感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件的制作方法

技术特征：

1.一种感光性聚硅氧烷组合物，包含：

聚硅氧烷高分子(A)；

邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；以及

溶剂(C)，

其中该聚硅氧烷高分子(A)为硅烷单体组分聚缩合的共聚物，且该硅烷单体组分包含具有如下式(I-1)及下式(I-2)所示的结构的硅烷单体：

Si(R^a)_Z(OR^b)_4-Z 式(I-1)

于式(I-1)中，R^a代表氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至10的烯基、碳数6至15的芳基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基，且多个R^a为相同或不同；R^b代表氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基或碳数6至15的芳基，且多个R^b为相同或不同；Z代表1至3的整数；

Si(OR^c)₄ 式(I-2)

于式(I-2)中，R^c代表氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基或碳数6至15的芳基，且多个R^c为相同或不同；

基于所述聚硅氧烷高分子(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为10重量份至50重量份。

2.根据权利要求1的感光性聚硅氧烷组合物，其中式(I-1)及式(I-2)的硅烷单体的使用量比例为1.5至35。

3.根据权利要求1的感光性聚硅氧烷组合物，其中基于所述聚硅氧烷高分子(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为10.1重量份至45重量份。

4.根据权利要求1的感光性聚硅氧烷组合物，其中基于所述聚硅氧烷高分子(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为10.2重量份至40重量份。

5.根据权利要求1的感光性聚硅氧烷组合物，其中所述聚硅氧烷高分子(A)为所述硅烷单体组分聚缩合的共聚物，且所述硅烷单体组分包含具有下式(I-1)的结构的硅烷单体：

Si(R^a)_Z(OR^b)_4-Z 式(I-1)

于式(I-1)中，至少一个R^a代表含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基及/或含有环氧基的烷氧基，且其余的R^a代表氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至10的烯基或碳数6至15的芳基，多个R^a为相同或不同；R^b代表氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基或碳数6至15的芳基，且多个R^b为相同或不同；Z代表1至3的整数。

6.根据权利要求1的感光性聚硅氧烷组合物，其中所述聚硅氧烷高分子(A)的重量平均分子量为2000至20000。

7.根据权利要求1的感光性聚硅氧烷组合物，其中基于所述聚硅氧烷高分子(A)的使用量为100重量份，所述溶剂(C)的使用量为200至1500重量份。

8.一种保护膜，其是将如权利要求1至7的任一项所述的感光性聚硅氧烷组合物涂布于一基材上，再经预烤步骤、曝光步骤、显影步骤及后烤步骤后所形成。

9.一种具有保护膜的元件，包含：

基材；以及

如权利要求8所述的保护膜。