一种一体式拉伸屏蔽罩结构的制作方法

文档序号:8088860阅读:479来源:国知局
一种一体式拉伸屏蔽罩结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型属于屏蔽罩领域,具体涉及一种一体式拉伸屏蔽罩结构,所述的屏蔽罩为拉伸成型式结构,屏蔽罩四边中的相邻边相互连接。本实用新型将屏蔽照上盖和下盖合并,并用拉伸成型,直接用0.15mm厚的材料冲压成型,降低了成本:由原来的两件产品合成一体式,料厚由原来的0.3mm降低到0.15mm;确保了品质:由于拉伸成型,四边紧紧相连,不会因为正常的包装或清洗工序而使产品变形,影响品质;?提高产能:拉伸制程获得的产品的平面度稳定,清洗及包装后不需要人工再做全检,清洗全检每人每小时500PCS,取消此动作后,每小时可生产1000PCS。
【专利说明】一种一体式拉伸屏蔽罩结构

【技术领域】
[0001]本实用新型属于屏蔽罩领域,具体涉及一种一体式拉伸屏蔽罩结构。

【背景技术】
[0002]现有的用于电子产品的屏蔽罩结构由上盖和下盖组成,屏蔽罩料板结构包括底板区和若干折边区,折边与折边并未完全连接在一起,而是各自独立,这样降低了产品的强度,所以现生产的屏蔽照下盖料厚一般均在0.3MM左右,但是仍会因为运输及清洗和包装等后续工序造成平面度不良现象。
实用新型内容
[0003]为解决上述问题,本实用新型提供了一种降低成本、确保平面度、提高产能的一体式拉伸屏蔽罩结构。
[0004]为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案为:一种一体式拉伸屏蔽罩结构,其特征在于:所述的屏蔽罩为拉伸成型式结构,屏蔽罩四边中的相邻边相互连接。
[0005]前述的一种一体式拉伸屏蔽罩结构,其特征在于:所述的屏蔽罩的料厚为
0.15mm,屏蔽罩为一块盖板。其降低了成本,由原来的两件产品(上盖、下盖)合成一体式,料厚由原来的0.3mm降低到0.15mm。
[0006]前述的一种一体式拉伸屏蔽罩结构,其特征在于:所述的屏蔽罩四边中的相邻边之间不设置缺口。由于拉伸成形,四边紧紧相连没有缺口,不会因为正常的包装或清洗工序而使广品变形,影响广品品质。
[0007]前述的一种一体式拉伸屏蔽罩结构,所述的屏蔽罩的四边为冲压成型式结构。
[0008]本实用新型的加工过程为:先在原材料上拉伸成型,屏蔽罩的四边之间无缺口 ;再冲切屏蔽罩四边,去除多余原材料,成型。
[0009]本实用新型采用一体式屏蔽罩,并用拉伸成型,直接用0.15mm厚的材料冲压成型,降低了成本:由原来的两件产品合成一体式,料厚由原来的0.3mm降低到0.15mm ;确保了品质:由于拉伸成型,四边紧紧相连,不会因为正常的包装或清洗工序而使产品变形,影响品质;提高产能:拉伸制程获得的产品的平面度稳定,清洗及包装后不需要人工再做全检,清洗全检每人每小时500PCS,取消此动作后,每小时可生产1000PCS。

【专利附图】

【附图说明】
[0010]图1为现有的屏蔽罩结构图;
[0011]图2为本实用新型的屏蔽罩结构图;
[0012]图3为经加工步骤I)获得的产品结构图;
[0013]图4为经加工步骤2)后获得的产品结构图。

【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。
[0015]根据图1,现有的屏蔽罩由上盖A和下盖B组成,即产品上盖和下盖;上盖A和下盖B四边2为开放式,即各不相连。产品四条边中间均有缺口 I。
[0016]根据图2,本实用新型的屏蔽罩为一体式结构,一体式结构实质为一块盖板,屏蔽罩上部3取代原屏蔽盖上盖A ;在0.15mm料厚的原材料上经拉伸形成相互连接的四边4,采用抽伸成型后无缺口,四周均结合在一起,即四边之间形成封闭式结构5。
[0017]加工过程为:1)先在原材料上拉伸成型,形成拉伸后屏蔽罩结构6 (图3),合为一体的屏蔽罩的的四边之间无缺口,2)再冲切四边成型,形成冲切后屏蔽罩结构7 (图4),该步骤主要为了将图6中方框与屏蔽罩之间的多余的原材料去除。
[0018]上述实施例不以任何形式限制本实用新型,凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案,均落在本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.一种一体式拉伸屏蔽罩结构,其特征在于:所述的屏蔽罩为拉伸成型式结构,屏蔽罩四边中的相邻边相互连接;所述的屏蔽罩的料厚为0.15mm,屏蔽罩为一块盖板;所述的屏蔽罩的四边为冲压成型式结构。
2.根据权利要求1所述的一种一体式拉伸屏蔽罩结构,其特征在于:所述的屏蔽罩四边中的相邻边之间不设置缺口。
【文档编号】H05K9/00GK203942746SQ201320863876
【公开日】2014年11月12日 申请日期:2013年12月26日 优先权日:2013年12月26日
【发明者】陈信孜 申请人:昆山嘉升精密电子工业有限公司
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