专利名称：附着有有机物薄膜的玻璃基板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种附着有有机物薄膜的玻璃基板。
背景技术：
如专利文献I (日本特开2001-276759号公报)所示，在以往用于液晶显示器或等离子显示器等显示图像用机器的玻璃基板的制造工艺中，玻璃基板成形后，为了去除附着在玻璃基板表面上的玻璃的微小粉末或磨料颗粒等异物，用酸性药液或超声波等对玻璃基板表面进行清洗处理。专利文献专利文献I :日本特开2001-276759号公报
实用新型内容但是，即使完成玻璃基板表面的清洗处理后的玻璃基板的表面为清洁度高的状态，之后在搬运或保管玻璃基板时，异物或污垢会附着在玻璃基板的表面。其结果，在利用玻璃基板制造各种机器的阶段，需要再次用药液或超声波清洗玻璃基板的表面。本实用新型的目的在于，提供一种即使异物或污垢附着在表面，也可容易地将其去除的附着有有机物薄膜的玻璃基板。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板为其表面附着有邻苯二甲酸酯的玻璃基板。该附着有有机物薄膜的玻璃基板的表面上，邻苯二甲酸酯的平均附着量为0. 5ng 15ng/lcm2,且表面的任意Icm2至少附着有0. Ing的邻苯二甲酸酯。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板中，邻苯二甲酸酯的分子量最佳为低于450。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板中，邻苯二甲酸酯最佳为邻苯二甲酸二(2-乙基己酯)。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板中，表面的粗糙度Ra值最佳为小于等于0. 4nm。清洗玻璃基板时，玻璃基板表面的粗糙度越小，越容易从玻璃基板的表面去除邻苯二甲酸酯。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板，最佳为形成有Cu系电极材料的显不装置用基板，该玻璃基板具有大于G5尺寸的表面面积,且厚度小于0. 4mm。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板，即使异物或污垢附着在其表面，也可容易地将其去除。依据本实用新型，有机EL用TFT显示器或面向高清晰液晶TFT显示器中，能够降低因玻璃粉或碎玻璃引起的表面损伤或异物附着在玻璃基板表面。因此，也可使用粘性低的配线/电极材料。例如，可使用与Al系电极或Cr、Mo电极等相比粘性低，但低电阻的Cu系电极材料。即，可扩大电极材料的选择范围，可解决大型显示器中容易出现的RC迟延问题。而且，能够提供可解决今后进一步高清晰的小型显示器中可能出现的RC迟延问题的玻璃基板。
图I为涉及本实施例的玻璃板制造装置的整体结构图；图2为涉及本实施例的被膜形成装置的侧视图；图3为涉及本实施例的被膜形成装置的侧视图；图4为表示涉及实施例的样品基板的样片位置概念图；图5为涉及变形例C的玻璃基板被膜形成装置的示意图。符号说明10被膜形成装置12玻璃基板搬运装置14玻璃基板被膜形成装置14a被膜形成空间14al搬入口14a2搬出口14bI第I空气刀14b2第2空气刀14c有机物喷嘴 100玻璃板制造装置200熔解槽300澄清槽400成形装置500清洗槽GS玻璃基板
具体实施方式
<实施例>( I)玻璃基板制造装置的整体结构首先，参照图I对涉及本实用新型玻璃基板的制造方法的玻璃板制造装置100的整体结构进行说明。玻璃板制造装置100主要由熔解槽200、澄清槽300、成形装置400、清洗槽500所构成。在熔解槽200中熔化玻璃原料生成熔融玻璃。在熔解槽200中生成的熔融玻璃被送往澄清槽300。在澄清槽300中去除熔融玻璃中所包含的气泡。在澄清槽300中去除气泡后的熔融玻璃被送往成形装置400。在成形装置400中，采用溢流引下法从熔融玻璃连续形成玻璃板。在成形装置400成形的玻璃板，被切断成规定大小的玻璃基板，送往清洗槽500。