平板印刷版原版的制作方法

文档序号:2477807阅读:382来源:国知局
专利名称:平板印刷版原版的制作方法
技术领域
本发明涉及阳片平板印刷版原版,更具体而言,涉及阳片平板印刷版原版,该印刷版原版用于所谓的直接制版,从数字信号,例如计算机的数字信号,直接制成印刷版。
背景技术
平板印刷是一种使用印刷版的印刷方法,所用的印刷版包括一个接受油墨的亲油区和一个油墨排斥区(亲水区),该亲水区不接受油墨,但接受润湿水。目前在平板印刷中广泛使用光敏或预敏化平板印刷版原版(PS版)。
在PS版支撑构件上,例如铝基片上有一层光敏层,这种PS版是可以商购的,并被广泛使用。PS版非图象区的光敏层通过成影象的曝光和显影而被除去,PS版在印刷中利用的是其支撑构件表面的亲水性和图象区域光敏层的亲油性。在这种印刷版中,为了防止非图象区的起渣,需要支撑构件表面具有高度的亲水性。
以前,当平板印刷版中采用亲水支撑构件或亲水层时,一般使用阳极化铝版,或硅酸盐处理的阳极化铝版以进一步增加其亲水性。而且,对使用这种铝版的亲水支撑构件或亲水层进行了积极的研究。例如,已经提出一种用聚乙烯磺酸内涂敷的支撑构件(如随后参考专利1中的实例),以及一种用内涂层中的含磺酸基的聚合物作为光敏层的技术(如下列的参考专利2)。另外,还提出了一种用聚乙烯苯甲酸作为内涂层材料的技术。
关于亲水层,当使用弹性支撑构件时,如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)或乙酸纤维素酯取代诸如铝之类的金属支撑构件时,已经提出了多种技术,例如由亲水性聚合物和疏水性聚合物组成的溶胀亲水层(如下列的参考专利3),含亲水性交联硅酸盐的微孔表面的PET支撑构件(如下列的参考专利4)以及包含亲水聚合物并用水解的四烷基原硅酸酯硬化的亲水层(如下列的参考专利5或6)。
这些亲水层使平板印刷版在亲水性上与现有技术相比改善了,而且在开始印刷操作时避免了起渣,但是存在如下缺点如在印刷过程中剥落或者长时间后失去亲水性。出于这些原因,需要一种平板印刷版原版,其中亲水层不会从支撑构件上剥落,即使是在更苛刻的印刷条件下其表面也不会失去亲水性,而且能够进行大量印刷而不起渣。从实用角度考虑,目前在亲水性方面还需要进一步改善。
参考专利1JP-A No.7-18532JP-A No.5901016513JP-A No.8-2925584欧洲专利No.709,2285JP-A No.8-2720876JP-A No.8-507727发明内容本发明是出于上述情况的考虑进行的,并提供使用具有亲水表面的支撑构件的平板印刷版原版,该版具有很高的亲水性和极好的耐用性,因而改善了印刷品起渣现象,并且即使是在苛刻的印刷条件下仍能够提供大量高质量的印刷品。
本发明人发现,通过在铝基片上结合一种亲水性聚合物,该聚合物含能够和铝版表面键合的活性基团,可实现上述设想,从而达到本发明的目的。
更具体而言,本发明的平板印刷版原版包括支撑体,包括铝基片和其上放置的亲水层,亲水层是通过化学键合亲水性聚合物而形成的,该聚合物含一个能够和该铝基片表面化学键合的活性基团,其作用方式可以是直接键合也可以是通过一个含交联结构的结构组分键合;和放置在支撑体上的阳片记录层,包括用于吸收光和产生热量的材料,以及不溶于水但溶于碱的聚合物;其中阳片记录层在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加。
优选在亲水聚合物的末端含有能够直接或者通过含交联结构的结构组分和铝基片表面化学键合的活性基团。
其中,通过含交联结构的结构组分和铝基片表面化学键合的亲水表面的优选具体实例为这样一种构型,其中亲水性表面具有通过醇盐化合物水解或缩聚形成的交联结构,醇盐中含选自Si、Ti、Zr或Al的元素。
更具体而言,本发明采用的亲水聚合物可以是由如下通式(1)或(2)表示的聚合物通式(1)(R1)m(OR2)3-m-Si-L3- (iii)通式(1)表示聚合化合物,在其结构单元(i)和(ii)表示的聚合单元末端含由结构单元(iii)表示的硅烷偶合基,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烃基;m代表0、1或2;n表示1~8的整数;x和y各表示一种组成比例,其中x+y=100,x∶y为100∶0~1∶99。同样,L1、L2和L3独立地表示单键或有机连接基;Y1和Y2独立地表示-N(R7)(R8)、-OH、-NHCOR7、-COR7、-CO2M或-SO3M,其中R7和R8独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烷基,M表示氢原子、碱金属、碱土金属或鎓。
通式(2) 其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烃基;m代表0、1或2;x和y各表示一种组成比例,其中x+y=100,x∶y为99∶1~50∶50。同样,L1、L2独立地表示单键或有机连接基;Y1表示-N(R7)R8)、-OH、-NHCOR7、-COR7、-CO2M或-SO3M,其中R7和R8独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烷基,M表示氢原子、碱金属、碱土金属或鎓。
更优选将含如下通式(3)所示交联组分的亲水性涂液和亲水性聚合物一起制备,涂在铝基片表面上并使其干燥,从而可以容易地形成具有强坚固交联结构的亲水性表面通式(3) 其中R9和R10独立地表示烷基;X表示Si、Al、Ti或Zr;m代表0~2的整数。
目前本发明的机理还没有澄清,但是有如下假设。在本发明采用的支撑构件中,因为含亲水基的聚合物在其分子中还含有能够直接或者通过含交联结构的结构组分与铝基片表面化学键合的活性基团,这种亲水聚合物通过和铝基片表面上存在的诸如-Al3+或-OH的官能团发生偶合反应而牢固地键合。另一方面,亲水基并没有参与和铝基片的这种键合反应,依然保持着相对自由状态,因此可以同时实现牢固键合和高亲水性。此外,在优选实施方案中,由于亲水基是通过醇盐化合物水解或缩聚形成的交联结构而粘附在铝基片上的,该醇盐化合物具有接枝结构以及含选自Si、Ti、Zr和Al的元素,假设亲水表面组成了高亲水性和高强度的膜,其中作为接枝链引入的亲水基以游离状态在表面聚集,且通过醇盐化合物的水解或缩聚形成高密度交联结构的有机-无机复合膜。
在本发明平板印刷版原版的结构中包含阳片记录层,其在碱性溶液中的溶解度通过曝光而增加,该记录层位于含上述亲水表面的支撑构件上,平板印刷版原版的这种结构使其能够表现出极好的亲水性,这种亲水性是通过用碱性显影液在曝光后迅速移走曝光区的阳片记录层时在暴露区域的亲水表面而表现出来的。因此推测有可能提高或者降低印刷操作时提供的喷射液的冲、放速率,以利用这种极好的亲水性能来有效地抑制非图象区域的起渣现象,并通过亲水表面的交联结构保持其亲水性,从而提供在非图象区没有起渣现象的、具有满意图象质量的印刷品(即使是在大量印刷之后),并因此实现高的印刷运转周期。
具体实施例方式
下面将详细描述本发明的平板印刷版原版。
本发明的平板印刷版原版包含,在其支撑构件上,铝基片上(以后适宜地简称为“基片”),通过化学键合亲水性聚合物而形成的亲水表面,该亲水聚合物含至少一个能够直接和基片表面化学键合的活性基以及能够通过具有交联结构的结构组分和基片表面化学键合的活性基(这种聚合物以后适当地称作“特定亲水聚合物”),阳片记录层,该记录层包括能够吸光生热的基质和不溶于水但溶于碱的聚合物,且聚合物在碱性水溶液的溶解度通过曝光而增加。
下面将解释本发明平板印刷版原版中的支撑构件和阳片记录层。<支撑构件>(特定亲水聚合物)首先解释在本发明支撑构件中采用的特定亲水聚合物。
所用的特定亲水聚合物可以是任何类型的这样一种聚合物,该聚合物有一个能够直接或者通过含交联结构的结构组分和基片表面化学键合的活性基团,其活性基可以在亲水聚合物的末端,也可以位于侧链上,并且可以有亲水性基团。
这种特定亲水聚合物优选含作为活性基团的交联基,例如烷氧基,这种交联基可以通过和铝基片表面上存在的诸如-Al+3或-OH的官能团发生偶合反应而键合,或者通过这种交联基水解或缩聚而形成的交联结构结合到基片上。这种和基片的结合是通过制备含特定亲水聚合物的亲水涂液、涂在基片表面上并使液体干燥而实现的。后一种方法制备的交联结构可以很容易地形成耐用性极好的牢固亲水性表面,因而是本发明的优选实施方案。这种交联结构在本发明中将被称作“溶胶-凝胶交联结构”。
而且,优选交联基为醇盐化合物,该醇盐化合物含选自Si、Ti、Zr和Al的一种元素,从反应性和实用性考虑,优选Si醇盐,更确切而言,可以方便地采用可作为硅烷偶联剂的化合物。
下面将详细解释本发明支撑构件中亲水表面的优选实施方案。
本发明采用的特定亲水聚合物并没有特别的限制,只要分子中含有至少一个亲水基以及上述的特定活性基,但是优选实施方案包括由如下通式(1)或(2)表示的结构。(通式(1)表示的特定亲水聚合物)下列通式(1)表示的特定亲水聚合物(以后偶尔称作“特定亲水聚合物(1)”),在其末端含一个硅烷偶合基通式(1)(R1)m(OR2)3-m-Si-L3- (iii)通式(1)表示的特定亲水聚合物必须在其聚合物单元(由结构单元(i)和(ii)表示)两端的至少一端上含有结构单元(iii)表示的硅烷偶合基,但是可以在另一端含这种官能团,且还可以含氢原子或具有启动聚合能力的官能团。
通式(1)中,m表示0、1或2;R1、R2、R3、R4、R5和R6每个独立地表示氢原子或含8个或更少碳原子的烃基。烃基可以是烷基或芳基,优选含8个或更少碳原子的直链、支化或环状的烷基。具体实例包括甲基,乙基,丙基,丁基,戊基,己基,庚基,辛基,异丙基,异丁基,仲-丁基,叔-丁基,异戊基,新戊基,1-甲基丁基,异己基,2-乙基己基,2-甲基己基和环戊基。
从效果和可用性考虑,优选R1~R6每个都是氢原子、甲基或乙基。
这种烃基还可以含取代基。
在烷基含取代基的情况下,取代的烷基是通过键合取代基和亚烷基而形成的,作为取代基,可以采用氢原子外的非金属原子基。优选实例包括卤素原子(-F、-Br、-Cl、-I),羟基,烷氧基,芳氧基,巯基,烷硫基,芳硫基,烷基二硫基,芳基二硫基,氨基,N-烷基氨基,N,N-二芳基氨基,N-烷基-N-芳基氨基,酰氧基,氨基甲酰氧基,N-烷基氨基甲酰氧基,N-芳基氨基甲酰氧基,N,N-二烷基氨基甲酰氧基,N,N-二芳基氨基甲酰氧基,N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基,烷基硫氧基(sulfoxy),芳基硫氧基,酰基硫基,酰氨基,N-烷基酰氨基,N-芳基酰氨基,脲基,N’-烷基脲基,N’,N’-二烷基脲基,N’-芳基脲基,N’,N’-二芳基脲基,N’-烷基-N’-芳基脲基,N-烷基脲基,N-芳基脲基,N’-烷基-N-烷基脲基,N’-烷基-N-芳基脲基,N’,N’-二烷基-N-烷基脲基,N’,N’-二烷基-N-芳基脲基,N’-芳基-N-烷基脲基,N’-芳基-N-芳基脲基,N’,N’-二芳基-N-烷基脲基,N’,N’-二芳基-N-芳基脲基,N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基,N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基,烷氧羰基氨基,芳氧羰基氨基,N-烷基-N-烷氧羰基氨基,N-烷基-N-芳氧羰基氨基,N-芳基-N-烷氧羰基氨基,N-芳基-NN-芳氧羰基氨基,甲酰基,酰基,羧基,烷氧羰基,芳氧羰基,氨基甲酰基,N-烷基氨基甲酰基,N,N-二烷基氨基甲酰基,N-芳基氨基甲酰基,N,N-二芳基氨基甲酰基,N-烷基-N-芳基氨基甲酰基,烷基亚磺酰基,芳基亚磺酰基,烷基磺酰基,芳基磺酰基,磺基(-SO3H)及其共轭碱(以后称作磺酸根基(sulfonato)),烷氧磺酰基,芳氧磺酰基,氨基亚磺酰基(sulfinamoyl),N-烷基氨基亚磺酰基,N,N-二烷基氨基亚磺酰基,N-芳基氨基亚磺酰基,N,N-二芳基氨基亚磺酰基,N-烷基-N-芳基亚磺酰基,氨磺酰基,N-烷基氨磺酰基,N,N-二烷基氨磺酰基,N-芳基氨磺酰基,N,N-二芳基氨磺酰基,N-烷基-N-芳基氨磺酰基,膦酰基(-PO3H2)及其共轭碱(以后称作膦酸根基(phosphonato)),二烷基膦酰基(-PO3(烷基)2),二芳基膦酰基(-PO3(芳基)2),烷基芳基膦酰基(-PO3(烷基)(芳基)),一烷基膦酰基(-PO3H(烷基))及其共轭碱(以后称作烷基-膦酸根基),一芳基膦酰基(-PO3(芳基))及其共轭碱(以后称作芳基膦酸根基),膦酰氧基(-OPO3H2)及其共轭碱(以后称作膦酸根基氧基),二烷基膦酰氧基(-OPO3(烷基)2),二芳基膦酰氧基(-OPO3(芳基)2),烷基芳基膦酰氧基(-OPO(烷基)(芳基)),一烷基膦酰氧基(-OPO3H(烷基))及其共轭碱(以后称作烷基膦酸根基氧基),一芳基膦酰氧基(-OPO3H(芳基))及其共轭碱(以后称作芳基膦酸根基氧基),吗啉代,氰基,硝基,芳基,链烯基和炔基。
