本发明涉及筑工程领域，具体涉及一种挤土扩底桩成型装置及其施工方法。
背景技术：
目前在建筑、水利、公路等基础工程中，双螺旋挤扩桩是目前常用的桩基形式，此施工方法包括利用双向螺旋封闭挤扩钻头钻进挤扩成孔，向下旋钻挤扩成孔中被旋钻出来土体会被挤入桩孔侧壁中，然后使双向螺旋封闭挤扩钻头向上运动并再次旋转挤扩桩孔，在向上旋转挤扩提升中桩孔内坍落土体会被挤入桩孔侧壁中，在上旋提升同时，启动混凝土泵向桩孔内压灌桩材。存在的主要问题是先将土旋挖出来再向上运输再向两侧的桩壁挤压，因此旋转出来的土会堵塞旋转叶片所形成的运送通路，容易产生憋钻现象。而且排出的泥土或泥浆，增加了成桩施工难度和进展。
随着建筑高度的增加，基础桩长逐步增加，桩基础施工的难度也越来越大。现有桩基础施工用的灌注桩的承载力主要由桩端部土阻力和桩侧土摩擦力组成；桩基的扩大头使用水泥高压喷浆形成，然而在目前的复杂地质条件下使用上述灌注桩可能会无法满足要求。
因此，有必要提供一种复杂地质条件下使用的挤土扩底桩成型装置。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种挤土扩底桩成型装置及其施工方法。
本发明的技术方案如下：
一种挤土扩底桩成型装置，包括具有钻头的钻杆和扩底器，所述钻头包括形成于其外壁的出料孔，所述扩底器包括混凝土泵和与所述混凝土泵连通的混凝土管，所述混凝土管收容于所述钻杆内，所述混凝土管的喷口与所述出料孔连接。
优选的，所述钻杆包括依次连接的本体、阻挡圈及螺旋柱，所述螺旋柱自所述钻头延伸形成，所述本体、阻挡圈、螺旋柱及钻头同中心轴设置，所述阻挡圈的内径大于所述螺旋柱与所述本体。
优选的，所述混凝土管的截面直径为12-20厘米。
优选的，所述阻挡圈至所述钻头的距离为1-2米。
一种应用挤土扩底桩成型装置的施工方法，包括如下步骤：
(1)、提供具阻挡圈的钻具，应用所述钻具旋转对泥土进行钻孔，所述钻具在形成桩基的内壁形成挤土层；
(2)、当所述钻具的钻孔深度达到桩基的预设深度，停止所述钻具；
(3)、提升所述钻具至预设高度，停止；
(4)、开启所述扩底器.将所述混凝土管装入所述钻杆内，并将所述混凝土管的开口与所述出料孔连接；
(5)、对桩基头的内进行灌注，混凝土自所述出料孔流出，实现在所述钻头的周围和底部填充混凝土；
(6)、第一次灌注完成后，重复步骤(1)至(5)，多次对桩基头及桩基内灌注混凝土并多次挤压，完成所述扩底桩。
本发明的有益效果在于：
1、利用设于钻杆的扩底器，完成对不同土质的扩口，该结构设计简单、成本低、效果好、适于批量生产和推广使用。
2、阻挡圈结构对已挤扩成的桩的孔壁进行第二次挤压，阻挡成桩过程土不被旋出直接挤扩成桩，其结构新颖、成桩质量好、不易憋钻。
3、环保，无泥浆排出，无渣土外运，无施工扬尘，不需要存土场地，周围的环境不会受到污染。
【附图说明】
图1为本发明挤土扩底桩成型装置的剖视图。
【具体实施方式】
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
请参阅图1，为本发明挤土扩底桩成型装置的剖视图。所述挤土扩底桩成型装置100包括具有钻头11的钻杆1和扩底器2，所述钻头11包括形成于其外壁的出料孔111，所述扩底器2包括混凝土泵21和与所述混凝土泵21连通的混凝土管22，所述混凝土管22收容于所述钻杆1内，所述混凝土管22的喷口与所述出料孔111连接。
所述钻杆1还包括依次连接的本体12、阻挡圈13及螺旋柱14，所述螺旋柱14自所述钻头11延伸形成，所述本体12、阻挡圈13、螺旋柱14及钻头11同中心轴设置，所述阻挡圈13的内径大于所述螺旋柱14与所述本体12。
在本实施例中，所述混凝土管22的截面直径为12-20厘米,在本实施例中为16厘米；所述阻挡圈13至所述钻头的距离为1-2米，在本实施例中为1.5米。
一种应用挤土扩底桩成型装置的施工方法，包括如下步骤：
(1)、提供具阻挡圈的钻具，应用所述钻具旋转对泥土进行钻孔，所述钻具在形成桩基的内壁形成挤土层；
(2)、当所述钻具的钻孔深度达到桩基的预设深度，停止所述钻具；
(3)、提升所述钻具至预设高度，停止；
(4)、开启所述扩底器.将所述混凝土管装入所述钻杆内，并将所述混凝土管的开口与所述出料孔连接；
(5)、对桩基头的内进行灌注，混凝土自所述出料孔流出，实现在所述钻头的周围和底部填充混凝土；
(6)、第一次灌注完成后，重复步骤(1)至(5)，多次对桩基头及桩基内灌注混凝土并多次挤压，完成所述扩底桩。
1、利用设于钻杆没的扩底器，完成对不同土质的扩口，该结构设计简单、成本低、效果好、适于批量生产和推广使用。
2、阻挡圈结构对已挤扩成的桩的孔壁进行第二次挤压，阻挡成桩过程土不被旋出直接挤扩成桩，其结构新颖、成桩质量好、不易憋钻。
3、环保，无泥浆排出，无渣土外运，无施工扬尘，不需要存土场地，周围的环境不会受到污染。
以上所述的仅是本发明的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本发明的保护范围。