红外加热的气溶胶生成元件的制作方法

文档序号:26097824发布日期:2021-07-30 18:08阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于在水烟装置中生成气溶胶的气溶胶生成元件,所述气溶胶生成元件包括:

容纳器,所述容纳器用于接纳气溶胶形成基材;以及

光子装置,所述光子装置被构造成生成ir辐射束;其中

所述气溶胶生成元件被布置成通过将所述ir辐射束引导到所述气溶胶形成基材上来加热所述气溶胶形成基材。

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成元件,其中所述ir辐射束的波长对应于所述气溶胶形成基材的至少一种组分吸收ir辐射的波长。

3.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述ir辐射束的波长范围为800纳米至2300纳米,优选地为1300纳米至2000纳米。

4.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述ir辐射束的直径在1毫米至110毫米、优选地在2毫米至100毫米、并且更优选地在5毫米至80毫米的范围内。

5.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述ir辐射束的功率在0.1瓦至30瓦、优选地在0.5瓦至25瓦、更优选地在1瓦至20瓦、并且更优选地在1瓦至3瓦的范围内。

6.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述ir辐射束的能量密度能够在0.010瓦/平方厘米至30瓦/平方厘米、优选地在0.050瓦/平方厘米至6瓦/平方厘米、并且更优选地在0.100瓦/平方厘米至3瓦/平方厘米的范围内。

7.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述光子装置包括ir激光二极管。

8.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,还包括光学元件,所述光学元件位于所述光子装置与所述容纳器之间并且被构造成操纵所述ir辐射束。

9.根据权利要求8所述的气溶胶生成元件,其中所述光学元件被布置在活动式光学安装件上,用于动态地操纵所述ir辐射束。

10.根据权利要求8或权利要求9所述的气溶胶生成元件,还包括窗,所述窗位于所述光子装置与所述容纳器之间并且对于所述ir辐射束是基本透明的。

11.根据权利要求10所述的气溶胶生成元件,其中所述气溶胶生成元件包括光学元件,并且其中所述窗位于所述光学元件与所述容纳器之间的位置处。

12.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述ir辐射束包括从所述光子装置朝向所述光学元件传播的ir辐射入射束和从所述光学元件向所述容纳器传播的ir辐射反射束,并且其中在所述ir辐射入射束与所述ir辐射反射束之间存在角度,优选地,其中所述角度为约90度,优选地,其中所述光学元件包括用于反射所述ir辐射束的曲面镜,优选地,其中所述曲面镜能够被动态地操纵。

13.根据权利要求8至12中任一项所述的气溶胶生成元件,其中所述光学元件包括以下中的一者或两者:

凹透镜,所述凹透镜用于在朝向所述容纳器的方向上发散所述ir辐射束;以及

凸透镜,所述凸透镜用于在朝向所述容纳器的方向上会聚所述ir辐射束。

14.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,还包括电加热部件,所述电加热部件被布置成用于加热接纳在所述容纳器中的所述气溶胶形成基材,优选地,所述电加热部件是电阻加热部件和感应加热部件中的一者或多者。

15.根据前述权利要求中任一项所述的气溶胶生成元件,还包括供使用者选择待加热的所述容纳器的特定部分的控制单元。

16.一种水烟装置,其包括根据前述权利要求中的一项所述的气溶胶生成元件。

17.一种气溶胶生成系统,其包括根据权利要求16所述的水烟装置和气溶胶形成基材,

其中所述气溶胶形成基材被布置成接纳在所述水烟装置的所述气溶胶生成元件的所述容纳器中,并且

其中所述气溶胶形成基材被布置成由所述水烟装置的所述气溶胶生成元件加热。

18.根据权利要求17所述的气溶胶生成系统,其包括筒,所述筒包括包封所述气溶胶形成基材的外壳。

19.根据权利要求17或权利要求18所述的气溶胶生成系统,其中所述气溶胶形成基材包括水烟糖蜜。

20.一种用于在水烟装置中形成气溶胶的方法,所述方法包括:

(a)借助于光子装置生成ir辐射束,

(b)将所述ir辐射束从所述光子装置引导到接纳在所述水烟装置的容纳器中的气溶胶形成基材,

(c)借助于所述ir辐射束加热接纳在所述水烟装置的所述容纳器中的所述气溶胶形成基材。


技术总结
本发明涉及一种用于在水烟装置中生成气溶胶的气溶胶生成元件,所述气溶胶生成元件包括用于接纳气溶胶形成基材的容纳器和被构造成生成IR辐射束的光子装置,其中所述气溶胶生成元件被布置成通过将所述IR辐射束引导到所述气溶胶形成基材上来加热所述气溶胶形成基材。本发明还涉及一种包括所述气溶胶生成元件的水烟装置、一种包括所述水烟装置和气溶胶生成制品两者的气溶胶生成系统,以及一种用于在水烟装置中形成气溶胶的方法。

技术研发人员:R·埃米特;A·I·冈萨雷斯弗洛雷斯
受保护的技术使用者:菲利普莫里斯生产公司
技术研发日:2020.01.13
技术公布日:2021.07.30
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