这些取代基中,烷基的具体实例包括上述的烷基,芳基的具体实例包括苯基,联苯基,萘基,甲苯基-2,二甲苯基,2,4,6-三甲苯基,枯烯基,氯苯基,溴苯基,氯甲基苯基,羟苯基,甲氧苯基,乙氧苯基,苯氧苯基,乙酰氧苯基,苯甲酰氧苯基,甲硫基苯基,苯硫基苯基,甲氨基苯基,二甲氨基苯基,乙酰氨基苯基,羧苯基,甲氧羰苯基,乙氧羰苯基,苯氧羰苯基,N-苯基氨基甲酰苯基,苯基,氰苯基,磺苯基,磺酸根基苯基,膦酰苯基和膦酸根基苯基。链烯基的实例包括乙烯基,1-丙烯基,1-丁烯基,肉桂基和2-氯-1-乙烯基。炔基的实例包括乙炔基,1-丙炔基,1-丁炔基和三甲代甲硅烷基乙炔基。酰基中(GlCO-),Gl可以是氢原子、烷基或上述的芳基。
这些取代基中,优选实例包括卤原子(-F、-Br、-Cl、-I),烷氧基,芳氧基,烷硫基,芳硫基,N-烷基氨基,N,N-二烷基氨基,酰氧基,N-烷基氨基甲酰氧基,N-芳基氨基甲酰氧基,酰氨基,甲酰基,酰基,羧基,烷氧羰基,芳氧羰基,氨基甲酰基,N-烷基氨基甲酰基,N,N-二烷基氨基甲酰基,N-芳基氨基甲酰基,N-烷基-N-芳基氨基甲酰基,磺基,磺酸根基(sulfonato),氨磺酰基,N-烷基氨磺酰基,N,N-二烷基氨磺酰基,N-芳基氨磺酰基,N-烷基-N-芳基氨磺酰基,膦酰基,膦酸根基(phosphonato),二烷基膦酰基,二芳基膦酰基,一烷基膦酰基,烷基膦酸根基,一芳基膦酰基,芳基膦酸根基,膦酰氧基,膦酸根基氧基,芳基和链烯基。
另一方面,取代烷基中的亚烷基可以是二价有机残基,该残基是通过消除上述含1~20个碳原子的烷基中的任一氢原子而形成的,优选为含1~12个碳原子的直链亚烷基,含3~12个碳原子的支化亚烷基或含5~10个碳原子的环状亚烷基。取代烷基的优选实例是通过将上述取代基和亚烷基合并得到的,包括氯甲基,溴甲基,2-氯乙基,三氟甲基,甲氧甲基,甲氧乙氧乙基,烯丙氧基甲基,苯氧甲基,甲硫基甲基,甲苯硫基甲基,乙氨基乙基,二乙氨基丙基,吗啉代丙基,乙酰氧甲基,苯甲酰氧甲基,N-环己基氨基甲酰氧乙基,N-苯基氨基甲酰氧乙基,乙酰氨基乙基,N-甲基苯甲酰氨基丙基,2-乙氧基,2-丙氧基,羧丙基,甲氧羰基乙基,烯丙氧基羰基丁基,氯苯氧羰基甲基,氨基甲酰基甲基,N-甲基氨基甲酰基乙基,N,N-二丙基氨基甲酰基甲基,N-(甲氧苯基)氨基甲酰基乙基,N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基甲基,磺丁基,磺酸根基丁基,氨磺酰基丁基,N-乙基氨磺酰基甲基,N,N-二丙基氨磺酰基丙基,N-甲苯基氨磺酰基丙基,N-甲基-N-(膦酰苯基)氨磺酰基辛基,膦酰基丁基,膦酸根基己基,二乙基膦酰基丁基,二苯基膦酰基丙基,甲基膦酰基丁基,甲基膦酸根基丁基,甲苯基膦酰基己基,甲苯基膦酸根基己基,膦酰氧丙基,膦酸根基氧丁基,苄基,乙氧苯基,α-甲基苄基,1-甲基-1-苯基乙基,对-甲基苄基,肉桂基,烯丙基,1-丙烯基甲基,2-丁烯基,2-甲基烯丙基,2-甲基丙烯基甲基,2-丙炔基,2-丁炔基和3-丁炔基。
通式(1)中,L1和L2各自独立地表示单键或有机连接基。当L1和L2都表示有机连接基时,每个L1和L2表示由非金属原子组成的多价连接性基团,更具体是由1~60个碳原子、0~10个氮原子、0~50个氧原子、1~100个氢原子和0~20个硫原子组成。更具体而言,连接基由如下任何一种结构单元或其组合体组成。
-CH2- -O- -S- L3也表示单键或有机连接基。当L3表示有机连接基时,它表示的是由非金属原子形成的多价连接性基团,更具体地,可以类似于上述的L1和L2。其中,特别优选的结构是-(CH2)n-S-,其中n表示1~8的整数。
同样,Y1和Y2各自独立地表示-N(R7)(R8),-OH,-NHCOR7,-COR7,-CO2M或-SO3M,其中R7和R8各自独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烷基,M表示氢原子、碱金属、碱土金属或鎓。同样当Y1和Y2为-CON(R7)(R8)时,R7和R8可以互相连接成环,形成的环可以是含诸如氧原子、硫原子或氮原子之类杂原子的杂环。R7和R8还可以含取代基,可引入的取代基可以类似于那些可用于R1~R6为烷基情况下的取代基。
R7和R8的优选实例包括甲基,乙基,丙基,丁基,戊基,己基,庚基,辛基,异丙基,异丁基,仲-丁基,叔-丁基,异戊基,新戊基,1-甲基丁基,异己基,2-乙基己基,2-甲基己基和环戊基。
M的实例包括氢原子;碱金属,例如锂、钠或钾;碱土金属,例如钙或钡;以及鎓,例如铵、碘鎓或锍。
Y1和Y2的优选实例还包括-NHCOCH3,-CONH2,-COOH,-SO3NMe4+和吗啉代基。
通式(1)中,x和y表示组成比例,其中x+y=100,x∶y为100∶0~1∶99,优选100∶0~5∶95。
优选特定亲水聚合物(1)的分子量为1,000~100,000,更优选为1,000~50,000,最优选为1,000~30,000。
关于本发明便于采用的特定亲水聚合物(1),其具体实例(1-1)~(1-23)将在下面显示,但是本发明并不局限于这些实例。

(合成特定亲水聚合物(1)的方法)本发明的特定亲水聚合物(1)可以用自由基聚合法合成,采用的是能够进行自由基聚合的单体和硅烷偶联剂,单体由下列结构单元(i)和(ii)表示,硅烷偶联剂用如下结构单元(iii)表示,且在自由基聚合中具有链移动性。因为硅烷偶联剂具有链移动性,在自由基聚合中可以合成出这样一种聚合物,在其主链的一端引入硅烷偶合基。
反应模式没有特别的限制,但可以在自由基聚合引发剂存在下,或者在高压汞灯的照射下进行本体反应,溶液反应或悬浮液反应。
优选这样进行聚合反应,将不饱和化合物分批加入或相继加入,以控制(iii)代表的结构单元引入的数量,并有效地抑制结构单元(i)或(ii)在聚合反应中的均聚。
结构单元(i)、(ii)和结构单元(iii)的反应比例没有特别的限制,但从抑制副反应或提高可水解硅烷化合物的产率考虑,优选1摩尔结构单元(iii)所对应的结构单元(i)、(ii)的数量为0.5~50摩尔,更优选1~45摩尔,最优选5~40摩尔。
通式(1)(R1)m(OR2)3-m-Si-L3- (iii)上述结构单元(i)、(ii)和(iii)中,R1~R6,L1~L3,Y1、Y2和m与前述通式(1)中的含义相同。这些化合物也是可商购的,且容易合成。
为了合成特定亲水聚合物(1),可以采用任何本领域已知的自由基聚合方法。更具体而言,可以应用如下文献中所述的一般自由基聚合方法,例如Shin Kobunshi Jikkengaku 3,Synthesis and reaction of polymer 1.(Polymer Society编辑,Kyoritsu Press),Shin Jikken Kagaku Koza 19,Polymerchemistry(I)(Chemical Society of Japan编辑,Maruzen),Busshitsu KogakuKoza,以及Polymer synthesis chemistry(Tokyo Electric University Press)中的等等方法。
特定亲水聚合物(1)还可以和其它单体共聚合,稍后进行解释。可用的其它单体可以是已知的单体,如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯基酯、苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、马来酐或马来酰亚胺。这种单体的共聚合作用可以改善各种物理性质,例如成膜性、膜强度、亲水性、疏水性、溶解性、反应性和稳定性。
丙烯酸酯的具体实例包括丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,丙烯酸(正-或异-)丙酯,丙烯酸(正-、异-、仲-或叔-)丁酯,丙烯酸戊酯,丙烯酸(2-乙基己酯),丙烯酸十二烷基酯,丙烯酸氯乙酯,丙烯酸(2-羟乙酯),丙烯酸(2-羟丙酯),丙烯酸(2-羟戊酯),丙烯酸环己酯,丙烯酸烯丙酯,三羟甲基丙烷一(丙烯酸酯),五赤藓醇一(丙烯酸酯),丙烯酸苯甲酯,丙烯酸甲氧苄酯,丙烯酸氯苯甲酯,丙烯酸羟基苄酯,丙烯酸羟基乙氧苯酯,丙烯酸二羟基乙氧苯酯,丙烯酸糠酯,丙烯酸四氢糠酯,丙烯酸苯酯,丙烯酸羟基苯酯,丙烯酸氯苯酯,丙烯酸氨磺酰基苯酯和丙烯酸[2-(羟苯基羰基氧)乙酯]。
甲基丙烯酸酯的具体实例包括甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸乙酯,甲基丙烯酸(正-或异-)丙酯,甲基丙烯酸(正-、异-、仲-或叔-)丁酯,甲基丙烯酸戊酯,甲基丙烯酸(2-乙基己酯),甲基丙烯酸十二烷基酯,甲基丙烯酸氯乙酯,甲基丙烯酸(2-羟乙酯),甲基丙烯酸(2-羟丙酯),甲基丙烯酸(2-羟戊酯),甲基丙烯酸环己酯,甲基丙烯酸烯丙酯,三羟甲基丙烷一(甲基丙烯酸酯),五赤藓醇一(甲基丙烯酸酯),甲基丙烯酸苯甲酯,甲基丙烯酸甲氧苄酯,甲基丙烯酸氯苯甲酯,甲基丙烯酸羟基苄酯,甲基丙烯酸羟基乙氧苯酯,甲基丙烯酸二羟基乙氧苯酯,甲基丙烯酸糠酯,甲基丙烯酸四氢糠酯,甲基丙烯酸苯酯,甲基丙烯酸羟苯酯,甲基丙烯酸氯苯酯,甲基丙烯酸氨磺酰基苯酯和甲基丙烯酸[2-(羟苯基羰基氧)乙酯]。
丙烯酰胺的具体实例包括丙烯酰胺,N-甲基丙烯酰胺,N-乙基丙烯酰胺,N-丙基丙烯酰胺,N-丁基丙烯酰胺,N-苄基丙烯酰胺,N-羟乙基丙烯酰胺,N-苯基丙烯酰胺,N-甲苯基丙烯酰胺,N-(羟苯基)丙烯酰胺,N-(氨磺酰苯基)丙烯酰胺,N-(苯基磺酰基)丙烯酰胺,N-(甲苯磺酰基)丙烯酰胺,N,N-二甲基丙烯酰胺,N-甲基-N-苯基丙烯酰胺和N-羟乙基-N-甲基丙烯酰胺。
