一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置的制作方法

本发明涉及显微镜载玻片技术领域，尤其涉及一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置。

背景技术：

载玻片是用显微镜观察东西时用来放东西的玻璃片或石英片，制作样本时，将细胞或组织切片放在载玻片上，将盖玻片放置其上，然后进行观察。

我们都知道普通显微镜上设有手动的载玻片定位卡紧装置，当将载玻片放在显微镜上时，首先用手将载玻片卡紧活板在弹簧的作用下恢复原位，将载玻片卡紧定位，而此过程需要两只手同时工作才能将载玻片放置在合适的位置上。此过程操作复杂、麻烦，给使用者带来不便。

技术实现要素：

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置，包括载玻片平台，所述载玻片平台的上表面一端设有导向板，所述导向板的两端分别设有限位板和固定板，所述限位板和固定板均与导向板垂直且位于载玻片平台上，限位板的截面呈直角梯形，固定板的底部设有第一凹槽，所述第一凹槽的内部两侧均设有第一凸台，所述第一凸台远离限位板的侧边设有斜坡，固定板的上表面两端均设有通孔，所述通孔内安装有导柱，所述导柱的底端固定在载玻片平台上，导柱的圆周侧边上套有第一弹簧，且第一弹簧位于固定板的上方，导柱的顶端安装有调节旋钮，载玻片平台的上表面远离导向板的一端设有第二凸台，所述第二凸台靠近导向板的侧边设有第二弹簧，所述第二弹簧远离第二凸台的侧边设有固定块，所述固定块的横截面呈直角梯形，所述固定块的底部设有滑块，固定块的下方位于载玻片平台的上表面设有滑槽，所述滑块位于滑槽的内部。

优选的，所述导向板的横截面呈矩形。

优选的，所述第一凹槽靠近导向板的内部侧边与导向板靠近第二凸台的侧边共面。

优选的，所述第一凸台与固定块的材质为橡胶。

优选的，所述导柱的顶部圆周侧边设有螺纹，调节旋钮与螺纹配合连接。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明设计巧妙、结构新颖，通过设置呈直角梯形截面的限位板，可以很好的固定载玻片的一端，防止翘起；通过设置固定板以及第一凸台、导柱、第一弹簧和调节旋钮可以很好固定载玻片，有效防止载玻片垂直方向发生位移，由于第一凸台上设有斜坡，因此载玻片安装非常方便，调节旋钮可以调节施加在载玻片上的垂直方向的反作用力；通过设置第二凸台、第二弹簧和固定块，可以很好的从侧向固定载玻片，防止载玻片在侧向产生位移。因此，载玻片可以很好的被固定卡紧，同时定位准确。

附图说明

图1为本发明提出的一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置的结构示意图；

图2为本发明提出的一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置的结构主视图。

图中：1载玻片平台、2固定板、3第一凸台、4第一弹簧、5调节旋钮、6导向板、7限位板、8第二凸台、9第二弹簧、10固定块、11导柱。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-2，一种显微镜载玻片自动定位卡紧装置，包括载玻片平台1，载玻片平台1的上表面一端设有导向板6，导向板6的两端分别设有限位板7和固定板2，限位板7和固定板2均与导向板6垂直且位于载玻片平台1上，限位板7的截面呈直角梯形，固定板2的底部设有第一凹槽，第一凹槽的内部两侧均设有第一凸台3，第一凸台3远离限位板7的侧边设有斜坡，固定板2的上表面两端均设有通孔，通孔内安装有导柱11，导柱11的底端固定在载玻片平台1上，导柱11的圆周侧边上套有第一弹簧4，且第一弹簧4位于固定板2的上方，导柱11的顶端安装有调节旋钮5，载玻片平台1的上表面远离导向板6的一端设有第二凸台8，第二凸台8靠近导向板6的侧边设有第二弹簧9，第二弹簧9远离第二凸台8的侧边设有固定块10，固定块10的横截面呈直角梯形，固定块10的底部设有滑块，固定块10的下方位于载玻片平台1的上表面设有滑槽，滑块位于滑槽的内部，导向板6的横截面呈矩形，第一凹槽靠近导向板6的内部侧边与导向板6靠近第二凸台8的侧边共面，第一凸台3与固定块10的材质为橡胶，导柱11的顶部圆周侧边设有螺纹，调节旋钮5与螺纹配合连接。

应用方法：在使用本发明时，将载玻片从第一凹槽内插入，载玻片在第一凸台3的下方且沿着导向板6的侧边向限位板7移动，在此过程中，固定板2上移，第一弹簧4因此收缩，从而会有一个向下的反作用力可以将载玻片固定在载玻片平台1上，同时，固定块10向靠近第二凸台8的方向移动，第二弹簧9因此收缩，从而会有一个指向载玻片的反作用力将载玻片固定在导向板6上，同时，当载玻片移动到与限位板7接触时，限位板7的斜边可以阻止该端载玻片发生翘起。本发明定位准确，连接可靠。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。