规CIELAB色彩空间中的亮/暗 评价），如在色度计上评价的。可以制备特定的样品夹具以允许刷之前和之后的颜色评价。 初始的颜色评价可以允许牙齿被分类和排序，用于针对牙齿颜色标准化的处理分配。可以 基于每个处理组的初始L值将试样分级为处理组。可以在V8刷光机中使用例如OralB:? 牙刷（OralB40RegularToothbrush,OralBInc. ,Belmont,California)在 150 克的标 准化载量下以20, 000次预调理，进行刷牙。一个处理可以包括对照参考标准，所述对照参 考标准通过向50克的5. 2%CMC(羧甲基纤维素）溶液中添加10克焦磷酸钙（ADA参考标 准焦磷酸^MonsantoInc.，St.Louis,Missouri)制备。洁齿剂可以以25/40洁齿剂/水 浆液被应用，所述洁齿剂/水浆液用生物均质器棒制备。还可以将处理旋转，以使得来自每 个处理组的牙釉质试样在V8刷光机上的每个位置中都被刷到。可以在150克的标准压力 下在测试浆液中将试样刷800下。刷完之后，可以将试样风干并在色度计上再次检查颜色 L值。然后可以如下根据作为与参考焦磷酸钙研磨剂比较的相对功效评价处理效果：
[0052] (Ltf-Ltl)/(Lcf-Lcl) *100 =PCR
[0053] 其中Ltl和Ltf分别是初始和刷完后的测试洁齿剂处理的试样的L色度值，并且L" 和Lrf分别是初始和刷完后的焦磷酸钙研磨剂对照的值。为了统计分析，可计算每个处理 组中的每颗牙齿的原始清洁得分Ltf-Ltl。然后可通过将这些个体得分除以焦磷酸钙ADA研 磨剂对照获得的平均原始清洁得分并乘以100,将这些个体得分转换为清洁比得分（PCR得 分）。
[0054] 用于进行PCR和/或RDA测试的洁齿剂组合物可不同。在一个方面，用于PCR和/ 或RDA测试的洁齿剂组合物可包括%甘油（例如99. 7% )、42. 107wt. %山梨醇（例 如70% )、20wt. %去离子水、3wt. %聚乙二醇（例如，PEG-12)、0? 6wt. %羧甲基纤维素钠 (例如，Cekol2000,从CPKelcoUS，Inc.市售可得）、0. 5wt. %焦磷酸四钠、0. 2wt. %糖精 钠、0? 243wt. %氟化钠、0? 5wt. %二氧化钛、I. 2wt. %十二烷基硫酸钠、0? 65wt. %调味剂和 20wt. %的二氧化娃材料。
[0055] 二氧化硅材料的表面积可使用常规表面积分析技术确定，所述常规表面积分析技 术诸如例如Brunauer、Emmett和Teller( "BET"）以及十六烷基三甲基溴化铵（"CTAB")。 BET表面积测量结果通过测量表面上吸附的氮气的量确定，如Brunaur等人，J.Am.Chem. Soc.，60, 309(1938)中所描述的。CTAB表面积测量结果通过测量大分子十六烷基三甲基溴 化铵在表面上的吸附确定。在一个方面，将给定重量的二氧化硅材料与一些十六烷基三甲 基溴化铵结合，并通过离心分离过量物，并通过使用表面活性剂电极用十二烷基硫酸钠滴 定定量。二氧化硅材料的外表面可从吸附的CTAB的量（吸附之前和之后CTAB的分析）确 定。在一个具体的实例中，将约0. 5g的二氧化硅放置在具有100.OOmlCTAB溶液（5. 5g/L) 的250-ml烧杯中，在电搅拌板上混合持续1小时，然后以10,OOOrpm离心持续30分钟。向 100-ml烧杯中的5ml的澄清上清液中加入Iml的10%吐温X-100。用0.INHCI将pH调节 至3. 0-3. 5,并使用表面活性剂电极（BrinkmannSUR1501-DL)用0. 0100M十二烷基硫酸钠 滴定试样以确定终点。
[0056] 烧失量（"L0I"）值是指二氧化硅材料在105°C下预干燥持续2小时后在900°C下 加热二氧化硅材料持续2小时之后的重量损失。LOI是二氧化硅材料的羟基基团含量的一 种测量。
[0057] 二氧化硅材料的油吸附，经常被表达为油吸附值（"0AN")，可使用磨损方法确定， 其中一些亚麻籽油通过使用刮刀在光滑的表面上摩擦与二氧化硅材料混合直至形成坚硬 的油灰样膏。测量形成当铺开时卷曲的坚硬膏所需要的油的量。然后OAN可被表达为达到 饱和二氧化硅材料的每单位重量的二氧化硅材料所需的油的体积。较高的油吸附水平指示 较高级结构的二氧化硅，例如，在主要的个体熔融的二氧化硅颗粒之间具有较高量的间隙 空间的聚集体。类似地，低油吸附值指示低级结构的二氧化硅，例如，在主要的个体熔融的 二氧化硅颗粒之间具有较小量的间隙空间的聚集体。在一个方面，亚麻籽油可被用于确定 二氧化硅材料的油吸附值。