甲基丙烯酰胺的具体实例包括甲基丙烯酰胺,N-甲基甲基丙烯酰胺,N-乙基甲基丙烯酰胺,N-丙基甲基丙烯酰胺,N-丁基甲基丙烯酰胺,N-苄基甲基丙烯酰胺,N-羟乙基甲基丙烯酰胺,N-苯基甲基丙烯酰胺,N-甲苯基甲基丙烯酰胺,N-(羟苯基)甲基丙烯酰胺,N-(氨磺酰苯基)甲基丙烯酰胺,N-(苯磺酰基)甲基丙烯酰胺,N-(甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺,N,N-二甲基甲基丙烯酰胺,N-甲基-N-苯基甲基丙烯酰胺和N-羟乙基-N-甲基甲基丙烯酰胺。
乙烯酯的具体实例包括乙酸乙烯酯,丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯。
苯乙烯的具体实例包括苯乙烯,甲基苯乙烯,二甲基苯乙烯,三甲基苯乙烯,乙基苯乙烯,丙基苯乙烯,环己基苯乙烯,氯甲基苯乙烯,三氟甲基苯乙烯,乙氧甲基苯乙烯,乙酰氧基甲基苯乙烯,甲氧基苯乙烯,二甲氧基苯乙烯,氯苯乙烯,二氯苯乙烯,溴苯乙烯,碘苯乙烯,氟苯乙烯和羧基苯乙烯。
为了改善各种物理性质,用于合成共聚物的这种其它单体的比例必须足够大,但是比例过大可能使其不足以起到支撑构件的作用。因此,特定亲水聚合物(1)中的其它单体的总比例优选为80重量%或更小,更优选50重量%或更小。(通式(2)表示的特定亲水聚合物)由如下通式(2)表示的特定亲水聚合物(以后偶尔称作“特定亲水聚合物(2)”)在其侧链上有一个硅烷偶合基
通式(2) 通式(2)中,m、R1~R6、L1、L2和Y1的含义与通式(1)中相同,其优选实例也相同。
同样x和y表示组成比例,其中x+y=100,x∶y为99∶1~50∶50,优选99∶1~60∶40,更优选98∶2~70∶30。
优选特定亲水聚合物(2)的分子量为1,000~100,000,更优选为1,000~50,000,最优选为1,000~30,000。
本发明优选采用的特定亲水聚合物(2)的具体实例(2-1)~(2-7)将在下面列出,但本发明并不局限于这些实例。

(合成特定亲水聚合物(2)的方法)可以采用本领域已知的任何自由基聚合方法来合成特定亲水聚合物(2)。更具体而言,可以应用如下文献中所述的一般自由基聚合方法,例如Shin Kobunshi Jikkengaku 3,Synthesis and reaction of polymer 1(Polymer Society编辑,Kyoritsu Press),Shin Jikken Kagaku Koza 19,Polymerchemistry(I)(Chemical Society of Japan编辑,Maruzen),Busshitsu KogakuKoza,以及Polymer synthesis chemistry(Tokyo Electric University Press)等中所述的方法。
同样,特定亲水聚合物(2)可以和其它单体共聚合,其它单体与特定亲水聚合物(1)中所述的类似。(通式(3)表示的交联组分)本发明的亲水表面可以是通过将特定亲水聚合物中的交联基和铝基片表面上的官能团,如-Al3+或-OH直接化学键合而形成的,或者通过交联基的水解或缩聚形成交联结构(溶胶-凝胶交联结构),这种亲水表面是通过制备出含特定亲水聚合物的亲水涂液,涂在基片表面上并使其干燥而形成的。
所形成的溶胶-凝胶交联结构中,优选将特定亲水聚合物和如下通式(3)表示的交联组分混合起来,将这种混合物涂在基片表面上并使其干燥。如下通式(3)表示的交联组分是结构中含可聚合官能团的化合物,且这种化合物能够起到交联剂作用,通过和特定亲水聚合物的缩聚作用形成具有交联结构的坚固膜。
通式(3) 其中R9表示氢原子、烷基或芳基,R10表示烷基或芳基,X表示Si、Al、Ti或Zr,m表示0~2的整数。
当R9或R10表示烷基时,其碳原子数优选为1~4。烷基或芳基可以有取代基,可引入的取代基实例包括卤素原子、氨基和巯基。
这种化合物是低分子量的,优选不超过1,000。
下面将给出通式(3)表示的交联组分的具体实例,但本发明不局限于这些实例。
当X是Si时,即在可水解化合物含硅的情况下,实例包括三甲氧硅烷,三乙氧硅烷,三丙氧硅烷,四甲氧硅烷,四乙氧硅烷,四丙氧硅烷,甲基三甲氧硅烷,乙基三甲氧硅烷,丙基三甲氧硅烷,甲基三乙氧硅烷,乙基三乙氧硅烷,丙基三乙氧硅烷,二甲基二甲氧硅烷,二乙基二乙氧硅烷,γ-氯丙基三乙氧硅烷,γ-巯基丙基三甲氧硅烷,γ-巯基丙基三乙氧硅烷,γ-氨基丙基三乙氧硅烷,苯基三甲氧硅烷,苯基三乙氧硅烷,苯基三丙氧硅烷,二苯基二甲氧硅烷和二苯基二乙氧硅烷。
其中特别优选的是四甲氧硅烷,四乙氧硅烷,甲基三甲氧硅烷,乙基三甲氧硅烷,甲基三乙氧硅烷,乙基三乙氧硅烷,二甲基二乙氧硅烷,苯基三甲氧硅烷,苯基三乙氧硅烷,二苯基二甲氧硅烷和二苯基二乙氧硅烷。
当X是Al时,即在可水解化合物含铝的情况下,实例包括三甲氧铝酸盐,三乙氧铝酸盐,三丙氧铝酸盐和四乙氧铝酸盐。
当X是Ti时,即在可水解化合物含钛的情况下,实例包括三甲氧钛酸盐,四甲氧钛酸盐,三乙氧钛酸盐,四乙氧钛酸盐,四丙氧钛酸盐,氯代三甲氧钛酸盐,氯代三乙氧钛酸盐,乙基三甲氧钛酸盐,甲基三乙氧钛酸盐,乙基三乙氧钛酸盐,二乙基二乙氧钛酸盐,苯基三甲氧钛酸盐和苯基三乙氧钛酸盐。
当X是Zr时,即在可水解化合物含锆的情况下,实例包括对应于上述含钛化合物的锆酸盐。[亲水表面的形成](亲水性涂液的制备)制备含特定亲水聚合物的亲水性涂液组合物时,特定亲水聚合物的含量,以固体含量计,优选至少为10重量%,但少于50重量%。含量等于或超过50重量%将会降低膜强度,而含量低于10重量%时又会损坏膜性质,可能导致膜裂缝的形成,因此都是不可取的。
同样,在优选实施方案中,在制备亲水性涂液组合物时加入交联组分的情况下,相对于特定亲水聚合物中的硅烷偶联剂,交联组分的含量优选为5摩尔%或更高,更优选10摩尔%或更高。交联组分含量的上限没有特别的限制,只要能够和亲水聚合物产生足够的交联就行,但是加入的量大大过量,可能会产生一定的缺陷,例如在制备的亲水表面上粘附有未参与交联的交联组分。
本发明的亲水性涂液是一种有机-无机复合溶胶液体,是通过将末端含硅烷偶合基的亲水聚合物和优选的交联组分在充分搅拌下溶解在溶剂中,使其水解和缩聚而制备的,因而能够形成高亲水性和高膜强度的亲水性表面。制备有机-无机复合溶胶液时,优选结合使用酸催化剂或碱催化剂,以加速水解和缩聚反应,为了获得实践上优选的反应效率,使用这种催化剂是必需的。
作为催化剂,可以单独使用酸或碱化合物或者将其溶解在溶剂中,例如水或醇中(以后分别称作酸催化剂和碱催化剂)。它们在溶剂中溶解的浓度没有特别的限制,可以根据所用酸或碱化合物的特性和所需的催化剂浓度恰当地选择其浓度,但较高的浓度可能使水解或缩聚速率更快。而当使用高浓度的碱催化剂时,可能在溶胶液体中产生沉淀,所采用的碱催化剂浓度,转化成水溶液中的浓度,最好不超过1N。
对酸催化剂或碱催化剂的类型没有特别的限制,但是当必须使用高浓度的催化剂时,优选催化剂由干燥后几乎不在涂膜上有任何残留的元素组成。
酸催化剂的具体实例包括诸如盐酸的卤化氢,硝酸,硫酸,亚硫酸,硫化氢,高氯酸,过氧化氢,碳酸,诸如甲酸或乙酸的羧酸,由结构式RCOOH表示的取代羧酸,其中R被其它元素取代或者是其它取代基取代,诸如苯磺酸的磺酸,以及碱催化剂的具体实例包括氨型碱,例如氨水溶液,和例如乙胺和苯胺的胺。
可以这样制备亲水性涂液将末端含硅烷偶合基的亲水聚合物和优选的交联组分溶解在诸如乙醇的溶剂中,然后(如果需要的话)加入上述催化剂,并进行搅拌。优选反应温度为室温~80℃,反应时间,即持续搅拌时间,为1~72小时,这样的搅拌使得两种组分可以产生水解和缩聚反应,以获得有机-无机复合溶胶液。
在制备含亲水聚合物和优选的交联组分的亲水性涂液时,对所用的溶剂没有特别的限制,只要这些组分能够均匀地溶解或分散即可,但是优选使用水性溶剂,如甲醇,乙醇或水。
正如前面解释的,为了形成本发明的亲水表面,有机-无机复合溶胶液(亲水涂液组合物)的制备是以溶胶-凝胶方法为基础的。溶胶-凝胶方法在发表的文献中有详细的描述,例如“Sol-gel Hou No Kagaku(Science ofsol-gel process)”(S.Sakuhana;Agune Shofu Co.出版(1988))以及“Saishinsol-gel hou niyoru Kinousei Hakumaku Sakusei Gijutu(Functional thin filmpreparation by latest sol-gel process)”(T.Hirashima;Sogo Gijutsu Center出版(1992)),其中所述的方法可用于制备本发明的亲水涂液组合物。
本发明的亲水性涂液组合物中,可以根据需要,在不影响本发明效果的程度内加入各种添加剂。例如,可以加入表面活性剂以改善涂液的均匀性。
亲水性表面可以这样形成,将按上述方法制备的亲水性涂液组合物涂在基片表面并使其干燥。可以根据需要选择亲水表面膜的厚度,但是以干燥后的涂量计,一般为0.5~5.0g/m2,优选为1.0~3.0g/m2。涂量不足0.5g/m2将难以表现出亲水效果,而涂量大于5.0g/m2则可能降低灵敏度或膜强度,因此都不可取。[铝基片]本发明所用的铝基片必需组成一个大小合适、适用于平板印刷版原版的板件,至少其外表面由铝组成以形成牢固的亲水表面,优选具有必需特性(例如强度,耐用性和柔韧性)的基片。这种基片,除了作为代表性实例的铝板外,可以是片状材料,例如塑料膜(如聚乙烯,聚丙烯,聚苯乙烯,聚对苯二甲酸乙二醇酯,聚碳酸酯,聚乙烯醇缩醛,二乙酸纤维素酯,三乙酸纤维素酯,丙酸纤维素酯,丁酸纤维素酯,乙酸丁酸纤维素或硝酸纤维素),非铝金属板(如锌或铜)或用上述塑料材料层压的纸,在上面蒸发或层压有铝。
优选的铝板是纯铝板或者是主要由铝组成的、含少量其它元素的合金板,也可以是塑料膜,如上所述其上蒸发或层压有铝。铝合金中所含的其它元素可以是硅,铁,锰,铜,镁,铬,锌,铋,镍和/或钛。其它元素在合金中的含量最高为10重量%。本发明中,特别优选纯铝,但也可以使用含少量其它元素的铝,因为完全纯的铝在精炼技术中是很难生产的。
因此,本发明采用的铝板在组成上没有什么特别的,但可以恰当地利用已知的铝板和应用材料。所用铝板的厚度为约0.1~0.6mm,优选0.15~0.4mm,特别优选0.2~0.3mm。
如果需要,用作基片的铝板可以进行表面处理,例如表面糙化或阳极化处理。这种表面处理将在下面简略说明。
在铝板表面糙化之前,如果需要,进行脱脂处理,所用试剂例如表面活性剂,有机溶剂或碱的水溶液,以清除表面上的印油。可以用各种方法进行铝板表面的糙化处理,例如机械糙化法,电化学消溶表面的表面糙化方法,或者用化学方法选择性溶解表面的方法。对于机械方法,可以采用已知的方法,例如球磨法,刷磨法,鼓风磨法或抛光磨法。同样,作为电化学糙化方法,已知的方法为在盐酸或硝酸电解液中应用交流电或直流电。也可以如JP-A No.54-63902中所示的那样结合使用两种方法。
在碱蚀刻和中和之后,如果需要的话,对表面糙化的铝板进行阳极化处理,以改善水分保持性和表面抗磨性。为了进行铝板的阳极化处理,可以采用各种能够形成多孔氧化物膜的电解液。一般使用磷酸、草酸、铬酸或其混合液。可根据电解液的类型恰当地确定电解液的浓度。
阳极化处理的条件随所用电解液而变化,不能唯一指定,但是一般可在如下范围内进行适当地选择溶液中电解质的浓度为1~80重量%,溶液温度为5~70℃,电流密度为5~60A/dm2,电压为1~100V,电解时间为10秒~5分钟。如果阳极化氧化物膜的数量不足1.0g/m2,可能导致运行长度的不足或者可能在平板印刷版的非图象区产生创痕,导致在印刷操作中由于油墨在这种创痕上沉积而产生的所谓“疤污斑(scar smear)”。
