清洗治具的制作方法

文档序号:2372253阅读:443来源:国知局
专利名称:清洗治具的制作方法
技术领域
本发明涉及一种夹持装置,尤其涉及一种用于清洗光学元件的治具。
背景技术
随着多媒体技术的发展,照相机、数码照相机、手机照相镜头等成像器材越来越为广大消费者青睐,在人们对照相机、数码照相机、手机照相镜头追求小型化的同时,对其拍摄出物体的影像质量提出更高的要求,即希望拍摄物体的影像画面清晰,而物体的成像质量于很大程度上取决于相机内各光学仪器的优劣。
相机内成像模组一般包括透镜、光学滤光片及影像感测元件,如电荷耦合器Charge Coupled Device,简称CCD,或者补充性氧化金属半导体Complementary Metal-Oxide Semiconductor,简称CMOS。在生产透镜及光学滤光片等这些光学元件过程中,为达到较高的洁净度,一般在这些光学元件镀膜前及镀膜后,都需经过清洗过程,目的是为了去除附着于这些光学元件表面的脏污、油渍及微粒等。而在清洗过程中,需将这些光学元件固定于治具上,并以适当的溶液及高纯度去离子水进行清洗。
一般的光学元件清洗用的治具30,如图1所示,该治具30是利用三点固定的方式固定待清洗之光学元件40。治具30中的三个清洗条302是可在此治具30上做适当距离的调整,利用嵌在该清洗条302上铁氟龙(Teflon)材料所形成的V槽304,分别在元件的左、右、下方给予支撑。惟,铁氟龙所形成的V槽304的厚度及深度会阻挡水流,使光学元件40被夹持的部份清洗不干净,再者在清洗过程中,若夹持光学元件40太松,光学元件40无法承受后期超音波震荡而脱落。或夹持太紧,光学元件40不易放入及不易取出,容易造成损坏。

发明内容
有鉴于此,有必要提供一种可有效辅助清洗光学元件的治具。
一种用于清洗光学元件的治具,其中,包括一个盖体及至少一个本体。该盖体至少开设一个第一通孔。该本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔,该第二通孔具有一个第一开口与一个第二开口,盖体与本体配合时,第一开口较第二开口更接近该盖体,可使盖体与本体配合清洗时,于本体中形成至少一个用于收容光学元件的收容空间,该收容空间限定该光学元件,以防止该光学元件从第一通孔或第二通孔的第二开口脱落。
所述的治具,在盖体与本体配合清洗时,可形成用于收容待清洗的光学元件的收容空间,光学元件在收容空间内有活动的空间,不会阻挡清洗液的流动,使光学元件在清洗过程中可全面接触清洗液,从而可被全面清洗,提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中,光学元件被限定在收容空间内,不会造成脱落;清洗完毕后,只需将盖体与本体分离,便可方便地取出光学元件。


