专利名称：液晶面板的制作方法及装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶面板制作技术领域，尤其涉及一种液晶面板的制作方法及装置。
背景技术：
TFT (Thin Film Transistor,薄膜场效应晶体管)液晶面板的制造通常包括阵列制程和成盒制程。其中，阵列制程包括形成TFT阵列基板及CF基板；成盒制程中，在TFT阵列基板及CF基板上形成配向膜，并将CF基板和TFT阵列基板贴合并注入液晶。所述TFT阵列基板一般包括扫描线、数据线、TFT阵列及像素电极。在TFT阵列基板形成后，需要对TFT阵列基板进行检测，以确认TFT基板上的扫描线、数据线是否存在缺陷。经过检测无缺陷的TFT阵列基板，进入成盒制程，在TFT阵列基板涂布配向膜之前，需要对TFT阵列基板进行清洁，以去除TFT阵列基板上的微粒或油污等。但是，在去除TFT阵列基板上的微粒或油污时，经常会造成TFT阵列基板的扫描线或数据线出现断线的情况。比如，在清洗阵列基板过程中，在刮除阵列基板上的微粒时，容易造成阵列基板断线或微断线，并有可能会让修补机在阵列基板上的镀线，在清洗阵列基板后被剥离，造成阵列基板断线；同样，在对阵列基板进行紫外光照射时，容易使阵列基板的电子能阶升高，致使后续涂布配向膜前产生静电击伤现象。而在对TFT阵列基板清洁之后至在TFT阵列基板上形成配向膜之前，不会再对TFT阵列基板进行检测，因此，在成盒制程中，若将由于清洁而造成存在断线的TFT阵列基板与CF基板组装，则会由于阵列基板上存在断线，造成液晶面板的配向不良或者出现坏点，进而导致液晶面板报废。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种液晶面板的制作方法及装置，旨在降低液晶面板的报废率。为了达到上述目的，本发明提出一种液晶面板的制作方法，包括以下步骤对TFT阵列基板进行清洁处理；对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理。 优选地，所述对TFT阵列基板进行清洁处理的步骤包括通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗；通过超音波并结合清洁剂对水洗后的TFT阵列基板进行清洁；对所述TFT阵列基板进行紫外光照射。优选地，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括、
若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线，则修补机对所述TFT阵列基板进行断线修补；
将修补后的TFT阵列基板送入成盒制程。优选地，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上不存在断线，则所述TFT阵列基板被送入成盒制程。优选地，所述通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗包括由一喷水装置向阵列基板喷水及由毛刷配合所述喷水装置清洁TFT阵列基板。本发明还提出一种液晶面板的制作装置，包括 清洁机构，用于对TFT阵列基板进行清洁处理； 阵列测试机，用于对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；修补机，用于修补TFT阵列基板上的断线。优选地，所述清洁机构包括清洁器，用于对所述阵列基板进行水洗，去除所述阵列基板上的较大微粒；超音波器，用于结合清洁剂对水洗后的阵列基板进行清洁，去除所述阵列基板上的较小微粒；紫外光照射机，用于对所述阵列基板进行紫外光照射，去除所述阵列基板上的有机物。优选地，所述修补机具体用于当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线时，对所述TFT阵列基板进行断线修补。优选地，所述液晶面板的制作装置进一步包括一成盒装置，该成盒装置用于在所述TFT阵列基板上形成配向膜，并将一 CF基板与其贴合并在TFT阵列基板与CF基板之间注入液晶。优选地，所述清洁器包括一用于向阵列基板喷水的喷水装置和配合所述喷水装置清洁阵列基板的毛刷。本发明提出的一种液晶面板的制作方法及装置，通过对完成阵列制程后的阵列基板进行清洁处理之后，再进行阵列检测与断线修补，可避免清洁机构在清洁处理中造成断线的TFT阵列基板进入成盒装置，降低了液晶面板的报废率。同时，由于TFT阵列基板先经过清洁机构清洁处理清除TFT阵列基板上的微粒后再由阵列检测机对TFT阵列基板进行检测，避免了 TFT阵列基板上的微粒对阵列测试机的损伤。