在另一优选实施方案中,当采用诸如聚酯膜的塑料膜时,考虑到亲水表面的形成或记录层在其上的粘附性,优选采用这样一种膜,对其形成亲水表面的表面进行糙化处理。下面将说明本发明所用支撑构件表面(固体表面)的优选表面性质的实例。
在用于本发明支撑构件的基片中,用二维粗糙度参数来表示优选的表面粗糙状态,包括中心线平均粗糙度(Ra)为0.1~1μm,最大高度(Ry)为1~10μm,十点平均粗糙度(Rz)为1~10μm,缺陷(irregularities)的平均距离(Sm)为5~80μm,局部峰(local peak)的平均距离(S)为5~80μm,最大高度(Rt)为1~10μm,中心线峰高(Rp)为1~10μm,中心线谷深(Rv)为1~10μm,优选表面状态满足这些条件中的一条或多条,更优选满足所有这些条件。
上述的二维粗糙度参数定义如下[中心线平均粗糙度(Ra)]该数值用如下方法获得沿中心线方向从粗糙度曲线上摘取测量长度L的一部分,算术平均摘取的中心线和粗糙度曲线之间的偏差绝对值。[最大高度(Ry)]该数值用如下方法获得沿平均线方向从粗糙度曲线上摘取一段参考长度,沿粗糙度曲线的垂直放大方向测量摘取部分峰线和谷线之间的距离。[十点平均粗糙度(Rz)]该数值用如下方法获得沿平均线方向从粗糙度曲线上摘取一段参考长度,用微米(μm)表示最高峰至第5高峰的绝对高度(Yp)平均值以及最低谷至第5低谷的绝对高度(Yv)平均值、总和,这些数据是沿垂直放大方向从摘取部分的平均线测量而得的。[缺陷的平均距离(Sm)]该数值用如下方法获得沿平均线方向从粗糙度曲线上摘取一段参考长度,测量对应于摘取部分每个峰和相临谷的平均线的总和,用微米(μm)表示多个缺陷的算术平均距离。[局部峰的平均距离(S)]该数值用如下方法获得沿平均线方向从粗糙度曲线上摘取一段参考,测量对应于摘取部分相临局部峰的平均线长度,用微米(μm)表示多个局部峰之间的多个距离的算术平均值。[最大高度(Rt)]该数值用如下方法获得从粗糙度曲线上摘取一段参考长度,用夹着摘取部分的、平行于摘取部分中心线的两条线之间的距离来表示。[中心线峰高(Rp)]该数值用如下方法获得沿中心线方向从粗糙度曲线上摘取一测量长度L,用穿过最高峰且和摘取部分中心线相平行的线与摘取部分之间的距离来表示。[中心线谷深(Rv)]该数值用如下方法获得沿中心线方向从粗糙度曲线上摘取一测量长度L,用穿过最低谷且和摘取部分中心线相平行的线与摘取部分之间的距离来表示。(表面糙化处理)代表性的基片表面糙化处理方法是上述的铝表面处理方法,但是只有当铝板本身被用作基片时才能应用化学或电处理方法。因此,例如在处理诸如蒸发了铝的塑料之类的复合基片时,优选采用其它已知的糙化方法,例如上述的机械糙化方法。这种糙化方法的实例包括用喷砂或刷洗机械磨损基片表面造成凹陷部分,从而形成粗糙表面的方法。这些方法可以单独使用,或者多种方法组合使用。
其中,特别优选喷砂法。
-喷砂法-喷砂是将细颗粒的摩擦材料高速投射到基片表面上,从而在表面上形成缺陷,更具体而言,喷砂处理是通过用压缩空气将摩擦材料吹到基片表面上来进行表面处理的,其中该处理形成的缺陷是可以根据喷砂处理的条件来调节的。喷砂处理可以是已知的处理,例如通过将金刚砂(碳化硅粉)或金属颗粒和压缩空气一起强烈地吹向表面,随后进行清洗和干燥而达到目的。
喷砂处理中,基片的中心线平均表面粗糙度可以通过吹动的颗粒大小和处理量(每单位面积的处理频率)来控制,并随着颗粒大小的增加或处理量的增加而变大。
在从喷砂嘴吹出摩擦材料时,作为处理条件,必须调节摩擦材料的喷出数量(喷量),以及喷砂嘴和基片表面之间的角度和距离(喷射角度,喷射距离)。装料斗中的摩擦材料被来自气室的压缩空气从喷砂嘴吹到基片表面上,从而在适当的条件下实现喷砂处理。具体而言,这些方法作为已知的方法在如下文献中有所描述,例如JP-A Nos.8-34866、11-90827和11-254590。
这种喷砂处理的处理条件可以这样选择摩擦材料或磨碎了的物质在处理完后不再残留在基片表面上,且不损坏基片本身的强度,但这种处理条件只能根据经验进行选择。
更具体而言,例如用硅石砂作为摩擦材料时,优选使用的硅石砂颗粒大小为0.05~10mm,更优选0.1~11mm。还优选采用喷射距离为100~300mm,喷射角度为45°~90°,更优选45°~60°,喷量为1~10kg/min。选择这种条件是为了使在喷砂处理中摩擦材料和磨碎的物质不残留在基片表面上,并且控制摩擦深度。优选摩擦深度维持在0.01~0.1μm范围内,在这种范围内避免了出现如下情况摩擦损坏了基片本身的强度,并且基片强度不能维持在实用水平上。<在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加的阳片记录层>
本发明的平板印刷版原版是通过在上述支撑构件上提供一层阳片记录层(下面将进行说明)而制成的。本发明平板印刷版原版中的阳片记录层包含能够吸收光并产生热量的物质,以及不溶于水、但溶于碱的聚合物,且这种聚合物在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加。
下面将说明用于阳片记录层中的组分。[吸收光并产生热量的物质]本发明所用的能够吸收光并产生热量的物质(以后称作光热转化物)可以是任何能够吸收记录所用的光学能量辐射并产生热量的物质,对吸收波长范围没有特别的限制,但是考虑到与容易得到的高能激光相匹配,优选采用红外吸收染料或红外吸收颜料,其最大吸收的波长范围为760~1200nm。
用作本发明光热转化材料的染料可以是可商购的染料和已知的染料,例如在“Senryo Binran(Dye Handbook)”(Organic Synthetic Chemical Society编辑,1970)中所述的染料。这种染料的具体实例包括偶氮染料,金属复合偶氮染料,吡唑啉酮偶氮染料,萘醌染料,蒽醌染料,酞菁染料,碳鎓染料,醌亚胺染料,次甲基染料,花青染料,角鲨烯鎓(squalirium)染料,吡喃鎓(pyrilium)染料,金属硫醇盐染料,氧杂菁(oxonol)染料,二亚胺鎓(diimonium)染料,铵染料和铬鎓(chroconium)染料。
优选的染料包括JP-A Nos.58-125246、59-84356、59-202829和60-78787中所述的花青染料,JP-A Nos.58-173696、58-181690和58-194595中所述的次甲基染料,JP-A Nos.58-112793、58-224793、59-48187、59-73996、60-52940和60-63744中所述的萘醌染料,JP-A No.58-112792中所述的角鲨烯鎓染料以及BP No.434,875中所述的花青染料。
还可以方便地使用USP No.5,156,938中所述的近红外吸收感光剂,可以优选使用USP No.3,881,924中所述的取代芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐,JP-A No.57-142645(USP No.4,327,169)中所述的三次甲基硫代吡喃鎓盐,JP-A Nos.58-181051、58-220143、59-41363、59-84248、59-84249、59-146063和59-146061中所述的吡喃鎓化合物,JP-A-59-216146中所述的花青染料,USP No.4,283,475中所述的戊次甲基硫代吡喃鎓盐,以及JP-BNo.5-13514和5-19702中所述的吡喃鎓化合物。
染料的其他优选实例为U.S.P.No.4,756,993中用通式(I)和(II)表示的近红外吸收染料。
这些染料中,特别优选的是花青染料,酞菁染料,氧杂菁染料,角鲨烯鎓染料,吡喃鎓盐,硫代吡喃鎓染料和镍硫醇盐复合物。而且,优选由如下通式(a)~(e)表示的染料,因为它们具有极好的光热转化效率,最优选通式(a)表示的花青染料,因为当它被用于本发明的可聚合组合物中时,具有高聚合活性和极好的稳定性,而且经济。
通式(a) 通式(a)中,X1表示氢原子、卤素原子、-NPh2、X2-L1或如下基团;X2表示氧原子或硫原子;L1表示含1~12个碳原子的烃基、含杂原子的芳环或含1~12个碳原子且含杂原子的烃基;杂原子为N、S、O、卤素原子或Se。 R1和R2各自独立地表示含1~12个碳原子的烃基。考虑到记录层涂液储存的稳定性,R1和R2各自优选为含2个或更多碳原子的烃基,更优选R1和R2相互键合形成5元环或六元环。
Ar1和Ar2,两者可相同也可不同,各自表示可带取代基的芳烃基。芳烃基的优选实例包括苯环和萘环。取代基的优选实例包括含12个或更少碳原子的烃基、卤原子和含12个或更少碳原子的烷氧基。Y1和Y2,可以相同或不同,各自表示硫原子或含12个或更少碳原子的二烷基亚甲基。R3和R4,可以相同或不同,各自表示含20个或更少碳原子的烃基,这些烃基还可以含取代基。取代基的优选实例包括含12个或更少碳原子的烷氧基、羧基和磺基。R5、R6、R7和R8,可以相同或不同,各自表示氢原子或含12个或更少碳原子的烃基。优选氢原子,因为这样的原材料易获得。Za-表示配对的阴离子。但是,在R1~R8中任一被磺基取代的情况下是不需要Za-的。考虑到记录层涂液储存的稳定性,优选Za-为卤素离子、高氯酸盐离子、四氟硼酸盐离子、六氟磷酸盐离子或磺酸盐离子,更优选为高氯酸盐离子、六氟磷酸盐离子或芳基磺酸盐离子。
除了下列的实例外,本发明可方便采用的、通式(a)所示花青染料的具体实例见日本专利申请No.11-310623, ~ 段;日本专利申请No.2000-224031, ~ 段;以及日本专利申请No.2000-211147, ~ 段中的描述。

通式(b) 上述通式(b))中,L表示含7个或更多共轭碳原子的次甲基链,其中次甲基可以有取代基且取代基可以相互结合形成环结构。Zb+表示配对的阳离子。配对阳离子的优选实例包括铵、碘鎓、锍、磷鎓、吡啶鎓和碱金属阳离子(Ni+、K+、Li+)。R9~R14和R15~R20各自独立地表示选自下组的取代基氢原子、卤原子、氰基、烷基、芳基、链烯基、(链)炔基、羰基、硫基、磺酰基、亚磺酰基、氧基和氨基,或者是由两种或三种基团结合形成的取代基,并且这些基团可以相互键合形成环结构。通式(b)所示染料中,考虑其实用性和效果,优选这样一种染料,该染料中L表示含7个共轭碳原子的次甲基链,R9~R14和R15~R20都表示氢原子。
下列的是本发明方便采用的、通式(b)所示染料的具体实例 通式(c) 通式(c)中,Y3和Y4各自表示氧原子、硫原子、硒原子或碲原子;M表示含5个或更多共轭碳原子的次甲基;R21~R24和R25~R28,可以相同或不同,各自表示氢原子、卤原子、氰基、烷基、芳基、链烯基、(链)炔基、羰基、硫基、磺酰基、亚磺酰基、氧基和氨基;Za-表示配对的阴离子,其含义与通式(a)中的Za-相同。
下列的是本发明方便采用的、通式(c)所示染料的具体实例
通式(d) 通式(d)中,R29~R31各自独立地表示氢原子、烷基或芳基;R33和R34各自独立地表示烷基、取代氧基或卤原子;n和m各自独立地表示0~4的整数;R29和R30或R31和R32可以分别结合成环,R29和/或R30可以和R33结合形成环,R31和/或R32可以和R34结合形成环,而当R33或R34存在于多个单元时,这种R33或R34可以分别结合形成环;X2和X3各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,且X2和X3中至少有一个表示氢原子或烷基;Q表示可被取代的三次甲基或戊次甲基,且可以和二价有机基团形成环结构;Zc-表示配对的阴离子,其含义与通式(a)中的Za-相同。
