抗蚀材料、抗蚀组合物和抗蚀图案形成方法与流程

技术总结
本发明的抗蚀材料含有下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R0各自独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基或卤原子，p各自独立地为0～4的整数。)

技术研发人员：樋田匠;佐藤隆;越后雅敏
受保护的技术使用者：三菱瓦斯化学株式会社
文档号码：201580024204
技术研发日：2015.05.08
技术公布日：2017.02.22