图1为现有技术的一种用于清洗光学元件的治具的使用状态示意图。
图2为本发明第一实施例提供的一种用于清洗光学元件的治具截面示意图。
图3为图2所示治具的一种盖体的一个平面示意图。
图4为图2所示治具的另一种盖体的一个平面示意图。
图5为图2所示治具的一种本体的一个平面示意图。
图6为图5所示治具的一种本体的一个剖面示意图。
图7为图2所示治具的另一种本体的一个平面示意图。
图8为图2所示治具在清洗过程中的一个使用状态示意图。
图9为图2所示治具在清洗过程中的另一个使用状态示意图。
图10为本发明第二实施例提供的一种用于清洗光学元件的治具剖面示意图。
图11为图10所示治具在清洗过程中的一个使用状态示意图。
具体实施例方式
下面将结合附图对本发明实施例作进一步的详细说明。
请参阅图2,本发明第一实施例提供一种治具10,该治具10包括一个盖体100及一个本体200。该治具10的材料为铝、铝合金、不锈钢、钛合金、铜和耐热工程塑料中的一种,并可以使用CNC加工技术加工制作该治具10。
盖体100开设有多个第一通孔102,该多个第一通孔102是相隔一定的距离而开设在盖体100上。本实施例中,如图3所示,该多个第一通孔102为圆形孔。当然,该多个第一通孔102也可为方形孔,如图4所示,或及其他形状,如三角形孔,菱形孔等。
本体200开设有多个与盖体100的多个第一通孔102相对应的第二通孔202,如图5所示。每个第二通孔202圆形孔,其具有一个第一开口204与一个第二开口206,第一开口204的孔径比第一通孔102的孔径及第二开口206的孔径大,如图6所示。当盖体100与本体200配合使用时,第一开口204较第二开口206更接近盖体100。优选的,当盖体100与本体200配合时,该第一开口204与第二开口206为同心开设在本体200中,及第二通孔202与第一通孔102同心开设于治具10上。本实施例中,该第二通孔200的截面为一级阶梯。如此,当盖体100与本体200相叠起配合使用时,就会于本体200中形成多个用于收容待清洗光学元件的收容空间300,该收容空间300限定该光学元件,以防止该光学元件从第一通孔102或第二通孔202的第二开口206脱落。需要指出的是,该多个第二通孔200也可为方形孔,如图7所示,或其他形状,如三角形孔、菱形孔等。
优选的,盖体100的第一通孔102的孔径与本体200的第二通孔202的第二开口206的孔径相同,且该孔径比待清洗的光学元件的尺寸要小。而本体200的第一开口204的孔径比待清洗的光学元件的尺寸要大。如待清洗的光学元件是圆形,则第一通孔102与第二开口206的孔径要比该圆形光学元件的直径小,而第一开口204的孔径比该圆形光学元件的直径大。另外,当盖体100与本体200配合使用时,为了可以收容待清洗的光学元件,第一开口204的深度应比待清洗的光学元件的厚度大。例如,对于直径3.5毫米(mm)、厚0.3mm的待清洗光学元件,可将盖体100的第一通孔102的孔径设计为直径等于3.2±0.1mm,而第二通孔202的第一开口204的孔径设计为直径等于3.7±0.1mm,及第二开口206的孔径设计为直径等于3.2±0.1mm。而第二通孔202的第一开口204的深度则比待清洗光学元件的厚度大,如第一开口204的深度为0.6±0.1mm,及第二开口206的深度为0.6±0.1mm。
为了避免在清洗光学元件时,盖体100与本体200发生移位或脱落,可于盖体100的四个角落的开设四个第一螺孔104,如图3所示,及于本体200开设四个与该四个第一螺孔104相对应的第二螺孔208,如图5所示,最后以螺丝400及螺帽500锁住四个角落,如图8所示,从而可固定盖体100与本体200的相对位置,保证清洗过程能顺利完成。当然,也可以使用其他手段固定盖体100与本体200的相对位置,如以多个夹子600将盖体100与本体200夹住,如图9所示。
请再次参阅图8及图9,当清洗玻璃或塑料镜片20,或其他光学元件前,首先,将待清洗的光学元件20自第二通孔202的第一开口204中放进本体200中,然后,将盖体100、本体200叠起并使第二通孔202的第一开口204较第二开口206更接近盖体100,再以上述的固定手段或其他固定手段固定盖体100与本体200的相对位置。
请参阅图10,本发明第二实施例提供一种治具10’,该治具10’与第一实施例提供的治具10的不同之处在于,该治具10’包括一个盖体100及两个本体200,该盖体100与两个本体200为堆叠设置在一起。该两个本体200的第二通孔与盖体100的第一通孔同心设置在治具10’上。需要指出的是,本体200的数目也可以三个或以上。
请参阅图11,当使用治具10’用于清洗光学元件20时,上一个本体200可以作为下一个本体200的盖体,从而可节省治具的制造成本,并可达到批量清洗光学元件20的目的,有效缩短批量生产光学元件20的制造工时。可以理解的是,用于固定该盖体100与多个本体200的相对位置可采用本发明第一实施例提供的固定手段;当该两个本体200与盖体100配合时,盖体100的通孔与本体200的通孔较佳地同心开设于该治具10’上。
本实施例提供的治具10,通过本体200上开设的不同孔径的开口,及盖体100与本体200配合形成用于收容待清洗的光学元件20的收容空间300,光学元件20在收容空间300内有活动的空间,不会阻挡清洗液的流动,使光学元件20在清洗过程中可全面接触清洗液,从而可被全面清洗,提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中,光学元件20被限定在收容空间300内,不会造成脱落;清洗完毕后,只需将盖体100与本体200分离,便可方便地取出光学元件20。一个盖体100与多个本体200配合使用,更可达到批量清洗光学元件20的目的,有效缩短批量生产光学元件20的制造工时。
另外,本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化,如通孔形状的变化,盖体及/或本体的形状变化,及本体数目的变化。当然,这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1.一种用于清洗光学元件的治具,其特征在于,包括一个盖体,该盖体至少开设一个第一通孔;及一个本体,该本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔,该第二通孔具有一个第一开口与一个第二开口,盖体与本体配合时,第一开口较第二开口更接近该盖体,可使盖体与本体配合清洗时,于本体中形成至少一个用于收容光学元件的收容空间,该收容空间限定该光学元件,以防止该光学元件从第一通孔或第二通孔的第二开口脱落。
2.如权利要求1所述的治具,其特征在于,所述的第一通孔为圆形通孔或方形通孔。
3.如权利要求2所述的治具,其特征在于,所述的第二通孔为圆形通孔或方形通孔。
4.如权利要求3所述的治具,其特征在于,所述的第二通孔的截面为阶梯形状。
5.如权利要求1所述的治具,其特征在于,所述的第一开口与第二开口为同心开设在本体上。
6.如权利要求5所述的治具,其特征在于,所述的盖体与本体配合时,第一通孔与第二通孔同心开设在该治具上。
7.如权利要求1所述的治具,其特征在于,所述的盖体进一步包括位于其四个角落的四个第一螺孔,及本体进一步包括四个与该四个第一螺孔相对应的第二螺孔。
8.如权利要求1所述的治具,其特征在于,所述的治具进一步包括另一个相同的本体,当该两个本体与盖体配合时,该两个本体的第二通孔与第一通孔为同心开设在治具上。
9.如权利要求1所述的治具,其特征在于,所述的治具是用至少一个夹子将盖体与本体配合在一起以固定盖体与本体的相对位置。
全文摘要
本发明涉及一种用于清洗光学元件的治具,其包括一个盖体及至少一个本体。盖体至少开设一个第一通孔。本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔,该第二通孔具有一个第一开口与一个第二开口,盖体与本体配合时,第一开口较第二开口更接近盖体,使盖体与本体配合时,于本体中形成一个用于收容光学元件的收容空间,收容空间限定光学元件。所述治具在盖体与本体配合时可形成用于收容待清洗的光学元件的收容空间,清洗时,不会阻挡清洗液的流动,使光学元件在清洗过程中可全面接触清洗液,提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中,光学元件被限定在收容空间内,不会造成脱落;清洗完毕后,只需将盖体与本体分离,便可方便地取出光学元件。
文档编号B25B11/00GK101088637SQ20061006113
公开日2007年12月19日 申请日期2006年6月14日 优先权日2006年6月14日
发明者董才士, 李欣和 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司
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