本实用新型属于陶瓷装置技术领域，尤其涉一种陶坯上釉装置。
背景技术：
陶瓷是中华文明史的一个重要组成部分，为人类社会的进步和发展作出了卓越的贡献。陶瓷工艺流程一般分为：练泥、拉坯、印坯、利坯、晒坯、刻花、施釉、烧窑和彩绘。陶坯在进窑烧造之前，需要进行施釉，要做到陶坯各部分的釉层均匀一致，厚薄适当。釉料起到保护和装饰作用，现有的施釉方法包括浸釉、淋釉、刷釉和喷釉等。
目前，陶瓷工厂需要采用专门的上釉装置，该装置自动化程度高、上釉效果好；但是对于那些上釉要求不高的陶瓷而言，该装置的成本较高。因此，有必要设计出一种简单易操作的陶坯上釉装置。
技术实现要素：
本实用新型目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一简单易操作的陶坯上釉装置。为实现上述目的，本实用新型的技术方案为：一种陶坯上釉装置，包括固定在支架上的蓄釉箱和喷釉管，所述喷釉管的上端位于所述蓄釉箱的上方，所述喷釉管的下端延伸至所述蓄釉箱的内部，位于所述蓄釉箱内部的喷釉管设有进釉孔，所述喷釉管的底端连接有连接管，所述连接管的另一端连接有软胶管。蓄釉箱内的釉料通过进釉孔流入喷釉管、连接管和软胶管内，当需要对陶坯内壁进行上釉时，将陶坯倒扣在喷釉管上，员工脚踩软胶管，釉料会经喷釉管喷到陶坯内壁上；静置十几秒，陶坯内壁多余的釉料在重力作用下流下来。
作为上述技术方案的改进，所述进釉孔连通有进釉管，所述进釉管的管径沿进釉方向减小。进釉管的管径沿进釉方向逐渐减小，可以降低喷釉管内的釉料回流到蓄釉箱内。
作为上述技术方案进一步地改进，所述进釉管的进釉端安装有第一过滤网，可以过滤流入喷釉管内釉料含有的杂质。
作为上述技术方案进一步地改进，所述蓄釉箱的上端设有让所述喷釉管穿过的上通孔，所述上通孔的内径大于所述喷釉管的外径，可以使陶坯内壁流下来的釉料回流到蓄釉箱内，节约釉料。
作为上述技术方案更进一步地改进，所述上通孔的上端安装有第二过滤网，可以过滤回流到蓄釉箱内釉料含有的杂质。
作为上述技术方案的改进，所述喷釉管的顶端设有封口盖。当不进行上釉时，用封口盖盖住喷釉管顶端，避免灰尘污染。
本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供一种陶坯上釉装置，陶坯上釉装置包括蓄釉箱和喷釉管，喷釉管的底端连接有连接管，连接管的另一端连接有软胶管，简单易操作对陶坯进行上釉；蓄釉箱的上端设有让喷釉管穿过的上通孔，上通孔的内径大于喷釉管的外径，可以使陶坯内壁流下来的釉料回流到蓄釉箱内，节约釉料；进釉管的进釉端安装有第一过滤网，上通孔的上端安装有第二过滤网，过滤网可以过滤釉料含有的杂质。
附图说明
图1为本实用新型所述陶坯上釉装置的一种实施例的侧视图；
图2为本实用新型所述蓄釉箱、喷釉管、连接管和进釉管的一种实施例的剖视图；
其中，1、蓄釉箱，2、支架，3、喷釉管，31、第二过滤网，4、连接管，5、软胶管，6、进釉管，61、第一过滤网。
具体实施方式
为更好地说明本实用新型的目的、技术方案和优点，下面将结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
一种陶坯上釉装置，包括固定在支架2上的蓄釉箱1和喷釉管3，所述喷釉管3的上端位于所述蓄釉箱1的上方，所述喷釉管3的下端延伸至所述蓄釉箱1的内部，位于所述蓄釉箱1内部的喷釉管3设有进釉孔，所述喷釉管3的底端连接有连接管4，所述连接管4的另一端连接有软胶管5。蓄釉箱1内的釉料通过进釉孔流入喷釉管3、连接管4和软胶管5内，当需要对陶坯内壁进行上釉时，将陶坯倒扣在喷釉管3上，员工脚踩软胶管5，釉料会经喷釉管3喷到陶坯内壁上；静置十几秒，陶坯内壁多余的釉料在重力作用下流下来。
所述进釉孔连通有进釉管6，所述进釉管6的管径沿进釉方向减小，可以降低喷釉管3内的油料回流到蓄釉箱1内。所述进釉管6的进釉端安装有第一过滤网61，可以过滤流入喷釉管3内釉料含有的杂质。
所述蓄釉箱1的上端设有让所述喷釉管3穿过的上通孔，所述上通孔的内径大于所述喷釉管3的外径，可以使陶坯内壁流下来的釉料回流到蓄釉箱1内，节约釉料。所述上通孔的上端安装有第二过滤网31，可以过滤回流到蓄釉箱1内釉料含有的杂质。所述喷釉管3的顶端设有封口盖。当不进行上釉时，用封口盖盖住喷釉管3顶端，避免灰尘污染。
最后所应当说明的是，以上实施例用以说明本实用新型的技术方案而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者同等替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。