光栅式位相差液晶膜制造工艺的制作方法

文档序号:2754297阅读:195来源:国知局
专利名称:光栅式位相差液晶膜制造工艺的制作方法
技术领域
本发明涉及一种制造工艺,尤其涉及一种应用在立体显示装置中的光栅式位相差 液晶膜制造工艺。
背景技术
现在立体显示装置越来越多的出现在众多场合的应用中,其立体显示的基本原理 是给人的左右眼分别提供两幅有差异的图画,由大脑将这两幅图画合成为具有3D效果的 影像。能分别提供这两幅图画的方式有很多,其中利用偏光眼镜来检偏由一种位相过滤器 输出的信息,从而分离出左右眼的图像,分别提供给左右眼。目前立体显示装置中的位相过滤器一般是采用激光刻蚀出来的微偏光层 (micro-polarizer)阵列的光学膜,其采用厚度的差异来实现位相的差异。但是,这种光学 膜在制造时要求厚度控制比较精确,而且均勻性要求很高,所以其成本较高,对应增加了应 用该位相过滤器的立体显示装置的成本
发明内容
针对现有技术立体显示装置的微偏光层制造工艺要求比较高的问题,本发明提供 一种制造工艺简单、成本低的光栅式位相差液晶膜制造工艺。一种光栅式位相差液晶膜制造工艺,其用来制造在立体显示装置中设置显示器表 面的光栅式位相差液晶膜。该光栅式位相差液晶膜制造工艺包括以下步骤步骤一、提供上 下玻璃基板,在该上下玻璃基板表面光刻形成相互间隔的透明导电层,并在该玻璃基板和 该透明导电层上印刷脱膜胶;步骤二、在脱膜胶上印刷定向膜,并对该定向膜进行摩擦;步 骤三、将该上下玻璃基板贴合形成液晶盒,切割该液晶盒并在其中灌注液晶;步骤四、对液 晶进行紫外固化,然后对该脱膜胶进行脱膜,得到该光栅式位相差液晶膜。优选地,该脱膜胶是热熔胶,印刷该印刷热熔胶时,采用滚筒印刷涂敷工艺,且该 热熔胶的涂敷厚度小于0. 2mm。优选地,在步骤二中,上下玻璃基板为正交方向摩擦。优选地,其中一玻璃基板的摩擦方向为-45度,另一玻璃基板的摩擦方向为+45度。优选地,步骤四中,对该脱膜胶进行脱膜时,其温度范围在液晶清亮点与液晶分解 温度之间。优选地,在固化液晶时,固化方法为紫外固化,且固化温度与灌注液晶时的温度相 同。优选地,在灌注液晶时的温度低于脱膜胶的熔化温度。优选地,该定向膜的材料为聚酰亚胺。优选地,该透明导电层的材料为氧化铟锡或者氧化铟锌。本发明光栅式位相差液晶膜制造工艺,可以用简单的工艺和较低的成本制作出均勻性较好的光栅式位相差液晶膜。


图1是本发明相关立体显示装置的结构分解示意图。图2是图1所示位相过滤器的结构分解示意图。图3是本发明光栅式位相差液晶膜制造工艺中形成透明导电层的示意图。图4是图3步骤后形成热熔胶层的示意图。图5是图4步骤后形成定向膜的示意图。图6是图5步骤后摩擦定向膜的示意图。图7是图6步骤后上下玻璃基板贴合成液晶盒的示意图。图8是图7步骤后灌注液晶的示意图。图9是图8步骤后固化液晶的示意图。图10是图9步骤后热熔胶脱膜的示意图。图11是图10步骤后成品膜边缘切割修整的示意图。
具体实施例方式下面结合附图对本发明光栅式位相差液晶膜制造工艺进行说明。请一并参阅图1和图2,其中,图1是本发明相关立体显示装置的结构分解示意图, 图2是图1所示位相过滤器的结构分解示意图。该立体显示装置1包括液晶显示器(liquid crystal display, IXD) 2和位相过滤器3,在使用中,需借助偏光眼镜4来检偏由该位相过 滤器3输出的信息,从而分离出左右眼的图像,分别提供给左右眼,达到观看立体显示的效^ ο该位相过滤器3包括光栅式位相差液晶膜32和λ /4波片34,该光栅式位相差液 晶膜32设置在该液晶显示器2表面,该λ /4波片34位于该光栅式位相差液晶膜32和该 偏光眼镜4之间。该光栅式位相差液晶膜32的主要作用是在奇数行和偶数行分别对入射 的线偏振光实现奇数行和偶数行的λ/2位相差,其为隔行固化定向旋转90°的液晶膜,其 紧贴在该液晶显示器2的表面,并且经过精确对位,使其隔行的宽度和该液晶显示器2的子 像素的宽度完全重合。由该液晶显示器2出射的是相同方向的线偏振光,经过该光栅式位相差液晶膜 32中的固化定向旋转90°的液晶行,其产生λ/2的位相差,线偏振光就被TN(twisted nematic,扭曲向列型面板)液晶盒扭转90度。而经过该光栅式位相差液晶膜32中的无旋 转的液晶行时,线偏振光不产生相位差,线偏振光不发生扭转而是直接射出,不改变方向, 如此形成奇数/偶数行互相垂直的两个方向的线偏振光。该λ /4波片34设置在该光栅式位相差液晶膜32和该偏光眼镜4之间,其主要作 用是将从该光栅式位相差液晶膜32射出的0 λ、λ/2位相差的线偏振光转换成左圆偏振光 和右圆偏振光,通过该偏光眼镜4的左圆偏振片和右圆偏振片,即可实现左右眼的图像分 离,达到立体观看效果。请参阅图3至图11,该光栅式位相差液晶膜32可以通过简易、低成本的制作工艺 来制得,其中用于脱膜的胶可以是热熔胶或光敏胶,本实施方式中以热熔胶为例说明该光栅式位相差液晶膜32制造工艺(1)如图3,形成透明导电层322。首先提供用于成盒的上下两块玻璃基板320,在 该玻璃基板320表面光刻形成相互间隔的透明导电层322,其中该透明导电层322的材料为 氧化铟锡(ITO)或者氧化铟锌(IZO);(2)如图4,印刷热熔胶324。在透明导电层322上印刷热熔胶324,优先采用滚筒 印刷涂敷工艺,选用温度小于185摄氏度的热熔胶324,或者选用大于液晶清亮点但小于液 晶分解温度的热熔胶324,其涂敷厚度小于0. 