专利名称：转印膜、树脂积层体及它们的制造方法
技术领域：
本发明涉及转印膜、树脂积层体以及它们的制造方法。
背景技术：
丙烯酸树脂和聚碳酸酯树脂等透明树脂被广泛应用于工业用材料、建筑用材料等各种材料。特别是在近年，由于其透明性和耐冲击性，被用作CRT、液晶电视、等离子体显示器等各种显示器的前面板等。近年，对于前面板，要求赋予其各种功能。举例说，所要求的功能之一就是防反射功能。防反射功能是减少照射到前面板上室内荧光灯等的反射光，使图像显示更加鲜明的 功能。作为赋予防反射功能的方法，例如有在前面板的表面形成防反射层的方法。另外，在防反射层的表面，进一步还要求赋予其具有疏水功能及疏油功能的防止污染(防污)功能。因为，若在防反射层的表面粘附了污溃，该处的变色会很显眼，使得图像显示部件的视觉分辨性能降低。针对这种情况，已知有的方法是，在弯曲性小的塑料板等基材的表面形成各种功能层的方法，例如，如专利文献I所公开的，在塑料膜的单面至少具有硬涂层(b)和薄膜涂布层(C)，在塑料膜的另一面，基材的表面粘合具有粘合层(d)的耐刮擦性、防污性、防反射性等性能优异的膜。但是，由于成为用于形成功能层的基材的塑料膜的存在，所以产生了Haze值(雾度值)上升、切断时膜剥离的问题、二次加工性困难的问题、耐久试验(80°C )中膜和基材界面产生气泡的问题等。为了解决这些问题，专利文献2中提议一种功能性层转印膜，在材料的表面用转印法积层上功能性层，在基材的一个面按顺序设置了为赋予功能性层而使用的防污层和功能性层，并且使防污层中氟的质量比例，在所述基材侧比所述功能性层中分布地多。作为形成所述防污层的方法之一，使用了传统的全氟烷基防污剂。但是，通过将其如直接印刷一样进行涂布的湿式方法形成防污层时，可使防污层中氟的质量比例在所述功能层侧分布较多，转印后得到的材料表面存在未能赋予充分的防污功能的问题。专利文献2为解决该问题，提议的方法是通过等离子体CVD法等干式方法制作带有防污层的转印膜。然而，专利文献2中公开的方法，制造成本高，需要进一步改进。作为解决上述干式法中问题的方法，例如，专利文献3中提议了防反射用转印膜，在塑料膜的单面依次积层上脱模层、具有防污性的功能性层、防反射层以及粘合层。然而，所述转印膜使用的脱模用膜(具有脱模层的塑料膜)的被脱模的表面，由于其表面张力高，因此对于在基材上转印得到积层体的防污性，虽然疏水性能优异，但是疏油性能却不充分。鉴于这些情况，期待有一种转印膜，该转印膜可以提供树脂积层体，该树脂积层体使用表面张力高的膜，可以积层防反射层等功能层，形成有通过湿式法形成的防污层，疏水性及疏油性均优异，且透明性、耐刮擦性以及耐汗性均优异。
现有技术 专利文献
专利文献I :日本专利特开2000-94584号公报 专利文献2 :日本专利特开2005-96322号公报 专利文献3 :日本专利特开2003-103680号公报
发明内容
本发明要解决的课题本发明的目的在于提供一种转印膜及其制造方法，该转印膜可用来制造积层体， 该积层体使用表面张力高的膜，可以积层上防反射层等功能层，通过湿式法形成有防污层，疏水性及疏油性均优异，且透明性、耐刮擦性以及耐汗性均优异。另外，本发明的目的还在于提供一种树脂积层体及其制造方法，该树脂积层体的疏水性及疏油性优异，且透明性、耐刮擦性及耐汗性优异。
解决课题的手段本发明涉及的转印膜是在透明基材膜的表面积层有防污固化膜的转印膜，防污固化膜其与透明基材膜非接触的面的水接触角(I)在100度以下，防污固化膜其与透明基材膜接触的面的水接触角(2)在90度以上、甘油三油酸酯接触角(α)在55度以上。本发明涉及的转印膜是在透明基材膜的表面积层了防污固化膜的转印膜，在防污固化膜其与透明基材膜接触的面，通过X射线光电子分光分析，氮原子(N)和氟原子(F)的组成比(N/F)在O. 110以下。本发明涉及的转印膜，所述防污固化膜是由含有全氟聚醚基和氮原子的单体(A)与含有无机微粒子的防污组合物固化而成的。本发明涉及的转印膜，所述无机微粒子表面是对水解性硅烷化合物进行表面处理。本发明涉及的转印膜，含有所述全氟聚醚基和氮原子的单体(A)是下述式(I)表示的化合物。[化I]