[0058] 公开了待用于制备本发明的组合物的组分以及待用于本文公开的方法中的组合 物本身。本文公开了这些和其他材料，并且应理解当公开了这些材料的组合、亚组、相互作 用、组等时，虽然不能明确公开每个不同的个体和共同组合以及这些化合物的置换的具体 参考，每个都在本文中被具体地构思并描述。例如，如果公开并讨论了一种具体的化合物， 并且讨论了可对包括化合物在内的一些分子进行一些修饰，则具体构思了所述化合物的每 个组合和置换以及可能的修饰，除非有具体相反指示。因此，如果公开了一类分子A、B和 C，以及一类分子D、E和F，并且公开了组合分子的实例A-D，那么即使未单独列举每个，每个 被单独地且共同地构思，意味着认为公开了组合A-E、A-F、B-D、B-E、B-F、C-D、C-E和C-F。 同样地，也公开了这些的任何亚组或组合。因此，例如，会认为公开了亚组A-E、B-F和C-E。 这个概念应用于本申请的所有方面，包括但不限于制备和使用本发明的组合物的方法中的 步骤。因此，如果存在可被实施的多种另外的步骤，应理解这些另外的步骤的每个可通过本 发明的方法的任何具体实施方案或实施方案的组合实施。
[0059] 本文公开的每种材料是市售可得的和/或用于制备其的方法是本领域技术人员 已知的。
[0060] 应理解，本文公开的组合物具有某些功能。本文公开了用于执行所公开的功能的 某些结构需求，并且应理解，存在可执行与所公开的结构相关的同一功能的多种结构，并且 这些结构通常会实现同一结果。
[0061] 如上文简要描述的，本公开内容提供了 一种二氧化硅组合物，所述二氧化硅组合 物可用于例如洁齿剂组合物中。在一个方面，本发明的二氧化硅组合物可提供高清洁特性 同时保持期望的研磨特性。在其他方面，本公开内容提供了用于制备本发明的二氧化硅组 合物和包含本发明的二氧化硅组合物的洁齿剂组合物的方法。
[0062] 在口腔护理产业，存在具有改善的清洁特性的洁齿剂材料将是期望的。同样将有 利的是，这类洁齿剂材料展示出适度的牙本质和牙釉质研磨特性以便不会在重复使用期间 损伤牙齿。
[0063] 高清洁件二氣化硅的特件
[0064] 在多个方面中，本发明的高清洁性二氧化硅可展示出低表面积；高油吸附值；低 烧失量；在洁齿剂组合物中在20wt. %载量下约0. 8或更大、或约1或更大的PCR=RDA比； 低Einlehner磨损值；或其组合。在另一个方面，如通过X-射线衍射测量所确定的，高清洁 性二氧化娃可以是无定形的，或至少部分无定形的。
[0065] 在其他方面，本发明的高清洁性二氧化硅可包含致密的球形或部分球形的颗粒的 聚集体。在又另一方面，本发明的二氧化硅可包含致密颗粒的聚集体，所述致密颗粒每个具 有约80nm的直径。在又另一方面，本发明的二氧化硅可包含个体熔融的二氧化硅颗粒的聚 集体，所述个体熔融的二氧化硅颗粒被隔开以展示出个体颗粒之间的期望的间隙孔并提供 高油吸附值。
[0066] 本发明的高清洁性二氧化硅材料当以20%载量用于洁齿剂中时可展示出从约50 至约 150,例如 50、52、54、56、58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、 92、94、96、98、100、102、10、106、108、110、112、114、116、118、120、122、124、126、128、130、 132、134、136、138、140、142、144、146、148 或 150 ;从约 75 至约 150,例如约 75、约 77、约 79、 约81、约83、约85、约87、约89、约91、约93、约95、约97、约99、约101、约103、约105、约 107、约 109、约 111、约 113、约 115、约 117、约 119、约 121、约 123、约 125、约 127、约 129、 约 131、约 133、约 135、约 137、约 139、约 141、约 143、约 145、约 147、约 149 或约 150 ;或从 约 80 至约 125,例如 80、82、84、86、88、90、92、94、96、98、100、102、104、106、108、110、112、 114、116、118、120、122、124或125的PCR值。在其他方面，本发明的高清洁性二氧化硅当以 20wt. %载量用于洁齿剂中时可展示出小于约50或大于约180的PCR值，并且不预期将本 发明限制为任何特定的PCR值。
[0067] 本发明的高清洁性二氧化硅材料当以20%载量用于洁齿剂中时可展示出从约50 至约 150,例如 50、52、54、56、58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、 92、94、96、98、100、102、10、106、108、110、112、114、116、118、120、122、124、126、128、130、 132、134、136、138、140、142、144、146、148 或 150 ;从约 55 至约 125,例如约 55、约 57、约 59、 约61、约63、约65、约67、约69、约71、约73、约75、约77、约79、约81、约83、约85、约87、 约 89、约 91、约 93、约 95、约 97、约 99、约 101、约 103、约 105、约 107、约 109、约 111、约 113、 约 115、约 117、约 119、约 121、约 123 或约 125 ;或从约 60 至约 125,例如 60、62、64、66、68、 70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92、94、96、98、100、102、104、106、108、110、112、114、 116、118、120、122、124或125的RDA值。在其他方面，本发明的高清洁性二氧化硅当以 20wt. %载量用于洁齿剂中时可展示出小于约50或大于约150的RDA值，并且不预期将本 发明限制为任何特定的RDA值。