在清洗槽500中进行玻璃基板表面的清洗处理等，之后，如后述，进行在玻璃基板的表面形成有机物薄膜的处理。在清洗槽500中进行清洗及表面处理的基板，作为产品上市。玻璃基板作为液晶显示器或等离子显示器等平板显示用玻璃基板使用。在清洗槽500中进行清洗玻璃基板表面的清洗工序及在清洗的玻璃基板表面形成有机物薄膜的被膜形成工序。清洗工序中，朝水平方向搬运玻璃基板的同时，朝玻璃基板的表面喷洗涤剂进行清洗，或将玻璃基板浸泡在洗涤液的状态下，通过将超声波照射在洗涤液中去除附着在玻璃基板上的异物或污垢。另外，清洗工序前，对玻璃基板的端面进行倒角加工处理。接下来，对涉及本实用新型玻璃基板制造方法中特色的工序，S卩、被膜形成工序进行说明。被膜形成工序是通过后述的被膜形成装置10进行。(2)被膜形成装置的结构本实施例中的被膜形成装置10，主要由玻璃基板搬运装置12、玻璃基板被膜形成装置14构成。图2及图3所示被膜形成装置10的侧视图。图3为沿图2所示的箭头III方向观察时，被膜形成装置10的侧视图。玻璃基板搬运装置12是将玻璃基板GS表面的垂直线朝向垂直方向的状态下，朝水平方向搬运玻璃基板GS的装置。本实施例中，如图2所示，玻璃基板搬运装置12为包含平行配置的多个输送棍的装置。玻璃基板被膜形成装置14为，其内部具有半筒状(图I中剖面形状为半圆)，即、隧道状被膜形成空间14的装置。玻璃基板搬运装置12设置在被膜形成空间14a的内部，使被膜形成空间14a的长度方向沿玻璃基板GS的搬运方向。玻璃基板GS被玻璃基板搬运装置12搬运的同时，通过玻璃基板被膜形成装置14的被膜形成空间14a。如图2所示，被玻璃基板搬运装置12搬运的玻璃基板GS，从搬入口 14al搬运至被膜形成空间14a的内部，并从搬出口 14a2搬出至被膜形成空间14a的外部。玻璃基板被膜形成装置14的被膜形成空间14a搬入口 14al附近，在被膜形成空间14a上部的玻璃基板被膜形成装置14的内壁面上设置有第I空气刀14bl，被膜形成空间14a的搬出口 14a2附近，在被膜形成空间14a上部的玻璃基板被膜形成装置14的内壁面上设置有第2空气刀14b2。第I空气刀14bl及第2空气刀14b2为向被玻璃基板搬运装置12搬运的玻璃基板GS表面喷射压缩空气的装置。而且，玻璃基板被膜形成装置14的搬入口 14al与搬出口 14a2之间，被膜形成空间14a上部的玻璃基板被膜形成装置14的内壁面上，沿被膜形成空间14a的长度方向设置有多个有机物喷嘴14c。有机物喷嘴14c是用雾状邻苯二甲酸酯填满被膜形成空间14a所需的装置。邻苯二甲酸酯是邻体的邻苯二甲酸和醇的酯的总称。本实施例中，最佳为分子量低于450，更佳为邻苯二甲酸二(2-乙基己酯)。另外，本实施例中，玻璃基板GS是厚度为0.4mm、G5. 5尺寸(1300mmX 1500mm)的基板。而且，玻璃基板GS的表面粗糙度Ra值为不足0. 4nm。(3)被膜形成装置的动作本实施例的被膜形成装置10中，玻璃基板GS被玻璃基板搬运装置12搬运的同时，通过被膜形成空间14a。通过被膜形成空间14a的玻璃基板GS的表面形成邻苯二甲酸酯的薄膜。下面，对玻璃基板GS的表面形成邻苯二甲酸酯薄膜的被膜形成工序进行说明。首先，玻璃基板GS被玻璃基板搬运装置12搬运的同时，在搬入口 14al，通过第I空气刀14bl在其上侧表面喷射压缩空气。根据该构成，附着在玻璃基板GS上侧表面的异物被压缩空气吹走，且被去除。接下来，玻璃基板GS从搬入口 14al至搬出口 14a2，被玻璃基板搬运装置12在被膜形成空间14a内搬运。被膜形成空间14a填满有从有机物喷嘴14c喷射出的雾状邻苯二甲酸酯。因此，玻璃基板GS在被膜形成空间14a被搬运的过程中，玻璃基板GS的表面附着邻苯二甲酸酯的微小滴液。之后，玻璃基板GS被玻璃基板搬运装置12搬运的同时，在搬出口 14a2第2空气刀14b2向其上侧表面喷射压缩空气。通过第2空气刀14b2去除附着在玻璃基板GS上侧表面的多余的邻苯二甲酸酯。而且，通过设置第I空气刀14bI及第2空气刀14b2，可控制被膜形成空间14a内的气氛。另外，本实施例中，附着在通过被膜形成空间14a的玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯的平均附着量为，表面0. 