下列的是本发明方便采用的、通式(d)所示染料的具体实例 通式(e) 通式(e)中,R35~R50各自独立地表示氢原子、卤原子、氰基、烷基、芳基、链烯基、(链)炔基、羟基、羰基、硫基、磺酰基、亚磺酰基、氧基和氨基或鎓盐结构,它们可以带取代基。M表示两个氢原子、金属原子、卤代金属基或氧代金属基,其中所含的金属原子可以是周期表IA、IIA、IIIB或IVB族的原子,第一、第二或第三周期的过渡金属或镧系元素,其中优选的是铜、镁、铁、锌、钴、铝、钛或钒。
下列的是本发明方便采用的、通式(e)所示染料的具体实例
本发明中用作光热转化材料的颜料实例包括可商购的颜料以及下列文献中所述的颜料Color Index(C.I.),“Saishin Ganryo Binran(Latest PigmentHandbook)”(Pigment Technology Society of Japan,1977),“Saishin GanryoOuyou Gijutsu(Latest Pigment Application Technology)”(CMC Press,1986),和“Insatsu Ink Gijutsu(Printing Ink Technology)”(CMC Press,1984)。
颜料的种类可以是黑颜料,黄颜料,橙色颜料,棕色颜料,红颜料,紫色颜料,蓝颜料,绿颜料,荧光颜料,金属粉颜料或聚合物结合的颜料。具体实例包括不溶的偶氮颜料,偶氮色淀颜料,缩合偶氮颜料,螯合偶氮颜料,酞菁颜料,蒽醌颜料,苝和苝酮(perynone)颜料,硫靛颜料,喹吖啶酮(quinachrydone)颜料,二噁嗪颜料,异吲哚啉酮颜料,喹啉并酞酮颜料,瓮色淀(vat rake)颜料,吖嗪颜料,亚硝基颜料,硝基颜料,天然颜料,荧光颜料,无机颜料和碳黑,其中优选碳黑。
这些颜料可以经过表面处理或不经表面处理的情况下使用。表面处理方法可以是,例如,表面涂以树脂或蜡的方法,表面活性剂沉积法,在颜料表面结合活性物质(例如硅烷偶联剂,环氧化合物或聚异氰酸酯)的方法。这些表面处理方法见“Kinzoku Sekken no Seishitsu to Ouyou(Properties and Applications of Metal Soaps)”(Saiwai Shobo),“Insatsu InkGijutsu(Printing Ink Technology)”(CMC Press,1984)以及“Saishin GanryoOuyou Gijutsu(Latest Pigment Application Technology)”(CMC Press,1986)中的描述。
优选颜料颗粒大小为0.01~10μm,更优选0.05~1μm,最优选0.1~1μm。颜料颗粒大小不足0.01μm不利于颜料在记录层涂液中分散后的稳定性,而颗粒大小超过10μm则不利于记录层的均匀性。
可以使用油墨制造或有机调色剂制造中所用的已知技术来分散颜料。分散装置可以是超声分散装置,砂磨机,Atliter,颗粒磨(pearl mill),超磨机(super mill),球磨机,inpeller,分散装置,KD磨机,胶体磨碎机,负阻管,三辊磨或加压捏合机。详见“Saishin Ganryo Ouyou Gijutsu(LatestPigment Application Technology)”(CMC Press,1986)中的描述。
这种颜料或染料可以加到所有组成阳片记录层的固体中,其数量为0.01~50重量%,优选0.1~10重量%,对于染料特别优选0.5~10重量%,对于颜料特别优选0.1~10重量%。颜料或染料加入量不足0.01重量%会降低灵敏度的改善效果,而加入数量超过50重量%则丧失了记录层的均匀性,且耐用性变差。[不溶于水而溶于碱的聚合物]本发明中,阳片记录层中所用的不溶于水而溶于碱的聚合物(以后适当地称作碱溶聚合物)包括在主链和/或侧链上含酸基的均聚物、共聚物及其混合物。因此,本发明的记录层具有接触碱性显影液后溶解的性质。
本发明用于阳片记录层的碱溶聚合物可以是任何已知的聚合物,没有任何限制。其中优选在聚合物主链和/或侧链上含酸基(如下列(1)~(6)所示),溶解于碱性显影液的聚合物(1)酚羟基(-Ar-OH)(2)氨磺酰基(-SO2NH-R)(3)取代的氨磺酰酸性基团(以后称做“活性酰亚胺基”)[-SO2NHCOR,-SO2NHSO2R,-CONHSO2R](4)羧酸基(-CO2H)(5)磺酸基(-SO3H)(6)磷酸基(-OPO3H2)(1)~(6)中,Ar表示可取代的二价芳基连接基,R表示可取代的烃基。
在含选自(1)~(6)酸基的碱溶聚合物中,优选含(1)苯酚基,(2)氨磺酰基或(3)活性酰亚胺基的碱溶聚合物,特别优选含(1)苯酚基或(2)氨磺酰基的碱溶聚合物,以充分保证其在碱性显影液中的溶解度和膜强度。
下面将说明这种碱溶聚合物的聚合组分的代表性实例。
(1)含酚羟基的聚合单体可以是这样一种聚合单体,该单体由含至少一个酚羟基和至少一个可聚合不饱和键的小分子化合物组成,例如含酚羟基的丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯或羟基苯乙烯。
具体实例包括N-(2-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(3-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(4-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(2-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,N-(3-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,丙烯酸(邻-羟基苯酯),丙烯酸(间-羟基苯酯),丙烯酸(对-羟基苯酯),甲基丙烯酸(邻-羟基苯酯),甲基丙烯酸(间-羟基苯酯),甲基丙烯酸(对-羟基苯酯),邻-羟基苯乙烯,间-羟基苯乙烯,对-羟基苯乙烯,丙烯酸[2-(2-羟基苯基)乙酯],丙烯酸[2-(3-羟基苯基)乙酯],丙烯酸[2-(4-羟基苯基)乙酯],甲基丙烯酸[2-(2-羟基苯基)乙酯],甲基丙烯酸[2-(3-羟基苯基)乙酯]和甲基丙烯酸[2-(4-羟基苯基)乙酯]。这些含酚羟基的单体可以两种或多种一起使用。
(2)含氨磺酰基的聚合单体可以是这样一种可聚合单体,该单体由含至少一个氨磺酰基(其中每分子(-NH-SO2-)中至少有一个氢原子结合在氮原子上)和至少一个可聚合不饱和键的小分子化合物组成,例如含丙烯酰基,烯丙基和乙烯基氧基,以及取代的或一取代的氨基磺酰基或取代的磺酰亚氨基的小分子化合物。这种化合物可以是JP-A No.8-123029中通式(I)~(V)所示的化合物。
具体而言,可以优选使用甲基丙烯酸(间-氨基磺酰基苯酯),N-(对-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺或N-(对-氨基磺酰基苯基)丙烯酰胺。
(3)含活性酰亚胺基的聚合单体优选为JP-A No.11-84657中所述的分子中含活性酰亚胺基的化合物,并可以是由含至少一个活性酰亚胺基和至少一个可聚合不饱和键的小分子化合物组成的可聚合单体。
具体而言,可优选采用N-(对-甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺或N-(对-甲苯磺酰基)丙烯酰胺。
(4)含羧酸基的碱溶聚合物可以是这样一种聚合物,该聚合物的基本结构组分由从分子中含至少一个羧酸基和至少一个可聚合不饱和基的化合物衍生而得的最小结构单元组成。
(5)含磺酸基的碱溶聚合物可以是这样一种聚合物,该聚合物的基本结构组分由从分子中含至少一个磺酸基和至少一个可聚合不饱和基的化合物衍生而得的最小结构单元组成。
(6)含磷酸基的碱溶聚合物可以是这样一种聚合物,该聚合物的基本结构组分由从分子中含至少一个磷酸基和至少一个可聚合不饱和基的化合物衍生而得的最小结构单元组成。
本发明中,组成用于平板印刷版原版阳片记录层的碱溶聚合物的最小结构单元含选自上述(1)~(6)的酸基,不但不需要限制为单一品种,还可以对两种或多种含相同酸基的最小结构单元进行共聚合,或者对两种或多种含不同酸基的最小结构单元进行共聚合。
共聚合可采用本领域已知的接枝共聚合,嵌段共聚合或无规共聚合方法。
上述共聚物中具有选自(1)~(6)酸基的可共聚化合物的含量优选为10摩尔%或更高,更优选为20摩尔%或更高。含量小于10摩尔%可能导致在碱中溶解度的不足,从而不能充分改善显影区。
与含选自上述(1)~(6)酸基的化合物共聚合的单体组分可以是,例如下列(m1)~(m12)所示的化合物,但不局限于这些实例(m1)含脂肪族羟基的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯,例如丙烯酸(2-羟乙酯)或甲基丙烯酸(2-羟乙酯);(m2)烷基丙烯酸酯,例如丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,丙烯酸丙酯,丙烯酸丁酯,丙烯酸戊酯,丙烯酸己酯,丙烯酸辛酯,丙烯酸苄酯,丙烯酸(2-氯乙(chloroetyl)酯)或丙烯酸缩水甘油酯;(m3)烷基甲基丙烯酸酯,例如甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸乙酯,甲基丙烯酸丙酯,甲基丙烯酸丁酯,甲基丙烯酸戊酯,甲基丙烯酸己酯,甲基丙烯酸环己酯,甲基丙烯酸苄酯,甲基丙烯酸(2-氯乙(chloroetyl)酯)或甲基丙烯酸缩水甘油酯;(m4)丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺,例如丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,N-羟甲基丙烯酰胺,N-乙基丙烯酰胺,N-己基甲基丙烯酰胺,N-环己基丙烯酰胺,N-羟乙基丙烯酰胺,N-苯基丙烯酰胺,N-硝基苯基丙烯酰胺或N-乙基-N-苯基丙烯酰胺;(m5)乙烯基醚,例如乙基乙烯基醚,2-氯乙基乙烯基醚,羟乙基乙烯基醚,丙基乙烯基醚,丁基乙烯基醚,辛基乙烯基醚或苯基乙烯基醚;(m6)乙烯基酯,例如乙酸乙烯酯,氯乙酸乙烯酯,丁酸乙烯酯或苯甲酸乙烯酯;(m7)苯乙烯,例如苯乙烯,α-甲基苯乙烯,甲基苯乙烯或氯甲基苯乙烯;(m8)乙烯基酮,例如甲基乙烯基酮,乙基乙烯基酮,丙基乙烯基酮或苯基乙烯基酮;(m9)链烯,例如乙烯,丙烯,异丁烯,丁二烯或异戊二烯;(m10)N-乙烯基吡咯烷酮,丙烯腈或甲基丙烯腈;(m11)不饱和酰亚胺,例如马来酰亚胺,N-丙烯酰基丙烯酰胺,N-乙酰基甲基丙烯酰胺,N-丙酰基甲基丙烯酰胺或N-(对-氯苯甲酰基)甲基丙烯酰胺;(m12)不饱和羧酸,例如丙烯酸,甲基丙烯酸,马来酸酐或衣康酸。
优选碱溶聚合物含酚羟基,因为这样经例如红外激光曝光后具有极好的成象性,其优选实例包括酚醛清漆树脂,如苯酚甲醛树脂,间-甲酚甲醛树脂,对-甲酚甲醛树脂,间-/对-混合的甲酚甲醛树脂或苯酚/甲酚(间-、对-或间-/对-混合的)混合的甲醛树脂,或者焦棓酚丙酮树脂。
除了上述的化合物外,含酚羟基的碱溶聚合物还可以是含烷基取代基(3~8个碳原子)的苯酚和甲醛的缩聚物,例如USP 4,123,279中所述的叔-丁基苯酚甲醛树脂或辛基苯酚甲醛树脂。