[0068] 在可用于洁齿剂应用中的常规二氧化硅材料中，PCR值的增加导致相应的RDA值。 RDA的这样的增加可导致可损害牙组织的不期望地高的研磨特性。在一个方面，本发明的高 清洁性二氧化硅展示出不相关（decoupled)的PCR和RDA值，使得可获得高PCR同时保持 期望的RDA值。
[0069] 在一个方面，高清洁性二氧化硅当以20wt. %载量用于洁齿剂中时可展示出至少 约 〇? 8,例如约 0? 85、约 0? 87、约 0? 91、约 0? 93、约 0? 95、约 0? 97、约 0? 99、约 1、约L01、约L03、约L05、约L07、约L09、约L1、约L2、约L3、约L4、约L5或更大的PCR:RDA比。 在其他方面，高清洁性二氧化硅当以20wt. %载量用于洁齿剂中时可展示出从约0. 85至约 1. 5,例如约 0. 85、约 0. 86、约 0. 88、约 0. 9、约 0. 92、约 0. 94、约 0. 96、约 0. 98、约 1、约 1. 1、 约1. 2、约L3、约L4或约L5 ;从约0? 9至约L5,例如约0? 9、约0? 92、约0? 94、约0? 96、 约0. 98、约1、约1. 1、约1. 2、约1. 3、约1. 4或约1. 5 ;从约0. 95至约1. 5,例如约0. 95、约 0? 96、约0? 98、约1、约L1、约L2、约L3、约L4或约L5 ;从约0? 98至约L5,例如约0? 98、 约1、约1. 1、约1. 2、约1. 3、约1. 4或约1. 5 ;或从约1至约1. 5,例如约1、约1. 1、约1. 2、 约1. 3、约1. 4或约1. 5的PCR=RDA比。在其他方面中，当以20wt. %载量用于洁齿剂中时 PCR=RDA比可大于约1. 5,例如约1. 6、约1. 7、约1. 8、约1. 9、约2、约2. 1、约2. 2、约2. 3、约 2. 4、约2. 5、约3、约3. 5、约4或更大。
[0070] 在一个方面，本发明的高清洁性二氧化硅可展示出小于约140m2/g，例如约5m2/ g、约10m2/g、约15m2/g、约20m2/g、约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约45m2/g、约50m2/g、约55m2/g、约60m2/g、约65m2/g、约70m2/g、约75m2/g、约80m2/g、约85m2/g、约90m2/ g、约95m2/g、约100m2/g、约110m2/g、约120m2/g、约130m2/g或约140m2/g;小于约100m2/g， 例如约5m2/g、约10m2/g、约15m2/g、约20m2/g、约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约 45m2/g、约50m2/g、约55m2/g、约60m2/g、约65m2/g、约70m2/g、约75m2/g、约80m2/g、约85m2/ g、约90m2/g、约95m2/g或约IOOmVg;小于约90m2/g，例如约5m2/g、约10m2/g、约15m2/g、约 20m2/g、约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约45m2/g、约50m2/g、约55m2/g、约60m2/ g、约65m2/g、约70m2/g、约75m2/g、约80m2/g、约85m2/g或约90m2/g;小于约75m2/g，例如约 5m2/g、约10m2/g、约15m2/g、约20m2/g、约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约45m2/g、 约50m2/g、约55m2/g、约60m2/g、约65m2/g、约70m2/g或约75m2/g;小于约60m2/g，例如约5m2/ g、约10m2/g、约15m2/g、约20m2/g、约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约45m2/g、约 50m2/g、约55m2/g或约60m2/g;小于约55m2/g，例如约5m2/g、约10m2/g、约15m2/g、约20m2/g、 约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约45m2/g、约50m2/g或约55m2/g;小于约50m2/g， 例如约5m2/g、约10m2/g、约15m2/g、约20m2/g、约25m2/g、约30m2/g、约35m2/g、约40m2/g、约 45m2/g或约50m2/g;或小于