专利名称：用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种新型用途的聚丙烯基膜及其制造方法，特别是用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法。利用此种基膜可以加工出具有镭射效果的产品，并通过镭射转移，从而达到对被包装商品装饰、装璜或防伪效果。
本发明的解决技术方案是，基膜由上表层、芯层、下表层构成，上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体，芯层位于上表层、下表层之间，其中下表层为转移层。
上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。
生产基膜的上表层、芯层、下表层的原辅材料的组份按如下比例混合配制
上表层二元共聚聚丙烯65％；三元共聚聚丙烯29％-31％；防粘剂4-6％芯层均聚聚丙烯99.5-99.8％；脱模剂0.2-0.5％；下表层均聚聚丙烯99.2-99.5％；脱模剂0.5-0.8％。
本发明的制造工艺，工艺流程为首先经原辅料选型，再将原辅材料按配方配比混合，拌合均匀，将拌合均匀的原辅材料送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道，经模头、铸片装置，共挤成厚片，厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜，薄膜的厚度采用自动测厚装置调节，达到规定厚度的薄膜经电晕处理以增强薄膜表面张力，再将经电晕处理后的薄膜牵引成大卷膜，再将大卷膜送入时效处理装置，然后经过分切制成基膜成品。
在拉伸工序中，制作基膜的厚片可以根椐生产设备的条件，选用两步拉伸或同步拉伸。
本发明有的优点是，由于该基膜所用原材料主要为均聚聚丙烯，该原材料的市场价格比其它同类用途的基膜生产原材料低，双向拉伸工艺生产效率高，生产成本低，且用户可用此种基膜直接进行压印蒸镀加工，因此，可以满足用户所要求的镭射效果、蒸镀效果和转移效果，同时大大降低了产品的成本。
图2是本发明的基膜生产工艺流程图。
如
图1所示，本发明的基膜由上表层1、芯层2、下表层3构成，上表层1、芯层2、下表层3通过设备热熔、共挤形成整体，芯层2位于上表层1、下表层3之间，其中下表层3为转移层，上表层1、下表层3的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。
构成上述基膜的上表层1、芯层2、下表层3的原辅材料的组份按如下比例配比上表层1 二元共聚聚丙烯65％，三元共聚聚丙烯29-31％防粘剂4-6％芯层2均聚聚丙烯99.5-99.8％脱模剂0.2-0.5％下表层3 均聚聚丙烯99.2-99.5％脱模剂0.5-0.8％其中，均聚聚丙烯的熔融指数为3.2-3.5g/10min，二元共聚聚丙烯的熔融指数为6-8g/10min，三元共聚聚丙烯的熔融指数为7-9g/min，防粘剂可选用AB6072PP或AB6075PP，脱模剂可选用KS-61或YG-44。
如图2所示，本发明的生产的基本工艺，首先经原辅材料选型，再将原辅材料按配方配比混合，拌合均匀，将拌合均匀的原辅材料送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道，经模头、铸片装置，共挤成厚片，厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜，薄膜的厚度采用自动测厚装置调节，达到规定厚度的薄膜经电晕处理以增强薄膜表面张力，再将经电晕处理后的薄膜牵引成大卷膜，再将大卷膜送入时效处理装置，然后经过分切制基膜成品。在拉伸工序中，制作基膜的厚片可以根据生产设备的条件，选用两步拉伸或同步拉伸。
实施例一按上述工艺，原辅材料按，在上表层1中二元共聚聚丙烯为64％，三元共聚聚丙烯为30％，防粘剂为6％；在芯层2中均聚聚丙烯为99.5％，脱模剂为0.5％；在下表层3中均聚聚丙烯为99.2％，脱模剂为0.8％；将上述选配好的原辅材料分别混合并拌合均匀，再将拌合均匀的原辅材料，送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道经模头铸片装置共挤成厚片，厚片经聚丙烯双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸后厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜，薄膜的厚度采用自动测厚装置调节，达到规定厚度的薄膜经电晕处理，以增强薄膜表面张力，再将薄膜牵引成大卷，将大卷进入时效处理装置，周期为三天，然后经过分切制造成成品(基膜)。按此方案生产出的基膜产品适用于一般镭射转移制品的加工。
实施例二将原辅材料按，在上表层1中二元共聚聚丙烯为65％，三元共聚聚丙烯为31％，防粘剂为4％；在芯层2中均聚聚丙烯为99.8％，脱模剂为0.2％；在下表层3中均聚聚丙烯为99.5％，脱模剂为0.5％；此实施例的工艺同实施例一。按此方案生产出的基膜产品适用于局部定向镭射转移制品的加工。
实施例三此方案为最佳实施方案，将原辅材料按，在上表层1中二元共聚聚丙烯为65％，三元共聚聚丙烯为35％，防粘剂为5％；在芯层2中均聚聚丙烯为96.5％，脱模剂为0.35％；在下表层3中均聚聚丙烯为99.35％，脱模剂为0.65％；此实施例的工艺同实施例一。按此方案生产出的基膜产品不仅适用于普通用途镭射转移制品的加工。而且用于局部，整体压印转移效果理想。
权利要求
1.用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，基膜由上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)构成，上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)通过热熔、共挤成为一体，芯层(2)位于上表层(1)、下表层(2)之间，其中下表层(3)为转移层。
2.根据权利要求1所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，上表层(1)、下表层(3)的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。
3.根据权利要求1所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，生产基膜的上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)的原辅材料的组份按如下比例混合配制上表层(1)二元共聚聚丙烯65％；三元共聚聚丙烯29％-31％；防粘剂4-6％；芯层(2)均聚聚丙烯99.5-99.8％；脱模剂0.2-0.5％；下表层(3)均聚聚丙烯99.2-99.5％；脱模剂0.5-0.8％；
4.根据权利要求1所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜的制造方法，其工艺流程为首先经原辅料选型，再将原辅材料按配方配比混合，拌合均匀，将拌合均匀的原辅材料送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道，经模头、铸片装置，共挤成厚片，厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜，薄膜的厚度采用自动测厚装置调节，达到规定厚度的薄膜经电晕处理以增强薄膜表面张力，再将经电晕处理后的薄膜牵引成大卷膜，再将大卷膜送入时效处理装置，然后经过分切制成基膜成品。
5.根据权利要求4所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜的制造方法，其特征在于，在拉伸工序中，制作基膜的厚片可以根椐生产设备的条件，选用两步拉伸或同步拉伸。
全文摘要
本发明涉及用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法。基膜由上表层、芯层、下表层构成,上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体。下表层为转移层。生产基膜的上表层、芯层、下表层的原辅材料的组份按比例混合配制。本发明的制造方法是,将原辅材料按配方配比混合,送入挤出机塑化成熔体,熔体通过管道,经模头、铸片装置共挤成厚片,厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜。本发明的优点是,由于基膜所用原材料主要为均聚聚丙烯,该原材料的市场价格比其它同类用途的基膜生产原材料低,双向拉伸工艺生产效率高,生产成本低,且用户可用此种基膜直接进行压印蒸镀加工。
文档编号B32B27/32GK1362328SQ0211
公开日2002年8月7日 申请日期2002年1月11日 优先权日2002年1月11日
发明者栾德海, 江畅, 陈德超, 褚峰林 申请人:中包云梦塑料薄膜厂