碱溶聚合物的共聚合可采用本领域已知的方法,例如接枝共聚合,嵌段共聚合或无规共聚合方法。
本发明中,当碱溶聚合物为含酚羟基的聚合单体、含氨磺酰基的聚合单体或含活性酰亚胺基的聚合单体的均聚物或共聚物时,优选其重均分子量为2,000或更大,数均分子量为500或更高。更优选重均分子量为5,000~300,000,数均分子量为800~250,000,分散度(重均分子量/数均分子量)为1.1~10。
本发明中,当碱溶聚合物为诸如苯酚甲醛树脂或甲酚甲醛树脂之类的树脂时,优选其重均分子量为500~20,000,数均分子量为200~100,000。
这些碱溶聚合物可以单独使用或两种或多种结合使用,其用量,以记录层中总固体计,为30~99重量%,优选40~95重量%,特别优选50~90重量%。碱溶聚合物的加入量少于30重量%时,热记录层的耐用性降低,而加入量超过99重量%时对灵敏度和耐用性均不利。[其它组分]在本发明所用阳片记录层的形成过程中,还可以根据进一步加入各种添加剂。例如,为了增加对图象部分在显影剂中溶解的抑制作用,优选结合使用这样一种物质,该物质可被热分解,并且在未分解状态时能够显著降低碱溶聚合物的溶解性,如鎓盐,邻-醌二叠氮化合物,芳香族砜化合物或芳香族磺酸酯。鎓盐的实例包括重氮盐,铵盐,磷鎓盐,碘鎓盐,锍盐,硒鎓盐和鉮盐。
本发明所用鎓盐的优选实例包括S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974),T.S.Bal等,Polymer,21,423(1980)以及JP-A No.5-158230中所述的重氮盐;USP Nos.4,069,055和4,069,056以及JP-A No.3-140140中所述的铵盐;D.C.Necker等,Macromolecules,17,2468(1984),C.S.Wen等,Tch.Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988),USP Nos.4,069,055和4,069,056中所述的磷鎓盐;J.V.crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977),Chem&Eng.News,Nov.28,p31(1988),欧洲专利No.104,143,USP Nos.5,041,358和4,491,628,JP-A Nos.2-150848和2-296514中所述的碘鎓盐;J.V.Crivello等,Polymer J.17,73(1988),J.V.Crivello等,J.Org.Chem.,43,3055(1978),W.R.Watt等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.ed.,22,1789(1984),J.V.Crivello等,Polymer Bull.,14,279(1985),J.V.Crivello等;Macromolecules,14(5),1141(1981),J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979),欧洲专利Nos.370,693,233,567,297,443和297,442,USP Nos.4,933,377,3,902,114,4,491,628,5,041,358,4,760,013,4,734,444和2,833,827,德国专利Nos.2,904,626,3,604,580和3,604,581中所述的锍盐;J.V.Crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977),J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.,PolymerChem.Ed.,17,1047(1979)中所述的硒鎓盐;以及C.S.Wen等,Teh.Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)中所述的鉮盐。
这些鎓盐中,特别优选重氮盐。特别优选的重氮盐可以是JP-A No.5-158230中所述的重氮盐。
可以用作鎓盐配对离子的有,例如,四氟硼酸,六氟磷酸,三异丙基萘磺酸,5-硝基-邻-甲苯磺酸,5-磺基水杨酸,2,5-二甲基苯磺酸,2,4,6-三甲基苯磺酸,2-硝基苯磺酸,3-氯苯磺酸,3-溴苯磺酸,2-氟辛基萘磺酸,十二烷基苯磺酸,1-萘酚-5-磺酸,2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基-苯磺酸或对甲苯磺酸。其中,特别优选六氟磷酸或烷基芳香族磺酸,例如三异丙基萘磺酸或2,5-二甲基苯磺酸。
可以采用邻-醌二叠氮化合物作为优选的醌二叠氮化物。本发明所用的邻-醌二叠氮化合物至少含一个邻-醌二叠氮基,热解能够增加其在碱中的溶解度,并且可以呈现多种结构。醌二叠氮化物通过两方面的影响增加了光敏体系的溶解性邻-醌二叠氮热解后失去了粘合剂的抑制溶解能力,且邻-醌二叠氮本身也变成了碱-溶物。当在本发明中使用这种邻-醌二叠氮化合物时,可以使用J.Cosar,“Light-sensitive Systems”(John Wiley &Sons.Inc.),p.339-352中所述的化合物,并可以特别方便地使用通过将邻-醌二叠氮和各种芳香族多羟基化合物或芳香族氨基化合物反应而得到的邻-醌二叠氮磺酸酯或磺酸酰胺。还可以方便地使用苯醌-(1,2)-二叠氮磺酸氯化物或萘醌-(1,2)-二叠氮-5-磺酸氯化物和JP-B No.43-28403中所述的焦棓酚-丙酮树脂形成的酯,以及苯醌-(1,2)-二叠氮磺酸氯化物或萘醌-(1,2)-二叠氮-5-磺酸氯化物和USP Nos.3,046,120和3,188,210中所述的苯酚-甲醛树脂形成的酯。
还可以方便地采用萘醌-(1,2)-二叠氮-4-磺酸氯化物和苯酚-甲醛树脂或甲酚-甲醛树脂形成的酯,或者萘醌-(1,2)-二叠氮-4-磺酸氯化物和焦棓酚-丙酮树脂形成的酯。其它有用的邻-醌二叠氮化合物是已知的,且在各种专利中有报道,例如JP-A Nos.47-5303,48-63802,48-63803,48-96575,49-38701和48-13354,JP-B Nos.41-11222,45-9610和49-17481,USP Nos.2,797,213,3,454,400,3,544,323,3,573,917,3,674,495和3,785,825,英国专利Nos.1,227,602,1,251,345,1,267,005,1,329,888和1,330,932以及德国专利No.854,890。
邻-醌二叠氮化合物的加入量,以印刷版材料的总固体计,优选为1~50重量%,更优选为5~30重量%,最优选为10~30重量%。这些化合物可以单独使用或者多种混合使用。
除邻-醌二叠氮化合物外,添加剂的加入量优选为1~50重量%,更优选为5~30重量%,最优选为10~30重量%。本发明所用的添加剂和粘合剂可以包含于同一层中。
并且,为了进一步提高灵敏度,可以使用环状酸酐、酚或有机酸。环状酸酐的实例包括USP No.4,115,128中所述的邻苯二甲酸酐,四氢化邻苯二甲酸酐,六氢化邻苯二甲酸酐,3,6-桥氧-Δ4-四氢-邻苯二甲酸酐,四氯邻苯二甲酸酐,马来酸酐,氯代马来酸酐,α-苯基马来酸酐,琥珀酸酐和1,2,4,5-苯四酸酐(pyromeritic anhydride)。酚的实例包括双酚-A,对-硝基苯酚,对-乙氧苯酚,2,4,4’-三羟基二苯甲酮,2,3,4-三羟基二苯甲酮,4-羟基二苯甲酮,4,4’,4”-三羟基三苯基甲烷和4,4’,3”,4”-四羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷。有机酸的实例包括磺酸,亚磺酸,烷基硫酸,膦酸,磷酸酯和羧酸,例如JP-A Nos.60-88942和2-96755中所述的,其具体实例包括对甲苯磺酸,十二烷基苯磺酸,对甲苯亚磺酸,乙硫酸,苯膦酸,苯基次膦酸,磷酸苯酯,磷酸二苯酯,苯甲酸,间苯二酸,己二酸,对甲苯甲酸,3,4-二甲氧苯甲酸,邻苯二甲酸,对苯二甲酸,4-环己烷-1,2-二羧酸,芥酸,月桂酸,正-十一烷酸和抗坏血酸。印刷板材料中环酸酐、酚和有机酸的比例优选为0.05~20重量%,更优选为0.1~15重量%,最优选为0.1~10重量%。
为了将处理的稳定性扩展到显影条件,可以向本发明的记录层涂液中加入如JP-A Nos.62-251740和3-208514中所述的非离子表面活性剂,JP-A Nos.59-121044和4-13149中所述的两性表面活性剂,欧洲专利No.950517中所述的硅氧烷化合物,或者P-A No.11-288093中所述的含氟单体的共聚物。
非离子表面活性剂的具体实例包括三硬脂酸脱水山梨糖醇酯,一棕榈酸脱水山梨糖醇酯,三油酸脱水山梨糖醇酯,硬脂酸一甘油酯和聚氧乙烯壬基苯基醚。两性表面活性剂的具体实例包括烷基二(氨基乙基)对羟苯基甘氨酸,烷基聚氨乙基对羟苯基甘氨酸盐酸盐,2-烷基-N-羧乙基-N-羟乙基咪唑啉鎓甜菜碱和N-十四(烷)基-N,N-甜菜碱(例如“Amogen K”(商品名),由Dai-ichi Kogyo Co.,Ltd.制造)。
作为硅氧烷化合物,优选二甲基硅氧烷和聚环氧烷的嵌段共聚物,具体实例包括聚环氧烷变性的硅树脂,例如由Chisso Co.,Ltd.制造的DBE-224,DBE-621,DBE-712,DBP-732和DBP-534,以及Tego Glide 100,制造商为Tego Inc.,德国。
印刷板材料中非离子表面活性剂和两性表面活性剂的比例优选为0.05~15重量%,更优选为0.1~5重量%。
为了在曝光加热之后立即获得可视图象,可以向本发明的记录层里加入打印输出剂,和作为图象着色剂的染料或颜料。
打印输出剂可以表现为曝光加热释放酸基的化合物(光-酸释放剂)和能够成盐的有机染料的组合。具体实例包括邻-萘醌二叠氮-4-磺酸卤化物和JP-A Nos.50-36209及53-8128中所述的成盐有机染料的组合,以及三卤代甲基化合物和JP-A Nos.53-36223,54-74728,60-3626,61-143748,61-151644及63-58440中所述的成盐有机染料的组合。这种三卤代甲基化合物可以是噁唑化合物或三嗪化合物,它们都具有极好的及时稳定性,并提供清晰的打印输出图象。
除了上述的成盐有机染料之外,还可以采用其它染料作为图象着色剂。含成盐有机染料在内的优选染料实例包括油-溶染料和碱性染料。具体实例包括油黄#101,油黄#103,油粉红#312,油绿BG,油蓝BOS,油蓝#603,油黑BY,油黑BS,油黑T-505(上述这些由Orient Kagaku Kogyo Co.,Ltd.制造),维多利亚纯蓝,结晶紫(CI42555),甲基紫(CI42535),乙基紫,若丹明B(CI145170B),marachite绿(CI42000)和亚甲基蓝(CI52015)。特别优选JP-A No.62-293247中所述的染料。这些染料可以加到印刷板材料中,以印刷板材料总固体计,其加入比例为0.01~10重量%,优选为0.1~3重量%。如果需要使涂膜具有弹性,在本发明所用的印刷板材料中也可以加入增塑剂。例如,可采用邻苯二甲酸丁酯(butyl phthalyl),聚乙二醇,柠檬酸三丁酯,邻苯二甲酸二乙酯,邻苯二甲酸二丁酯,邻苯二甲酸二己酯,邻苯二甲酸二辛酯,磷酸三甲苯酯,磷酸三丁酯,磷酸三辛酯,油酸四氢糠酯,丙烯酸或甲基丙烯酸聚合物或寡聚物。<具有叠加结构的记录层>
