技术特征：
1.一种带防污层的光学薄膜，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层、由无机层形成的光学功能层、以及防污层，所述防污层的表面粗糙度ra为2nm以上且15nm以下。2.根据权利要求1所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述光学功能层为防反射层。3.根据权利要求2所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述防反射层交替具有折射率相对较大的高折射率层和折射率相对较小的低折射率层。4.根据权利要求1～3中任一项所述的带防污层的光学薄膜，其中，基材层朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和硬涂层。5.根据权利要求4所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述硬涂层包含金属氧化物微粒。6.根据权利要求5所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述金属氧化物微粒为纳米二氧化硅颗粒。7.根据权利要求4～6中任一项所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述硬涂层的厚度方向的一个面的表面粗糙度ra为0.5nm以上且20nm以下。
技术总结
带防污层的光学薄膜朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层、由无机层形成的光学功能层、以及防污层。防污层的表面粗糙度Ra为2nm以上且15nm以下。上且15nm以下。上且15nm以下。
技术研发人员：宫本幸大 梨木智刚
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：2021.07.13
技术公布日：2023/3/17