1.一种用于在一曝光装置中使用以供照明一表面的曝光头，该曝光头包含：一或多个辐射源，其用于提供一或多道射束；一光学扫描单元，其经配置以用于接收该一或多道射束且用于朝向该表面指引所述射束，以用于使所述射束中的每一个撞击于一撞击光点上；一旋转致动单元，其连接至该光学扫描单元以用于至少部分地旋转该光学扫描单元，其中该一或多道射束的所述撞击光点藉由该光学扫描单元的该至少部分旋转而扫描跨于该表面，其中该光学扫描单元包含一透射性组件，该透射性组件包括用于接收该一或多道射束、及用于在所述射束输送通过该透射性组件之后输出所述射束的一或多个小面，以用于在该透射性组件的该旋转时使所述射束移位从而允许所述撞击光点的该扫描。
2.如权利要求1所述的曝光头，其中该透射性组件为包括该一或多个小面的一多角棱镜。
3.如权利要求2所述的曝光头，其中该多角棱镜的所述小面在数目上为偶数，其中该多角棱镜的相对侧面上的每两个小面合作，使得在使用中，所述相对小面中的一第一小面接收所述射束中的至少一射束，且所述相对小面中的一第二小面输出经接收的该至少一射束。
4.如权利要求3所述的曝光头，其中所述相对小面为平行的，以便在一角度下输出该至少一射束，而该角度与该至少一射束在所述相对小面中的接收用第一小面上的一入射角相同。
5.如前述权利要求中任一项所述的曝光头，其中该一或多个辐射源包括一或多个雷射二极管。
6.如前述权利要求中任一项所述的曝光头，其中所述多个辐射源中的两个或两个以上在一方向上彼此邻近地配置，而该方向垂直于该透射性组件藉由该旋转致动单元的该至少部分旋转的名义旋转轴线。
7.如权利要求6所述的曝光头，其中呈邻近地配置的所述多个雷射二极管中的两个或两个以上的雷射束，经指引于该透射性组件上的一实质上相同的撞击位置处。
8.如权利要求6或7所述的曝光头，其中呈邻近地配置的该两个或两个以上的雷射二极管经置放以便允许所述雷射束扫描跨于数个彼此对准的扫描线，且其中所述邻近雷射二极管的该置放、或该透射性组件的所述小面的至少一小面的尺寸中的至少一个，使得所述邻近雷射束的所述扫描线至少部分地重叠。
9.如权利要求6或7所述的曝光头，其中呈邻近地配置的该两个或两个以上的雷射二极管经配置以便允许所述雷射二极管扫描跨于数个平行而并非彼此对准的扫描线，且其中所述雷射二极管的该配置、或该透射性组件的所述小面的至少一小面的尺寸中的至少一个，使得所述邻近雷射束的所述扫描线至少部分地重叠，以允许藉由来自所述雷射二极管的光的强度操纵而以子像素精度来曝光一影像。
10.如权利要求5至9中任一项所述的曝光头，其中所述多个雷射二极管中的另外两个或两个以上在一方向上彼此邻近地配置，而该方向平行于该透射性组件藉由该旋转致动单元的该至少部分旋转的一名义旋转轴线。
11.如权利要求5至10中任一项所述的曝光头，其中在使用中，该曝光头在一运动方向上相对于经照明的该表面而移动，经照明的该表面为一基板表面，其中所述多个雷射二极管中的两个或两个以上在该运动方向上彼此邻近地配置，以便允许在该运动方向上于一同一路径中同时照明该表面。
12.如权利要求5至11中任一项所述的曝光头，其中在使用中，该曝光头在一运动方向上相对于经照明的该表面而移动，经照明的该表面为一基板表面，其中所述多个雷射二极管中的两个或两个以上与该运动方向成一角度而彼此邻近地配置，以便在该运动方向上于数个重叠或平行的路径中同时地照明该基板表面。
13.如前述权利要求中任一项所述的曝光头，其中该透射性组件，在所述小面之间的一或多个边缘处，包含一反射性涂层。
14.一种曝光装置，其包含如前述权利要求中任一项所述的至少一曝光头，该曝光装置进一步包含一运动驱动器，该运动驱动器用于使该至少一曝光头及该基板表面相对于彼此移动，以便描述用于曝露该基板表面的跨于该基板表面上的一曝光轨迹，该曝光装置进一步包含一影像控制器，该影像控制器经配置以依照曝光影像数据将一电信号提供至该至少一曝光头，从而允许该至少一曝光头的所述雷射二极管的控制。
15.如权利要求14的曝光装置，其中该曝光头为如权利要求11或12所述的一曝光头，且其中该运动驱动器经配置以用于调适该曝光头的运动速度，使得该两个或两个以上邻近雷射二极管在时间上的后续照明图案至少部分地重叠。
16.如权利要求14或15的曝光装置，其中该至少一曝光头中的一个或多个包含在一方向上呈彼此邻近地配置的至少两个雷射二极管，而该方向垂直于该透射性组件藉由该曝光头的该旋转致动单元的该至少部分旋转的一名义旋转轴线，其中所述至少两个邻近地配置的雷射二极管经置放以便允许所述雷射束扫描跨于数个彼此对准的扫描线，且其中所述邻近雷射二极管的该置放、或该曝光头的该透射性组件的所述小面的至少一小面的尺寸中的至少一个，使得所述邻近雷射束的所述扫描线至少部分地重叠，
其中该装置的该影像控制器、或该曝光头的一曝光控制单元中的至少一个经配置以依照曝光影像数据来定时操作所述雷射二极管。
17.如权利要求14至16中任一项所述的曝光装置，该曝光装置为一群组中的至少一个，该群组包含：
一印刷电路板-PCB-制造系统，其中如权利要求1至13中任一项所述的一或多个曝光头用于选择性地照射数个辐射敏感层；
一立体微影系统，其中如权利要求1至13中任一项所述的一或多个曝光头用于选择性地照射辐射敏感液体材料的数个顺序层以形成一有形物件；以及
一粉末床熔合系统，其中如权利要求1至13中任一项所述的一或多个曝光头用于选择性地照射、且藉此熔融及/或烧结固体粉末材料的数个顺序层以形成一有形物件。
18.如权利要求14至17中任一项所述的曝光装置，其中该装置经配置以用于藉由所述辐射源中的两个或两个以上的集合顺序地照明该基板表面的每一表面区域两次或两次以上。
19.如权利要求14至18中任一项所述的曝光装置，其中所述辐射源包含不同波长的辐射源。