2mm,在保温状态下对热熔胶324涂覆均勻,然 后将热熔胶324冷却;(3)如图5,印刷定向膜326。在热熔胶324层上印刷定向膜326,然后对所印刷的 定向膜326进行固化,该定向膜326的材料为聚酰亚胺(polyimidc,PI);(4)如图6,摩擦定向膜326。选择两块玻璃基板320的正交方向为摩擦方向,较佳 的摩擦方向选择为两块玻璃基板320的方向分别设置为-45度和+45度;(5)如图7,贴合成盒。将形成有定向膜326的上下玻璃基板320贴合形成TN盒, 并在上下玻璃基板320间设置边框327,其中,贴合成盒工序包括导电料丝印、边框丝印、喷 粉、对位贴合和低温热压;(6)如图8,灌注液晶328。先对该TN盒进行正常切割,然后灌注液晶328,其中在 高温灌注液晶328时,其温度选择低于热熔胶324的熔化温度,且低于液晶328清亮点温度 但高于液晶328的向列相温度;(7)如图9,固化液晶328。对该液晶328层进行紫外固化,其中固化温度与灌注液 晶328时的温度相同,隔行加电压,电压选择适当频率的高电压;(8)如图10,热熔胶324脱膜。在高温下对热熔胶324进行熔化脱膜,温度控制在 液晶328清亮点与液晶328分解温度之间,由于液晶328已经紫外固化工序,所以液晶328 不会受到影响;(9)如图11,成品膜边缘切割修整。采用激光切割修整,将成品膜的边缘进行切割 修整,形成成品光栅式位相差液晶膜32。本发明光栅式位相差液晶膜制造工艺,可以用简单的工艺和较低的成本制作出均 勻性较好的光栅式位相差液晶膜。以上仅为本发明的优选实施案例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术 人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修 改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
一种光栅式位相差液晶膜制造工艺,用来制造在立体显示装置中设置显示器表面的光栅式位相差液晶膜,其特征在于,该光栅式位相差液晶膜制造工艺包括以下步骤步骤一、提供上下玻璃基板,在该上下玻璃基板表面光刻形成相互间隔的透明导电层,并在该玻璃基板和该透明导电层上印刷脱膜胶;步骤二、在脱膜胶上印刷定向膜,并对该定向膜进行摩擦;步骤三、将该上下玻璃基板贴合形成液晶盒,切割该液晶盒并在其中灌注液晶;步骤四、对液晶进行紫外固化,然后对该脱膜胶进行脱膜,得到该光栅式位相差液晶膜。
2.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于该脱膜胶是热 熔胶,印刷该印刷热熔胶时,采用滚筒印刷涂敷工艺,且该热熔胶的涂敷厚度小于0. 2mm。
3.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于在步骤二中,上 下玻璃基板为正交方向摩擦。
4.根据权利要求3所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于其中一玻璃基 板的摩擦方向为-45度,另一玻璃基板的摩擦方向为+45度。
5.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于步骤四中,对该 脱膜胶进行脱膜时,其温度范围在液晶清亮点与液晶分解温度之间。
6.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于在固化液晶时, 固化方法为紫外固化,且固化温度与灌注液晶时的温度相同。
7.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于在灌注液晶时 的温度低于脱膜胶的熔化温度。
8.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于该定向膜的材 料为聚酰亚胺。
9.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺,其特征在于该透明导电层 的材料为氧化铟锡或者氧化铟锌。全文摘要
本发明提供一种光栅式位相差液晶膜制造工艺,其用来制造在立体显示装置中设置显示器表面的光栅式位相差液晶膜。该光栅式位相差液晶膜制造工艺包括以下步骤步骤一、提供上下玻璃基板,在该上下玻璃基板表面光刻形成相互间隔的透明导电层,并在该玻璃基板和该透明导电层上印刷脱膜胶;步骤二、在脱膜胶上印刷定向膜,并对该定向膜进行摩擦;步骤三、将该上下玻璃基板贴合形成液晶盒,切割该液晶盒并在其中灌注液晶;步骤四、对液晶进行紫外固化,然后对该脱膜胶进行脱膜,得到该光栅式位相差液晶膜。本发明的光栅式位相差液晶膜制造工艺具有工艺简单、成本低的优点。
文档编号G02B5/30GK101900850SQ20101016949
公开日2010年12月1日 申请日期2010年5月6日 优先权日2010年5月6日
发明者刘再权, 刘晓林, 孙晓平, 牛磊, 谢佳, 陈瑞改 申请人:天马微电子股份有限公司
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