5ng 15ng/lcm2,最佳为，表面Ing 10ng/lcm2。在这里，「平均附着量」为玻璃基板GS表面整体的邻苯二甲酸酯附着量除以玻璃基板GS表面面积的值。还有，「玻璃基板GS的表面面积」，可以是玻璃基板表面整体的面积，而且，当玻璃基板的表面包含有作为最终产品不使用的区域(端部等)时，也可以是去除该不使用区域的玻璃基板的表面面积。此外,本实施例中，通过被膜形成空间14a的玻璃基板GS表面的任意Icm2至少附着有0. Ing的邻苯二甲酸酯,最佳为至少0. 3ng,更佳为至少0. 5ng。在这里，「任意的表面1cm2」可以是玻璃基板表面整体的任意的表面Icm2，而且，当玻璃基板的表面包含有作为最终产品不使用的区域(端部等)时，也可以是去除该不使用区域的玻璃基板的任意的表面 Icm20(4)特征(4—1) 本实施例中，玻璃基板GS在玻璃板制造装置100的清洗槽500中，在雾状邻苯二甲酸酯的氛围下被被膜形成装置10暴晒，进行在玻璃基板GS的表面形成邻苯二甲酸酯薄膜的被膜形成工序。形成于玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯薄膜抑制异物或污垢直接粘在玻璃基板GS的表面上。在这里，异物是因研磨玻璃基板GS的端面随着时间的推移从端面产生的玻璃的微小粉末，即、微粒或硅氧烷键(Si-O-Si键)的Si原子与烷基等相结合的有机硅氧烷(例如，六甲基二硅氧烷)或玻璃基板的清洗工序之后，有必要改变玻璃基板的尺寸等时，因切断玻璃基板而产生的微小玻璃片等。而且，污垢是根据玻璃基板GS的搬运及保管状态，在玻璃基板GS的表面析出的物质。例如，因玻璃基板GS周围的温度变化在玻璃基板GS的表面产生结露时，附着在玻璃基板GS表面的水滴吸收漂浮在玻璃基板GS周围的物质。而且，一旦玻璃基板GS的表面干燥,被结露吸收的物质粘在玻璃基板GS的表面,作为污垢析出。本实施例中，在被膜形成工序中形成于玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯薄膜，作为对上述异物或污垢的屏障发挥功效，抑制异物或污垢直接粘在玻璃基板GS的表面。而且，当异物或污垢附着在形成于玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯薄膜上时，通过在之后的工序中清洗玻璃基板GS表面，可从玻璃基板GS表面与薄膜状邻苯二甲酸酯一同去除异物或污垢。另外，为了清洗形成有邻苯二甲酸酯薄膜的玻璃基板GS表面，例如，用纯净水冲洗玻璃基板GS的表面。分子量小的邻苯二甲酸酯，通常显示水溶性或可视为水溶性的性质，因此，通过用纯净水冲洗可从玻璃基板GS的表面容易地去除邻苯二甲酸酯。(4—2)本实施例中，玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯附着量为表面0. 5ng 15ng/lcm2。即，玻璃基板GS表面整体的邻苯二甲酸酯附着量除以玻璃基板GS的表面面积的值为0. 5ng/cm2 15ng/cm2。通过在玻璃基板GS的表面形成邻苯二甲酸酯薄膜，即使异物或污垢附着在玻璃基板GS的表面，也可容易地将其去除。虽然取决于附着在玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯的分子量或物性，但邻苯二甲酸酯的附着量过小时，异物或污垢容易直接附着在玻璃基板GS的表面上。而且，邻苯二甲酸酯的附着量过大时，清洗玻璃基板GS时，无法充分地从玻璃基板GS的表面去除邻苯二甲酸酯薄膜，在之后的工序中，容易产生因残留在玻璃基板GS表面上的邻苯二甲酸酯引起的不良现象。本实施例中，通过将玻璃基板GS表面的邻苯二甲酸酯的附着量设定在适当的范围，抑制异物或污垢直接附着在玻璃基板GS的表面，且可从玻璃基板GS表面容易地去除邻苯二甲酸酯。(4-3)本实施例中，玻璃基板GS任意Icm2的表面上至少附着有0. Ing的邻苯二甲酸酯。根据该构成，玻璃基板GS的表面没有邻苯二甲酸酯的附着量极少的区域，在一定程度上邻苯二甲酸酯均衡地附着在玻璃基板GS的表面上。因此，本实施例中，可抑制异物或污垢极端地附着在玻璃基板GS表面的特定区域。
