光栅划刻机及其工作台的锁紧装置的制作方法

本发明涉及衍射光栅技术领域，具体的说，是涉及一种光栅刻划机及其工作台的锁紧装置。

背景技术：

光栅刻划机是制作刻划光栅的母机，间歇式刻划是光栅刻划机重要的工作方式之一，其原理是刻划系统刻划时分度系统静止，刻划系统回程时分度电机分度。在刻划系统刻划时，工作台机构的振动状态是影响刻划光栅性能的重要因素之一。

现有技术中，光栅刻划机所刻划的光栅宽度窄，工作台机构简单，质量轻，内在振动影响小，主要是考虑外在干扰源，并通过气浮隔振平台进行隔离。对于带有宏-微定位的能够承载大尺寸衍射光栅基地的工作台机构除了隔离外在振动的影响外，内在的振动源引起的振动也不容忽视。目前的工作台机构包括固定设置的下导轨和具有上导轨的工作台主体，上导轨与下导轨配合，实现工作台主体的滑行。实验结果表明，上导轨在下导轨上的振动源会影响光栅的波前质量、鬼线强度等指标，不利于高精度、高性能的刻划光栅研制。

因此，如何提供一种光栅刻划机工作台的锁紧装置，以减缓振动，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明提供了一种光栅刻划机工作台的锁紧装置，以减缓振动。本发明还提供了具有上述光栅刻划机工作台的锁紧装置的光栅刻划机。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种光栅划刻机工作台的锁紧装置，用于锁紧配合的导轨副，所述导轨副包括下导轨和上导轨，锁紧装置包括：

支座；

安装在所述支座上的电磁铁，所述电磁铁得电后具有磁性，并且所述电磁铁与所述上导轨相对的部分和与所述下导轨相对的部分的磁性相反，用于吸合所述上导轨和所述下导轨。

优选地，上述的锁紧装置中，所述支座固定在所述上导轨上。

优选地，上述的锁紧装置中，所述电磁铁一端固定有第一连接座，所述支座上固定有第二连接座，所述第二连接座上安装有压板，所述第一连接座与第二连接座通过弹簧片连接。

优选地，上述的锁紧装置中，所述电磁铁具有两个磁性相反的凸起部，两个所述凸起部分别与所述上导轨和所述下导轨平行相对。

优选地，上述的锁紧装置中，还包括用于调节所述电磁铁到所述导轨副之间距离的调节组件。

优选地，上述的锁紧装置中，所述调节组件包括：

固定在所述支座上的调整座；

固定在所述电磁铁上的垫块；

用于调整所述调整座与所述垫块之间距离的调整螺钉，所述调整螺钉一端与所述调整座螺纹连接，所述调整螺钉的另一端与所述垫块相抵。

优选地，上述的锁紧装置中，还包括用于克服所述电磁铁断电时剩磁磁力的切断装置，所述切断装置包括：

安装在所述电磁铁上的拉簧柱；

通过垫圈和螺母安装在所述调整座上的螺柱；

一端与所述拉簧柱连接，另一端与所述螺柱连接的拉簧。

优选地，上述的锁紧装置中，所述调节组件为三个，并且分布在所述电磁铁的上端和两侧。

优选地，上述的锁紧装置中，所述切断装置为两个，并且与所述电磁铁两侧的所述调节组件一一对应。

一种光栅刻划机，包括工作台和工作台的锁紧装置，其中，所述锁紧装置为上述任一项所述的锁紧装置。

经由上述的技术方案可知，本发明公开了一种光栅刻划机工作台的锁紧装置，用于锁紧配合的下导轨和上导轨，包括支座和电磁铁，其中，电磁铁 安装在支座上，并且得电后具有磁性，该电磁铁与上导轨相对的部分和与下导轨相对的部分的磁性相反，以吸合上导轨和下导轨。电磁铁得电后与上导轨相对的部分吸合上导轨，与下导轨相对的部分吸合下导轨，并且电磁铁的这两部分的磁性相反，根据磁铁异性相吸的原理，使上导轨和下导轨稳定的配合在一起。通过增加对上导轨和下导轨的锁紧装置，可防止上导轨在下导轨上的振动，提高了刻划光栅精度和性能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的光栅刻划机工作台的锁紧装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的光栅刻划机工作台的锁紧装置的后视图；

图3为本发明实施例提供的光栅刻划机的局部结构示意图。

具体实施方式

本发明的核心是提供一种光栅刻划机工作台的锁紧装置，以减缓振动。本发明的另一核心是提供具有上述光栅刻划机工作台的锁紧装置的光栅刻划机。

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1-图3所示，本发明公开了一种光栅刻划机工作台的锁紧装置，用于锁紧配合的下导轨和上导轨，包括支座1和电磁铁3，其中，电磁铁3安装在支座1上，并且得电后具有磁性，该电磁铁3与上导轨相对的部分和与下导轨相对的部分的磁性相反，以吸合上导轨和下导轨。电磁铁3得电后与上 导轨相对的部分吸合上导轨，与下导轨相对的部分吸合下导轨，并且电磁铁3的这两部分的磁性相反，根据磁铁异性相吸的原理，使上导轨和下导轨稳定的配合在一起。通过增加对上导轨和下导轨的锁紧装置，可防止上导轨在下导轨上的振动，提高了刻划光栅精度和性能。