本发明平板印刷版原版中的阳片记录层可以有叠加的层结构。
具有叠加层结构的记录层可以是两层的记录层,由碱溶聚合物树脂层(底层邻近或接近支撑构件)和光敏层组成,光敏层在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加(上层位于或接近暴露的表面)。这种记录层对曝光(例如红外激光)有满意的灵敏度(感光度),因为上层的光敏层具有与上述阳片记录层类似的功能,并且可以达到高灵敏度,因为存在于支撑构件和光敏层之间的树脂层起到绝热层的作用,故曝光产生的热量不会扩散到支撑构件,从而被高效利用。在记录层的未曝光区,对碱性显影剂有高度抑制溶解作用的光敏层起到了溶解抑制层的作用,使图象部分的强度没有被破坏,从而具有极好的运行长度和及时稳定性。在记录层的曝光部分,因为光敏层在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加,光敏层在显影剂中迅速溶解和分散,而且因为邻近支撑构件的树脂层是由碱溶聚合物组成的,可以实现树脂层的快速溶解,即使是在显影剂活性较低的情况下,也不会产生膜残渣,从而达到极好的显影性。因此,这种记录层可以形成极高分辨率的图象。
而且,上述树脂层可以包括除碱溶聚合物以外的组分。例如,光热转化剂的加入导致曝光区产生热量,从而可以进一步提高整个记录层的灵敏度。<本发明平板印刷版原版的制造方法>
本发明的平板印刷版原版可以这样制造在具有上述亲水表面的支撑构件上,用上述组分(一般溶于溶剂中)进行涂布,从而形成阳片记录层。
所用溶剂的实例包括二氯乙烷,环己酮,甲基乙基酮,甲醇,乙醇,丙醇,乙二醇一甲基醚,1-甲氧基-2-丙醇,乙酸(2-甲氧基乙酯),乙酸(1-甲氧基-2-丙酯),二甲氧基乙烷,乳酸甲酯,乳酸乙酯,N,N-二甲基乙酰胺,N,N-二甲基甲酰胺,四甲基-尿素,N-甲基吡咯烷酮,二甲亚砜,环丁砜,γ-丁内酯和甲苯,但是这些实例不是限制性的。这些溶剂可以单独使用,或者混合使用。
上述组分(所有固体,包括添加剂在内)在溶剂中的浓度优选为1~50重量%。
支撑构件上干燥后的涂量(固体)依其用途而变,但对于光敏印刷板,一般优选为0.5~5.0g/m2。随着涂量的减少,表观灵敏度虽有所提高,但却降低了光敏膜的膜特性。
可以用各种方法来进行涂布,例如棒涂法,旋涂法,喷涂法,帘式涂布法,浸涂法,气刀涂法,刮刀涂布法或辊涂法。
可以向本发明的光敏层中加入表面活性剂以改善涂布性,例如JP-A No.62-170950中所述的氟化表面活性剂。加入量以记录层总固体计,优选为0.01~1重量%,更优选为0.05~0.5重量%。<曝光和显影>
用上述方法制备的平板印刷版原版一般要进行图象曝光和显影处理。
图象曝光所用的激活照射光源可以是,例如汞灯,金属卤化物灯,氙灯,化学灯或碳弧光。照射线可以是,例如电子束,X-射线,离子束或远红外光。还可以使用g-线光,i-线光,深紫外光或高密度能量束(激光束)。激光束源可以是氦-氖激光器,氩激光器,氪激光器,氦-镉激光器或KrF激态准分子激光器。本发明中,优选发射光波长在近红外至红外区的光源,特别优选固态激光器或半导体激光器。
可以使用本领域熟知的碱性水溶液作为本发明平板印刷版的显影液和补充液。
例如,可以采用无机碱性盐,如硅酸钠,硅酸钾,磷酸三钠,磷酸三钾,磷酸三铵,磷酸氢二钠,磷酸氢二钾,磷酸氢二铵,碳酸钠,碳酸钾,碳酸铵,碳酸氢钠,碳酸氢钾,碳酸氢铵,硼酸钠,硼酸钾,硼酸铵,氢氧化钠,氢氧化铵,氢氧化钾或氢氧化锂。还可以使用有机碱性化合物,如一甲胺,二甲胺,三甲胺,一乙胺,二乙胺,三乙胺,一异丙胺,二异丙胺,三异丙胺,正-丁胺,一乙醇胺,二乙醇胺,三乙醇胺,一异丙醇胺,二异丙醇胺,氮丙啶,1,2-乙二胺或吡啶。这种碱性化合物可以单独使用,或两种或多种结合使用。
这些碱性化合物中特别优选的显影剂是硅酸盐水溶液,例如硅酸钠或硅酸钾溶液。这是因为可以通过组成硅酸盐的氧化硅SiO2和碱金属氧化物M2O的比例和浓度来调节显影性,可以高效使用JP-A No.54-62004和JP-B No.57-7427中所述的碱金属硅酸盐。
而且,当用自动显影设备进行显影时,已经知道许多预敏化板可以长期不用替换显影槽中的显影剂,而只需向显影液中加入碱强度高于显影液的水溶液(补充液),即可进行显影。本发明中也可以方便地采用这种补充方法。可以根据需要将各种表面活性剂和有机溶剂加入到显影液和补充液中,以增加或抑制显影性、分散显影渣并改善印刷版图象区的亲油墨性。
优选的表面活性剂可以是阴离子,阳离子,非离子或两性表面活性剂。如果需要,还可以向显影液和补充液中加入还原剂,如氢醌,间苯二酚,诸如亚硫酸或氢亚硫酸等的无机酸的钠盐或钾盐,有机羧酸,消泡剂或水软化剂。
对经上述显影液和补充液显影的印刷版用如下溶液进行后处理冲洗水,含例如表面活性剂的冲洗液,或含阿拉伯胶或淀粉衍生物的减感溶液。在本发明平板印刷版后处理中,可以采取这些处理的各种组合形式。
近来制版和印刷行业中对印刷版广泛采用一种自动显影装置,以达到制版操作的合理化和标准化。这种自动化显影设备一般由显影单元和后处理单元组成,并配有传送印刷版的装置、盛各种液体的槽和喷射装置,在这些装置中对曝光的印刷版进行处理,水平传送印刷版,用泵将各种处理液从喷嘴中喷射出来进行显影处理。最近,还知道有一种处理方法,该方法采用例如液导滚筒(in-liquid guide rollers)的方法,将印刷版以浸泡在处理槽中所填充的处理液中的状态进行传送。在这种自动处理方法中,可以根据处理量或运行时间向每个处理液中补充补充液,来进行处理。还可以采用所谓的可置换处理方法,这种方法是用基本未使用过的处理液进行处理的。
在本发明的平板印刷版原版中,如果通过图象曝光,显影,冲洗和/或涂胶处理后获得的平板印刷版含不必要的图象区(例如原始膜边缘的痕迹),则对非必要图象部分进行删除。进行这种删除时,优选JP-B No.2-13293中所述的方法在非必要图象区涂上清除液,放置到预定的时间后用水进行冲洗,但也可以如JP-A No.59-174842中所述的那样,用光纤传导的光源照射非必要图象部分,然后进行显影。
这样所得的平板印刷版,如果需要的话,可以在涂上消感胶后进行印刷处理,也可以在需要更长运转周期的情况下进行煅烧处理。对平板印刷版进行煅烧处理时,优选如JP-B Nos.61-2518和55-28062以及JP-A Nos.62-31859和61-159655中所述的那样,在煅烧前用反蚀刻液进行处理。
可以用如下方法进行这种处理用海绵或棉垫将反蚀刻液涂在平板印刷版上,或者将印刷版浸泡在盛有反蚀刻液的瓮中,或者用自动涂布机进行涂布。可以在涂布后用压榨机或压辊使涂量均匀,来达到更优选的效果。
反蚀刻液的涂量一般为0.03~0.8g/m2(干重)。如果需要,在涂有反蚀刻液的平板印刷版干燥后,用煅烧处理器(例如Fuji Photo Film Co.,Ltd.提供的“BP-1300”煅烧处理器)加热至高温。这种操作中加热的温度和时间根据组成图象的组分的种类而定,但优选为180~300℃和1~20分钟。
煅烧处理后的平板印刷版可以适当地进行常规的处理,例如冲洗和涂胶,但当使用含水溶聚合物的反蚀刻溶液时,可以免除所谓的消感处理,如涂胶。如此处理后所得的平板印刷版可用于,例如胶版印刷机以及大量印刷品的印刷中。[实施例]下面将通过实施例更详细地阐明本发明,但本发明的范围并不局限于这些实施例。[实施例1][合成实施例1合成特定亲水聚合物]将50g丙烯酰胺、3.4g巯丙基三甲氧基硅烷和220g二甲基乙酰胺装入500ml三口瓶中,在氮气流下,在65℃加入0.5g 2,2-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)。在此温度下搅拌混合物6小时后,使其冷却至室温。将混合物倒入2升乙酸乙酯中,过滤收集沉淀物,用水洗涤,以获得亲水聚合物。干燥后的重量为52.4g。经GPC(聚苯乙烯标准)证实该聚合物是重均分子量为3000的聚合物,13C-NMR(DMSO-d6)表明该聚合物是具有上述特定实例(1-1)结构的特定亲水聚合物,其中在其末端引入了一个三甲氧基甲硅烷基(50.0ppm)。[铝基片的制备]
将厚度为0.3mm的铝板(1050级)用三氯乙烯清洗进行脱脂,然后用尼龙刷和400目浮石的水悬浮液进行表面粗糙化处理,并用水充分清洗。将该板浸入45℃的25重量%氢氧化钠水溶液中9秒钟进行蚀刻,然后水洗,再浸入2重量%的硝酸中20秒,用水清洗。该操作中,粗糙化表面的蚀刻量约为3g/m2。
然后在电流密度为15A/dm2,7重量%硫酸作为电解液的条件下处理该板,以获得厚度为2.4g/m2的DC阳极化膜,之后用水清洗,并干燥,得到作为支撑构件基片的铝基片。[亲水表面的形成]将如下组合物混合均匀,20℃下搅拌2小时,使其水解,以获得溶胶亲水涂液组合物。(亲水涂液组合物)特定亲水聚合物 0.21g(实施例化合物(1-1))四甲氧基硅烷 0.62g乙醇 4.70g水 4.70g硝酸水溶液(1N) 0.10g然后将亲水涂液组合物涂在铝基片上,使干燥后的涂量为2g/m2,100℃干燥10分钟,以获得由有机-无机复合物组成的亲水层,从而制成了支撑构件。
所得支撑构件亲水表面的接触角(空气中的水滴),用CA-Z测量(由Kyowa Kaimen Kagaku Co.,Ltd.制造)为7.9°,证实了该支撑构件具有极好的表面亲水性。[阳片记录层的制备]将如下的阳片记录层涂液涂在所得的支撑构件上,涂量为1.0g/m2,在Wind Control设置为7的TABAI Corp.制造的PERFECT OVEN PH200中,140℃下干燥50秒,由此形成阳片记录层,并完成了实施例1的平板印刷版原版的制备。(阳片记录层涂液)N-(4-氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲 1.896g酯(35/35/30重均分子量50,000)酚醛清漆树脂(Sumitomo-Durez Co.,Ltd.; 0.332gSumilight树脂PPR54020)花青染料A(结构如下) 0.155g4,4’-二羟苯基砜 0.063g四氢化邻苯二甲酸酐 0.190g对-甲苯磺酸 0.008g乙基紫,其配对离子变为6-羟基萘磺酸 0.05g氟化表面活性剂(Megafac F176;Dai-Nippon Ink and 0.145gChemical Industries,Co.Ltd.) -氟化表面活性剂(Megafac MCF-3 12(30%);Dai-Nippon 0.120gInk and Chemical Industries,Co.Ltd.)甲基乙基酮 26.6g1-甲氧基-2-丙醇 13.6gγ-丁内酯 13.8g花青染料A [平板印刷版原版的评估]将所得的平板印刷版原版进行曝光,显影和印刷,对所得印刷品的浮渣进行评估。
将平板印刷版原版用9W的射束强度和150rpm的鼓转速在CreoTrendsetter上以测试模式进行记录。其后用装有显影剂DT-1(稀释到1∶8,由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)和抛光剂FP2W(稀释到1∶1,由Fuji PhotoFilinCo.,Ltd.制造)的PS处理器900H(Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)进行显影,所用液体温度为30℃,显影时间为12秒。该操作中显影剂的电导率为45mS/cm。