图I是本发明液晶面板的制作装置较佳实施例的结构示意图；图2是本发明液晶面板的制作装置较佳实施例中清洁机构的结构示意图；图3是本发明液晶面板的制作方法较佳实施例的流程示意图。本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施例方式以下将结合附图及实施例，对实现发明目的的技术方案作详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。如图I所示，本发明较佳实施例提出一种液晶面板的制作装置，包括清洁机构201、阵列测试机202、修补机203及成盒装置204，其中清洁机构201用于对具有TFT阵列、数据线、扫描线、像素电极等的TFT阵列基板进行清洁处理；阵列测试机202用于对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试，以检测TFT阵列基板的数据线、扫描线等是否存在断线；修补机203用于修补TFT阵列基板中的断线；所述成盒装置204用于在所述TFT阵列基板上形成配向膜，并将一 CF基板与其贴合并在TFT阵列基板与CF基板之间注入液晶。在本实施例中，当TFT阵列基板完成阵列制程后，首先由清洁机构201对TFT阵列 基板进行清洁，然后由阵列检测机202对TFT阵列基板进行阵列测试。如图2所示，上述清洁机构201包括清洁器2011、超音波器2012以及紫外光照射机 2013。清洁器2011用于对所述TFT阵列基板进行水洗，以去除所述TFT阵列基板上的较大微粒；超音波器2012用于产生超音波，并结合清洁剂对水洗后的TFT阵列基板进行清洁，以去除所述TFT阵列基板上的较小微粒；紫外光照射机2013用于对去除微粒后的所述TFT阵列基板进行紫外光照射，以去除所述阵列基板上的油污等有机物。上述清洁器2011具体包括一喷水装置和一毛刷，所述喷水装置用于向阵列基板喷水，毛刷用于在喷水装置向阵列基板喷水的同时，滚动清洁阵列基板。如前所述，在上述清洁处理过程中，可能会造成TFT阵列基板断线或者其他缺陷，t匕如，采用清洁器2011或超音波器2012清洗TFT阵列基板，在去除TFT阵列基板上的大微粒或小微粒时，容易造成TFT阵列基板断线；在紫外光照射机2013对TFT阵列基板进行紫外光照射时，容易使TFT阵列基板的电子能阶升高，致使后续形成配向膜前产生静电击伤现象，而造成液晶面板报废。因此，本实施例在对TFT阵列基板进行清洁机构201清洁处理后，由阵列检测机202对TFT阵列基板进行阵列测试，以检测TFT阵列基板可能出现的断线，避免液晶面板报废。所述修补机203用于修补阵列检测机202检测出的存在断线的TFT阵列基板。具体地，本实施例通过阵列测试机202对经过清洁处理后的阵列基板进行阵列测试。由于TFT阵列基板上布置有TFT阵列、数据线、扫描线以及像素电极等，该阵列测试是指对TFT阵列基板的数据线、扫描线进行检测，通过检测判断TFT阵列基板是否存在断线情况。当所述阵列测试机202的测试结果为所述TFT阵列基板上存在断线时，所述修补机203对所述TFT阵列基板的断线进行修补，然后将修补后的TFT阵列基板送入成盒装置204 ;当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上不存在断线时，所述TFT阵列基板被送入成盒装置204。成盒装置204用于在所述TFT阵列基板及一 CF基板上形成配向膜，然后在TFT阵列基板或CF基板上涂框胶，并相应地在CF基板或TFT阵列基板上滴注液晶，然后将TFT阵列基板和CF基板贴合，再对贴合后的TFT阵列基板和CF基板进行光配向处理。本实施例通过上述方案，可避免清洁机构201在清洁处理中造成断线的TFT阵列基板进入成盒装置204，降低了液晶面板的报废率。同时，由于TFT阵列基板先经过清洁机构201清洁处理清除TFT阵列基板上的微粒后再由阵列检测机202对TFT阵列基板进行检测，避免了 TFT阵列基板上的微粒对阵列测试机202的损伤。如图3所示，本发明较佳实施例提出的一种液晶面板的制作方法，基于上述图I及图2所示的液晶面板的制作装置而实施，该方法包括步骤SI，对TFT阵列基板进行清洁处理；在本实施例中，当阵列基板完成阵列制程形成TFT阵列、数据线、扫描线、像素电极等后，由清洁机构201对该TFT阵列基板进行清洁。具体地，首先，清洁器2011对所述TFT阵列基板进行水洗，以去除所述TFT阵列基·板上的较大微粒；然后，超音波器2012产生超音波，并结合清洁剂对水洗后的TFT阵列基板进行清洁，以去除所述TFT阵列基板上的较小微粒；最后，紫外光照射机2013对去除微粒后的所述TFT阵列基板进行紫外光照射，以去除所述TFT阵列基板上的油污等有机物。上述清洁器2011具体包括一喷水装置和一毛刷，所述喷水装置用于向阵列基板喷水，毛刷用于在喷水装置向阵列基板喷水的同时，滚动清洁阵列基板。步骤S2，对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；由于TFT阵列基板上布置有TFT阵列、数据线、扫描线以及像素电极等，该阵列测试是指对TFT阵列基板的数据线、扫描线进行检测，通过检测判断TFT阵列基板是否存在断线情况。在上述清洁处理过程中，可能会造成TFT阵列基板断线或者其他缺陷，比如，采用清洁器2011或超音波器2012清洗TFT阵列基板，在除去TFT阵列基板上的大微粒或小微粒时，容易造成TFT阵列基板断线；在紫外光照射机2013对TFT阵列基板进行紫外光照射时，容易使TFT阵列基板的电子能阶升高，致使后续涂布配向膜前产生静电击伤现象，而造成液晶面板报废。因此，本实施例在对TFT阵列基板进行清洁处理后，对TFT阵列基板进行阵列测试，以检测出TFT阵列基板在清洁处理过程中造成的断线，避免液晶面板报废。步骤S3，根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理。具体地，本实施例通过阵列测试机202对经过清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试，当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线时，所述修补机203对所述TFT阵列基板进行断线修补，并将修补后的TFT阵列基板送入成盒装置204进行成盒制程；当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上不存在断线，则所述阵列基板直接被送入成盒装置204进行成盒制程。