具体的实施例中，将支座1固定在上导轨上，但是电磁铁3的两个部分分别对应上导轨和下导轨，即支座1只是作为电磁铁3的安装基础，在此核心下，支座1也可固定在下导轨上或者与上导轨和下导轨均不连接，本领域技术人员可根据不同的需要进行设定，对应支座1的连接方式也不做具体限定。

对于支座1的结构可为U型框，并在开口处通过封板2连接形成口字形支座1，支座1固定在上导轨上，电磁铁3安装在支座形成的空间内。

优选的实施例中，上述的电磁铁3一端固定有第一连接座61，支座1上固定有第二连接座62，第二连接座62上安装有压板7，第一连接座61与第二连接座62通过弹簧片8连接。上述连接方式实现了对电磁铁3的悬挂安装，并且由于弹簧片8的连接使得电磁铁3的位置是不固定的，可发生移动。此处只是提供了一种电磁铁3的悬挂安装的具体方式，在实际中也可采用电磁铁3位置可调的连接方式。由于本申请的核心在于通过电磁铁3的吸合力实现上导轨和下导轨的稳定配合，因此本申请也不排除能够实现上述核心的电磁铁3固定安装在支座1上的方式。

进一步的实施例中，该电磁铁3的结构为在一个电磁铁3上具有两个凸起部的结构，具体的，该电磁铁3的形状可类似于旋转90°后的“凹”字型。这两个凸起部分别与上导轨和下导轨平行相对，并且这两个凸起部的磁性是相反的，以保证将上导轨和下导轨均依靠电磁铁3吸附在一起，实现稳定配合。

更进一步的实施例中，该锁紧装置还包括调节组件，该调节组件用于调节电磁铁3到导轨副之间的距离，即实现调节电磁铁3与上导轨和下导轨之间的距离，以改变磁力的大小。

上述的调节组件包括：调整座4、垫块9和调整螺钉5。其中，调整座4固定在支座1上，而垫块9固定在电磁铁3上，调整螺钉5用于调节调整座4与垫块9之间的距离，即电磁铁3相对于支座1之间的距离，从而实现电磁铁3与导轨副之间的距离的变化。具体的，调整螺钉5一端与调整座4螺纹连接，另一端与垫块9相抵，由于电磁铁3通过弹簧片8悬挂在支座1上，因此，通过调整螺钉5与垫块9的相抵，可实现电磁铁3位置的改变。采用调整螺钉5的方式结构简单，易于操作。

更进一步的实施例中，该锁紧装置还包括用于克服电磁铁3断电时剩磁磁力的切断装置，该切断装置包括：拉簧柱11、螺柱13和拉簧12。其中，拉簧柱11安装在电磁铁3上，螺柱13通过垫圈15和螺母14安装在调整座4上，上述的拉簧12一端与拉簧柱11连接，另一端与螺柱13连接，上述的拉簧12的拉力大于电磁铁3的剩磁磁力。拉簧12套设在螺柱13上，并通过螺母14锁紧限位，通过旋转螺母14在螺柱13上的位置可调节拉簧12的长度，达到调节拉簧12拉力的目的。当电磁铁3得电后，电磁铁3的拉力大于拉簧12的拉力，因此，可避免电磁铁3被拉簧12拉动，而当电磁铁3断电后，拉簧12的拉力大于电磁铁3的剩磁磁力。当电磁铁3断电后，在拉簧12的作用下将电磁铁3拉回至自由状态，即自由悬挂在支座1上，垫块9与调整螺钉5分离。

为了保证电磁铁运动的稳定性，将调节组件限定为三个，并且分布在电磁铁3的上端和两侧，即通过三个调节组件和弹簧片8的限定而达到对电磁铁3位置的限定，上端的调节组件的作用在于不仅在于限定电磁铁3与导轨副之间的距离，防止电磁铁3发生倾斜，还限定了电磁铁3与压板7之间的位置。而两侧的调节组件作用仅在于限定电磁铁3与导轨副之间的距离，但是这三个调节组件的结构相同。虽然此实施例提供了调节组件的个数是三个，但是，本申请并不仅限定了三个调节组件的方式。

上述的切断装置为两个，并且这两个切断装置与电磁铁3两侧的调节组件一一对应设置。优选地，这两个调节组件关于电磁铁3的竖直方向的中心 对称，并且均位于电磁铁3的水平方向的中心线，以保证电磁铁3运动的左右平衡。

此外，本申请还公开了一种光栅刻划机，其包括工作台10和工作台10的锁紧装置16，其中，该锁紧装置16为如上述实施例中公开的锁紧装置16，因此，具有该锁紧装置16的光栅刻划机也具有上述所有技术效果，在此不再一一赘述。

具体的，上述的锁紧装置16为四个，并且均匀分布在工作台10的两侧。在实际中也可选择其他个数的锁紧装置，且均在保护范围内。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。