一种印标装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及印刷生产设备技术领域，尤其是涉及印标装置。
【背景技术】
[0002]印标装置是实现将相应的文字、图案及其结合等印刷到产品表面上。而现有的印标装置只能实现一次单面印标，要完成产品正反面印标，需要翻面后重复进料印刷，工序繁琐，效率低，且不良率高。
[0003]【实用新型内容】:
[0004]本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种可一次双面印标，提升效率和质量的印标装置。
[0005]为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案:
[0006]一种印标装置，包括有机座，于机座上设有回转型传送通道，该回转型传送通道依次经过正面印标机组和背面印标机组；所述正面印标机组包括有依次分布的正面印标器和正面烘烤箱；所述背面印标机组包括有依次分布的背面印标器和背面烘烤箱。
[0007]上述方案进一步是:所述回转型传送通道设置在机座的一侧面上，呈倒S形；所述正面印标机组设置有一组或多组依次排列；所述背面印标机组也设置一组或多组依次排列。
[0008]本实用新型有效设计传送通道，实现产品自行换面印标，并在传送通道上依次分布有正面印标机组和背面印标机组，达到一次双面印标，提升效率和质量，结构简单，科学合理，制作容易，投资成本低，实用性高，符合产业利用。
[0009]【附图说明】:
[0010]附图1为本实用新型的较佳实施例结构示意图。
[0011]【具体实施方式】:
[0012]以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。
[0013]参阅图1所示，本实用新型有关一种印标装置，尤其是适合带状产品双面印标者，包括有机座10，于机座10上设有回转型传送通道，该回转型传送通道依次经过正面印标机组2和背面印标机组3 ;所述正面印标机组2包括有依次分布的正面印标器21和正面烘烤箱22 ;所述背面印标机组3包括有依次分布的背面印标器31和背面烘烤箱32。正面印标机组2和背面印标机组3的工作原理与传统的印标装置一致，在此不再详细赘述。图1所示的本实施例，回转型传送通道设置在机座10的一侧面上，呈倒S形，有效缩短长度，体形小，结构紧凑；所述正面印标机组2设置有一组或多组依次排列，实现单色或多色印刷，图中实施例有两组正面印标机组2，实现双色印刷。所述背面印标机组3也可设置一组或多组依次排列，实现单色或多色印刷，在图中实施例有一组背面印标机组3，实现单色印刷。
[0014]本实用新型设计传送通道为回转型，实现产品自行换面印标，并在传送通道上依次分布有正面印标机组2和背面印标机组3，这样即可达到产品一次传送双面印标，效率高，且正背面印标是在产品连续移动中完成，移动稳定，行走定位良好，不易错位，因而印标位置稳定，印标质量好，大大减少不良率，节约成本。本实用新型结构简单，科学合理，制作容易，投资成本低，大大提升了设备的运行率和实用性。
[0015]当然，以上结合实施方式对本实用新型做了详细说明，只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限定本实用新型的保护范围，故凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种印标装置，包括有机座(10)，其特征在于:于机座(10)上设有回转型传送通道，该回转型传送通道依次经过正面印标机组(2)和背面印标机组(3);所述正面印标机组(2)包括有依次分布的正面印标器(21)和正面烘烤箱(22);所述背面印标机组(3)包括有依次分布的背面印标器(31)和背面烘烤箱(32 )。2.根据权利要求1所述的一种印标装置，其特征在于:所述回转型传送通道设置在机座(10)的一侧面上，呈倒S形；所述正面印标机组(2)设置有一组或多组依次排列；所述背面印标机组(3)也设置一组或多组依次排列。
【专利摘要】本实用新型涉及印刷生产设备技术领域，尤其是涉及一种印标装置，包括有机座，于机座上设有回转型传送通道，该回转型传送通道依次经过正面印标机组和背面印标机组；所述正面印标机组包括有依次分布的正面印标器和正面烘烤箱；所述背面印标机组包括有依次分布的背面印标器和背面烘烤箱；所述回转型传送通道设置在机座的一侧面上，呈倒S形；所述正面印标机组设置有一组或多组依次排列；所述背面印标机组也设置一组或多组依次排列。本实用新型实现产品自行换面印标，并在传送通道上依次分布有正面印标机组和背面印标机组，达到一次双面印标，提升效率和质量，结构简单，科学合理，制作容易，投资成本低，实用性高，符合产业利用。
【IPC分类】B41F17/00
【公开号】CN204820637
【申请号】CN201520568441
【发明人】黄松耀, 柯永麒, 许元钿, 蔡敏, 谢懿璇
【申请人】汕头市凯虹印务有限公司
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2015年7月31日