所述成盒制程包括在所述TFT阵列基板及一 CF基板上形成配向膜，然后在TFT阵列基板或CF基板上涂框胶，并相应地在CF基板或TFT阵列基板上滴注液晶，然后将TFT阵列基板和CF基板贴合，再对贴合后的TFT阵列基板和CF基板进行光配向处理。本实施例通过上述方案，可避免清洁机构201在清洁处理中造成断线的TFT阵列基板进入成盒装置204，降低了液晶面板的报废率。同时，由于TFT阵列基板先经过清洁机构201清洁处理清除TFT阵列基板上的微粒后再由阵列检测机202对TFT阵列基板进行检测，避免了 TFT阵列基板上的微粒对阵列测试机202的损伤。以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结 构或流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
权利要求
1.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤 对TFT阵列基板进行清洁处理； 对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试； 根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理。
2.根据权利要求I所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述对TFT阵列基板进行清洁处理的步骤包括 通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗； 通过超音波并结合清洁剂对水洗后的TFT阵列基板进行清洁； 对所述TFT阵列基板进行紫外光照射。
3.根据权利要求I或2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括 若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线，则修补机对所述TFT阵列基板进行断线修补； 将修补后的TFT阵列基板送入成盒制程。
4.根据权利要求3所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上不存在断线，则所述TFT阵列基板被送入成盒制程。
5.根据权利要求2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗包括由一喷水装置向阵列基板喷水及由毛刷配合所述喷水装置清洁TFT阵列基板。
6.一种液晶面板的制作装置，其特征在于，包括 清洁机构，用于对TFT阵列基板进行清洁处理； 阵列测试机，用于对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试； 修补机，用于修补TFT阵列基板上的断线。
7.根据权利要求6所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述清洁机构包括 清洁器，用于对所述阵列基板进行水洗，去除所述阵列基板上的较大微粒； 超音波器，用于结合清洁剂对水洗后的阵列基板进行清洁，去除所述阵列基板上的较小微粒； 紫外光照射机，用于对所述阵列基板进行紫外光照射，去除所述阵列基板上的有机物。
8.根据权利要求6或7所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述修补机具体用于当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线时，对所述TFT阵列基板进行断线修补。
9.根据权利要求8所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述液晶面板的制作装置进一步包括一成盒装置，该成盒装置用于在所述TFT阵列基板上形成配向膜，并将一 CF基板与其贴合并在TFT阵列基板与CF基板之间注入液晶。
10.根据权利要求7所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述清洁器包括一用于向阵列基板喷水的喷水装置和配合所述喷水装置清洁阵列基板的毛刷。
全文摘要
本发明公开一种液晶面板的制作装置及方法，该装置包括清洁机构，用于在阵列基板完成阵列制程后，对阵列基板进行清洁处理；阵列测试机，用于对清洁处理后的阵列基板进行阵列测试；修补机，用于根据阵列测试处理结果，对阵列基板进行相应处理。本发明通过对完成阵列制程后的阵列基板进行清洁处理之后，再进行阵列检测与断线修补，可避免清洁机构在清洁处理中造成断线的TFT阵列基板进入成盒装置，降低了液晶面板的报废率。同时，由于TFT阵列基板先经过清洁机构清洁处理清除TFT阵列基板上的微粒后再由阵列检测机对TFT阵列基板进行检测，避免了TFT阵列基板上的微粒对阵列测试机的损伤。
文档编号G02F1/13GK102759815SQ20121023505
公开日2012年10月31日 申请日期2012年7月9日 优先权日2012年7月9日
发明者郑文达 申请人:深圳市华星光电技术有限公司