将显影的平板印刷版安在印刷机上(商品名Ryobi 3200,Ryobi ImagicsCo.,Ltd.制造),用喷射溶液IF201(2.5%)和IF202(0.75%)(Fuji Photo FilmCo.,Ltd.制造)以及GEOS-G Black油墨(Dai-Nippon Ink and ChemicalIndustries,Co.Ltd.制造)进行印刷操作。
结果是,用本发明实施例1的平板印刷版印刷的印刷品具有高图象质量且浮渣少。当持续进行印刷操作时,即使是在印刷了9,000份拷贝之后,实施例1的平板印刷版仍提供出非图象区无浮渣的满意的印刷品,从而证实了其依然维持了极好的亲水性。[实施例2~15]采用与实施例1相同的方法制备含亲水表面的支撑构件,只是如表1所示改变了亲水涂液组合物及其涂量。在每个支撑构件上按与实施例1相同的方法制备阳片记录层,以获得实施例2~15的平板印刷版原版。[平板印刷版原版的评估]将实施例2~15中所得的平板印刷版原版,按照与实施例1相同的方法分别进行曝光,显影和印刷,对所得印刷品上的浮渣进行评估。结果见表1。
表1

从表1可清楚地看出,用本发明实施例2~15的平板印刷版印刷的印刷品同样具有高图象质量且浮渣少。当持续进行印刷操作时,即使是在印刷了9,000或15,000份拷贝之后,实施例2~15的平板印刷版仍提供出非图象区无浮渣的满意的印刷品,从而证实了其依然维持了极好的亲水性。[实施例16]用与实施例1类似的方式制备实施例16的平板印刷版原版,只是用如下方式制成作为叠层结构的记录层的阳片记录层。
将实施例1中所用的含亲水层(亲水表面)的支撑构件用如下底层涂液涂布,涂量为0.85g/m2,然后在Wind Control设置为7的TABAI Corp.制造的PERFECT OVEN PH200中,140℃下干燥50秒,再涂以如下的上层涂液,涂量为0.15g/m2,以类似的方式在120℃下干燥1分钟,从而制得具有叠层结构的阳片记录层,完成实施例16的平板印刷版原版的制作。(底层涂液)N-(4-氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲 1.896g酯(36/34/30重均分子量50,000)间,对-甲酚酚醛清漆(间/对=6/4,0.237g重均分子量4500,残余单体0.8重量%)花青染料A(上述结构) 0.109g4,4’-二羟基苯基砜 0.063g四氢化邻苯二甲酸酐 0.190g对-甲苯磺酸 0.008g乙基紫,其配对离子变为6-羟基萘磺酸 0.05g氟化表面活性剂(Megafac F176;Dai-Nippon Ink and 0.035gChemical Industries,Co.Ltd.)甲基乙基酮 26.6g1-甲氧基-2-丙醇 13.6gγ-丁内酯 13.8g(上层涂液)间,对-甲酚酚醛清漆(间/对=6/4,0.237g重均分子量4500,残余单体0.8重量%)花青染料A(上述结构) 0.047g硬脂酸十二烷酯 0.060g3-甲氧基-4-二偶氮二苯胺六氟磷酸盐 0.030g氟化表面活性剂(Megafac F176;Dai-Nippon Ink and 0.110gChemical Industries,Co.Ltd.)氟化表面活性剂(Megafac MCF-3 12(30%);Dai-Nippon 0.120gInk and Chemical Industries,Co.Ltd.)甲基乙基酮 15.1g1-甲氧基-2-丙醇7.7g[平板印刷版原版的评估]将实施例16中所得的平板印刷版原版,按照与实施例1相同的方法进行曝光,显影和印刷,对所得印刷品上的浮渣进行评估。结果表明用本发明实施例16的平板印刷版印刷出来的印刷品具有高图象质量且浮渣少。当持续进行印刷操作时,即使是在印刷了9,000份拷贝之后,实施例16的平板印刷版仍提供出非图象区无浮渣的满意的印刷品,从而证实了其维持了极好的亲水性。[实施例17~20]采用与实施例1相同的方式制备含亲水表面的支撑构件,只是如表1所示改变了亲水涂液组合物及其涂量。在每个这样的支撑构件上按与实施例1相同的方法制备阳片记录层,以获得实施例1 7~20的平板印刷版原版。[平板印刷版原版的评估]将实施例17~20中所得的平板印刷版原版,按照与实施例1相同的方法分别进行曝光,显影和印刷,对所得印刷品上的浮渣进行评估。结果见表2。
表2

从表2可清楚地看出,用本发明实施例17~20的平板印刷版印刷出来的印刷品同样具有高图象质量且浮渣少。当持续进行印刷操作时,即使是在印刷了9,000或15,000份拷贝之后,实施例17~20的平板印刷版仍提供出非图象区无浮渣的满意的印刷品,从而证实了其维持了极好的亲水性。
本发明的平板印刷版原版采用了含亲水性和耐用性俱佳的亲水表面的支撑构件,对印刷操作中的浮渣现象具有改进作用,并且即使是在苛刻的印刷条件下仍能够提供大量高图象质量的印刷品。
权利要求
1.一种平板印刷版原版,该原版包括支撑体,包括铝基片和置于其上的亲水层,亲水层是通过化学键合亲水性聚合物而形成的,该聚合物含一个能够与所述铝基片表面化学键合的活性基团,其作用方式可以是直接键合或通过一个含交联结构的结构组分键合;和位于支撑体上的阳片记录层,包括用于吸收光和产生热量的材料,以及不溶于水但溶于碱的聚合物;其中阳片记录层在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加。
2.根据权利要求1的平板印刷版原版,其中亲水聚合物用如下通式(1)表示通式(1)(R1)m(OR2)3-m-Si-L3- (iii)其中通式(1)表示这样一种聚合物,在其结构单元(i)和(ii)表示的聚合单元末端含由结构单元(iii)表示的硅烷偶合基,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烃基;m代表0、1或2;n表示1~8的整数;x和y各自表示一种组成比例,其中x+y=100,x∶y为100∶0~1∶99;L1、L2和L3各自独立地表示单键或有机连接基;Y1和Y2各自独立地表示-N(R7)(R8)、-OH、-NHCOR7、-COR7、-CO2M或-SO3M,其中R7和R8独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烷基,M表示氢原子、碱金属、碱土金属或鎓。
3.权利要求2的平板印刷版原版,其中通式(1)中R1~R6中的每一个独立地选自氢原子,甲基和乙基。
4.权利要求2的平板印刷版原版,其中通式(1)中Y1和Y2各自独立地选自-NHCOCH3,-CONH2,-COOH,-SO3-Nme4+和吗啉代基。
5.权利要求2的平板印刷版原版,其中亲水聚合物的分子量为1,000~100,000。
6.权利要求2的平板印刷版原版,其中亲水聚合物是与其它单体的共聚物,这些单体选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯基酯、苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、马来酸酐或马来酰亚胺。
7.权利要求1的平板印刷版原版,其中亲水聚合物用如下通式(2)表示通式(2) 其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烃基;m代表0、1或2;x和y各自表示一种组成比例,其中x+y=100,x∶y为99∶1~50∶50;L1、L2各自独立地表示单键或有机连接基;Y1表示-N(R7)(R8)、-OH、-NHCOR7、-COR7、-CO2M或-SO3M,其中R7和R8各自独立地表示氢原子或含1~8个碳原子的烷基,M表示氢原子、碱金属、碱土金属或鎓。
8.权利要求7的平板印刷版原版,其中通式(2)中R1~R6中的每一个独立地选自氢原子,甲基和乙基。
9.权利要求7的平板印刷版原版,其中通式(2)中的Y1选自-NHCOCH3,-CONH2,-COOH,-SO3-Nme4+和吗啉代基。
10.权利要求7的平板印刷版原版,其中亲水聚合物的分子量为1,000~100,000。
11.权利要求7的平板印刷版原版,其中亲水聚合物是与其它单体的共聚物,这些单体选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯基酯、苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、马来酸酐或马来酰亚胺。
12.权利要求1的平板印刷版原版,其中亲水表面是通过将亲水性涂液涂在铝基片表面上并干燥而得的,这种亲水性涂液含亲水聚合物和如下通式(3)所示的交联组分通式(3) 其中R9和R10各自独立地表示烷基;X表示Si、Al、Ti或Zr;m代表0~2的整数。
13.权利要求12的平板印刷版原版,其中亲水聚合物是通式(1)所示的亲水聚合物。
14.权利要求12的平板印刷版原版,其中亲水聚合物是通式(2)所示的亲水聚合物。
15.权利要求1的平板印刷版原版,其中能够吸光生热的物质是红外吸收染料或红外吸收颜料,它们的最大吸收波长范围为760~1200nm。
16.权利要求1的平板印刷版原版,其中能够吸光生热的物质是这样一种染料,该染料选自偶氮染料,金属复合偶氮染料,吡唑啉酮偶氮染料,萘醌染料,蒽醌染料,酞菁染料,碳鎓染料,醌亚胺染料,次甲基染料,花青染料,角鲨烯鎓染料,吡喃鎓染料,金属硫醇盐染料,氧杂菁染料,二亚胺鎓染料,铵染料和铬鎓染料。
17.权利要求1的平板印刷版原版,其中能够吸光生热的物质是这样一种颜料,该颜料选自不溶的偶氮颜料,偶氮色淀颜料,缩合偶氮颜料,螯合偶氮颜料,酞菁颜料,蒽醌颜料,苝和苝酮颜料,硫靛颜料,喹吖啶酮颜料,二噁嗪颜料,异吲哚啉酮颜料,喹啉并酞酮颜料,瓮色淀颜料,吖嗪颜料,亚硝基颜料,硝基颜料,天然颜料,荧光颜料,无机颜料和碳黑。
18.权利要求1的平板印刷版原版,其中不溶于水而溶于碱的聚合物在其聚合物分子中含一种酸基,该酸基选自(1)酚羟基,(2)氨磺酰基,(3)取代的氨磺酰酸性基团(活性酰亚胺基),(4)羧酸基,(5)磺酸基,以及(6)磷酸基。
19.权利要求1的平板印刷版原版,其中不溶于水而溶于碱的聚合物是这样一种树脂,该树脂选自苯酚甲醛树脂,间-甲酚甲醛树脂,对-甲酚甲醛树脂,间-/对-混合的甲酚甲醛树脂,苯酚/甲酚混合的甲醛树脂,叔-丁基苯酚甲醛树脂,辛基苯酚甲醛树脂和焦棓酚丙酮树脂。
20.权利要求19的平板印刷版原版,其中树脂的重均分子量为500~20,000,数均分子量为200~10,000。
全文摘要
本发明提供了一种平板印刷版原版,该原版采用含亲水性和耐用性俱佳的亲水表面的支撑构件,对印刷操作中的浮渣现象具有改进作用,并且即使是在苛刻的印刷条件下仍能够提供大量高图象质量的印刷品。该原版包括一种支撑构件,该构件含铝基片和置于其上的亲水层,亲水层是通过化学键合亲水性聚合物而形成的,该聚合物含一个能够和该铝基片表面化学键合的活性基团,其作用方式可以是直接键合或通过一个含交联结构的结构组分键合;和置于支撑体上的阳片记录层,该记录层含吸收光和产生热量的材料,以及不溶于水但溶于碱的聚合物,其中记录层在碱性水溶液中的溶解度通过曝光而增加。
文档编号B41M5/40GK1422743SQ02154060
公开日2003年6月11日 申请日期2002年12月9日 优先权日2001年12月7日
发明者山崎纯明, 川村浩一, 堀田久 申请人:富士胶片株式会社
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