权利要求
1.一种在透明基材膜的表面积层了防污固化膜的转印膜，其中， 防污固化膜其与透明基材膜非接触的面的水接触角(I)在100度以下； 防污固化膜其与透明基材膜接触的面的水接触角(2)在90度以上，甘油三油酸酯接触角U)在55度以上。
2.一种在透明基材膜的表面积层了防污固化膜的转印膜，其中， 防污固化膜其与透明基材膜接触的面，通过X射线光电子分光分析，氮原子(N)和氟原子(F)的组成比(N/F)在O. 110以下。
3.如权利要求I或2记载的转印膜，其中， 防污固化膜是将含有全氟聚醚基和氮原子的单体(A)与含有无机微粒子的防污组合物进行固化而成的。
4.如权利要求3记载的转印膜，其中， 无机微粒子是对表面以水解性硅烷化合物进行表面处理的。
5.如权利要求3或4记载的转印膜，其中， 含有全氟聚醚基和氮原子的单体(A)是下述式(I)表示的化合物， 式⑴
6.如权利要求I 5中任意一项记载的转印膜，其中，防污固化膜含有低折射率成分。
7.如权利要求I 6中任意一项记载的转印膜，其中，在防污固化膜其与透明基材膜非接触的面积层了粘合层。
8.如权利要求I 6中任意一项记载的转印膜，所述转印膜在透明基材膜的表面依次积层防污固化膜及功能层，其中， 功能层含有从低折射率层、高折射率层、硬涂层以及抗静电层中选出的至少I层。
9.如权利要求8记载的转印膜，其中， 在功能层与防污固化膜非接触的面积层了粘合层。
10.如权利要求7或9记载的转印膜，其中， 粘合层是含有热塑性树脂的热塑性树脂涂膜层，或者是含有活化能射线固化性组合物的固化性涂膜的层。
11.如权利要求I 10中任意一项记载的转印膜的制造方法，包括 在透明基材膜的表面，涂布防污组合物形成防污膜的工序； 使所述防污膜固化，形成防污固化膜的工序。
12.如权利要求11记载的转印膜的制造方法，其中，透明基材膜是芳香族聚酯化合物的透明基材膜。
13.如权利要求I 10中任意一项记载的转印膜的制造方法，包括 在透明基材膜的表面涂布防污组合物，形成防污膜的防污膜形成工序； 在所述防污膜的表面，涂布从醇、酯、醚、酮选出的至少I种液态有机化合物的液态有机化合物涂布工序； 使所述涂布的液态有机化合物挥发的挥发工序； 使防污膜固化形成防污固化膜的防污固化膜形成工序。
14.一种树脂积层体的制造方法，包括 将权利要求7或9记载的转印膜的粘合层与树脂基材粘合的工序； 从所述防污固化膜剥离所述透明基材膜，得到树脂积层体的工序。
15.如权利要求14记载的树脂积层体的制造方法，其中， 所述粘合层含有活化能射线固化性混合物，在将所述转印膜的粘合层与树脂基材粘合的工序之后，对粘合层照射活化能射线，使所述活性能射线固化性混合物固化，制成固化涂膜层。
16.通过如权利要求14或15记载的方法制造的树脂积层体，其中， 露出的防污固化膜表面的水接触角在90度以上， 甘油三油酸酯的接触角(α)在55度以上， 经X射线光电子分光分析，氮原子(N)与氟原子(F)的组成比(N/F)在O. 110以下。
全文摘要
本发明的目的在于提供一种转印膜及其制造方法，该转印膜可用来制造积层体，该积层体使用表面张力高的膜，可以积层上防反射层等功能层，通过湿式法形成防污层，疏水性及疏油性优异，且透明性、耐刮擦性以及耐汗性优异。本发明涉及的转印膜，是在透明基材膜的表面，积层了防污固化膜的转印膜，防污固化膜其与透明基材膜非接触的面的水接触角(1)在100度以下，防污固化膜其与透明基材膜接触的面的水接触角(2)在90度以上，甘油三油酸酯接触角(α)在55度以上。
文档编号B32B27/30GK102648091SQ201080046500
公开日2012年8月22日 申请日期2010年10月6日 优先权日2009年10月9日
发明者冈藤宏, 山泽英人, 川合治, 泽野哲哉, 诸冈昌彦 申请人:三菱丽阳株式会社