，所述线性移动模块进一步包括 支撑块，通过所述导向单元支撑，并且设置在所述导向单元和所述挡块 之间，用于支撑所述挡块。
26. 根据权利要求20所述的装置，其中，所述支撑单元固定于所述下壳 体的相对侧，并且所述挡块可以实施为一对导向单元，用于水平地移动 支撑块，以及其中分离单元包括一对支撑块，设置在所述上壳体的相对侧，用于支撑所述上壳体， 并且沿着所述挡块移动；以及水平的驱动部分，用于沿着所述导向单元移动所述支撑块。
27. 根据权利要求20所述的装置，其中，所述导向单元包括 第一导向单元，设置在所述下壳体的侧面处，通过所述凸轮件的转动可以上下移动；以及 第二导向单元，当所述第一导向单元通过所述凸轮件的转动而向上 地移动时，在一定高度上连接于所述第一导向单元。
全文摘要
一种真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动，可分离地将上壳体与下壳体相连接。
文档编号C30B25/00GK101121108SQ20071011080
公开日2008年2月13日 申请日期2007年6月8日 优先权日2006年6月8日
发明者安成一, 尹大根, 曹生贤, 朴勇俊, 金娧永 申请人:Ips有限公司