技术总结
一种EUV光源、曝光装置和一体式旋转结构制作方法，其中EUV光源包括：液滴阵列，适于依次向下方的环形辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，使旋转扫描依次轰击到达环形辐射位置的液滴，形成辐射极紫外光；一体式旋转结构，位于液滴阵列和激光源之间，包括聚光镜和电机驱动轴，聚光镜包括内凹的第一表面以及相对的第二表面，第二表面与电机驱动轴相连接，第一表面包括偏心且倾斜的椭球形反射面以及包围椭球形反射面的非反射面，一体式旋转结构适于旋转扫描，旋转扫描时偏心且倾斜的椭球形反射面收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于环形辐射位置下方的中心焦点。EUV光源输出的极紫外光的功率增加。
技术研发人员：伍强;岳力挽
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
文档号码：201510363583
技术研发日：2015.06.26
技术公布日：2017.01.11