、[0059]<实施例>下面，根据本实施例，对测定的附着在玻璃基板表面上的邻苯二甲酸酯量与清洗完附着有邻苯二甲酸酯的玻璃基板之后的表面状态之间的关系进行说明。本实施例中，首先利用被膜形成装置，使G5尺寸的玻璃基板通过邻苯二甲酸酯气氛下的被膜形成空间，在玻璃基板的表面形成邻苯二甲酸酯薄膜。附着在玻璃基板表面的邻苯二甲酸酯的量，不是通过改变被膜形成空间的邻苯二甲酸酯的量，而是通过改变玻璃基板搬运装置的玻璃基板搬运速度来调节。另外，本实施例中，作为邻苯二甲酸酯使用邻苯二甲酸二(2-乙基己酯)。接下来，如图4所示，从形成有邻苯二甲酸酯薄膜的玻璃基板获取九个样品A I。每个样品为，其一边的长度具有50mm的正方形形状的玻璃基板片。样品E是从位于玻璃基板中心位置的50mm见方的正方形获取的玻璃基板片。而且，样品A D、F I是从玻璃基板端面的50mm内侧的四角形(在图4中，点线所表示的四角形)，即、样品区域R的最外周获取的玻璃基板片。例如，如图4所示，样品A是从与样品区域R中相邻的两边相接触的50_见方的四角形获取的玻璃基板片。而且，如图4所示，样品D是从与样品区域R的一边，且在中心相接触的50_见方的四角形获取的玻璃基板片。接下来，通过气相色谱及质谱法(GC/MS)测定了从形成有邻苯二甲酸酯薄膜的玻璃基板获取的九个样品A I的邻苯二甲酸酯附着量。具体而言，在惰性气体的气流中将各样片加热至400°C，用固体吸附剂捕获浓缩从各样片的一侧表面热脱附的邻苯二甲酸酯之后，通过GC/MS测定。而且，与获取通过GC/MS测定邻苯二甲酸酯的样品A I的玻璃基板相同的方法及相同的条件下，制作了评价用玻璃基板。本实施例中，分别制作了 5块与样品基板I 5相对应的评价用玻璃基板，进行环境实验，并测定了清洗后的表面状态。具体而言，将各评价用玻璃基板捆包后投入恒温槽，在10°C 60°C的温度周期(I个周期为24小时)气氛下，放置一个星期。接下来，用纯净水卷动清洗各评价用玻璃基板后，使用检查机器对附着在各评价用玻璃基板表面上的玻璃颗粒或有机硅氧烷等异物进行了检测。表I所示，对分别调节了邻苯二甲酸酯附着量的五种玻璃基板，即、样品基板I 5测定的样品A I的邻苯二甲酸酯附着量及清洗相对应的评价用玻璃基板后的表面状态的结果。[0066]表I
权利要求1.一种附着有有机物薄膜的玻璃基板，在玻璃基板表面附着有邻苯二甲酸酯，其特征在于， 在所述玻璃基板表面上的所述邻苯二甲酸酯的平均附着量为0. 5ng 15ng/lcm2，且所述玻璃基板表面的任意Icm2上至少附着有0. Ing的所述邻苯二甲酸酯。
2.根据权利要求I所述的附着有有机物薄膜的玻璃基板，其中， 所述邻苯二甲酸酯的分子量小于450。
3.根据权利要求2所述的附着有有机物薄膜的玻璃基板，其中， 所述邻苯二甲酸酯为邻苯二甲酸二(2-乙基己酯)。
4.根据权利要求I 3的任意一项所述的附着有有机物薄膜的玻璃基板，其中，所述玻璃基板表面的粗糙度Ra值不足0. 4nm。
5.根据权利要求I 3的任意一项所述的附着有有机物薄膜的玻璃基板，其中，所述玻璃基板为形成有Cu系电极材料的显示装置用基板，所述玻璃基板具有G5尺寸以上的表面面积，且厚度小于0. 4mm。
6.根据权利要求4所述的附着有有机物薄膜的玻璃基板，其中， 所述玻璃基板为形成有Cu系电极材料的显示装置用基板，所述玻璃基板具有G5尺寸以上的表面面积，且厚度小于0. 4mm。
专利摘要本实用新型的目的在于，提供一种即使异物或污垢附着在表面上，也可容易地将其去除的附着有有机物薄膜的玻璃基板。本实用新型涉及的附着有有机物薄膜的玻璃基板，邻苯二甲酸酯附着在表面上以使玻璃基板GS表面中邻苯二甲酸酯的平均附着量为0.5ng～15ng/1cm2，且玻璃基板GS表面的任意1cm2上至少附着有0.1ng的邻苯二甲酸酯。
文档编号C03C17/28GK202808610SQ201220483149
公开日2013年3月20日 申请日期2012年9月20日 优先权日2011年9月30日
发明者滨上耕 申请人:安瀚视特控股株式会社