相机模块集成式液晶显示装置及其制造方法与流程

本公开涉及一种液晶显示器(lcd)，并且更具体地说，涉及一种包括用于相机模块的透镜孔的液晶显示装置及其制造方法。

背景技术：

lcd装置是透射型显示装置并且包括液晶面板和背光单元。该液晶面板包括：用于控制液晶层的阵列基板，设置在阵列基板的表面上的偏光板，面对该阵列基板的滤色器基板，设置在该滤色器基板的表面上的偏光板，以及设置在阵列基板与滤色器基板之间的液晶层。该液晶面板控制液晶层，由此调节液晶面板的每一个子像素的透射率。

背光单元包括光学片、导光板、光源单元、反射板以及导板。该光学片设置在液晶面板与导光板之间。例如，该光学片可以包括棱镜膜和/或扩散膜。该光源设置在导光板的侧表面上，以使光经由该导光板扩散。该反射板设置在导光板的底表面上，以对朝着该反射板泄露的光进行反射。该导板支承光学片、导光板、光源以及反射板等，以允许将液晶面板稳定地安装在其上。

技术实现要素：

本申请的发明人研究并开发了其中可以插入相机模块(或其一部分)、用户可按压按钮等的lcd装置。

本申请的发明人已经设计出了具有最小厚度的lcd设备，并且在该lcd设备的阵列基板中具有透镜孔，相机模块的透镜单元或一些其它功能元件可以插入到该透镜孔中。具体地说，用钻头或类似设备在阵列基板中形成透镜孔。

然而，本发明人认识到在形成这种孔的工序期间会导致许多问题。例如，孔本身或基板的一部分在钻孔工序期间可能会被损坏。

此外，在形成阵列基板的表面上的某些元件之后，可能需要在分别具有不同折射率的几个透明材料层的位置处形成期望的孔。因此，在要形成孔的位置处测量精确深度或厚度时可能存在误差，使得当基于不精确的厚度测量结果用钻孔器或类似设备形成透镜孔时可能损坏基板。基板的厚度(其可以具有或可以不具有某些层)需要非常精确的钻孔。这样做需要基于精确的基板厚度测量，以防止不精确的钻孔(即，过钻孔或欠钻孔)并且使孔的内表面处的粗糙度或毛刺最小化。

因此，本发明针对一种相机模块集成式液晶显示装置及其制造方法，其基本上消除了由于如上所述的限制和缺点导致的一个或更多个问题。

本公开的目的是提供一种lcd装置及其制造方法，该lcd装置具有最小厚度以容纳插入到其中的相机模块，同时抑制在制造过程期间可能发生的对基板的损坏。

将在下面的描述中阐述本发明的额外的特征和优点，并且其一部分根据描述将会变得更加清楚，或者可以通过本发明的实践来了解。将通过在所撰写的说明书及其权利要求和附图中特别指出的结构来实现和获得本发明的目的和其它优点。

为了实现这些和其它优点并且根据如具体实施和广泛描述的本发明的构思，一种液晶显示lcd装置，该lcd装置包括：阵列基板，在该阵列基板上设置有子像素；滤色器基板，在该滤色器基板上设置有与各个所述子像素相对应的滤色器；以及液晶层，该液晶层位于所述阵列基板与所述滤色器基板之间。所述阵列基板包括透镜孔，所述滤色器基板包括透镜孔引导件，并且所述透镜孔的直径小于所述透镜孔引导件的直径。

另一方面，一种制造液晶显示(lcd)装置的方法，该方法包括以下步骤：通过使用阵列基板上的测量图案，利用共焦传感器来测量所述阵列基板的厚度；基于利用所述共焦传感器测量出的所述阵列基板的厚度，在要形成透镜孔的位置中形成具有比所述阵列基板的厚度薄的深度的凹槽；通过利用胶带设备涂敷粘合剂将玻璃芯附接至形成有所述凹槽的区域，并且然后利用所述胶带设备将所述玻璃芯与所述阵列基板分离，以由此形成所述透镜孔；以及过所述透镜孔将相机模块插入到所述阵列基板中。

将参照附图在详细描述中对本公开的示例性实施方式中的细节进行详细描述。

根据本公开的示例性实施方式，借助在所述阵列基板中形成透镜孔以将所述相机模块插入到所述透镜孔中，即使将相机模块插入到lcd装置中，也可以减少lcd装置的厚度。

另外，根据本公开的示例性实施方式，将透镜部分插入到所述透镜孔和所述透镜孔引导件中，使得所述相机模块可以通过滤色器基板拍摄图像。

此外，根据本公开的示例性实施方式，在所述透镜孔周围形成透镜孔引导件，使得在于所述阵列基板中形成透镜孔的工序期间，可以通过所述透镜孔引导件来抑制对所述阵列基板的损坏。

而且，根据本公开的示例性实施方式，可以通过测量图案来减少在形成所述透镜孔的工序期间的缺陷。

应当理解的是，本发明的前述一般描述和下述详细描述都是示例性和解释性的，并且旨在对所要求保护的本发明提供进一步的解释。

附图说明

附图被包括以提供对本发明的进一步理解，并且被合并到本申请中且构成本申请的一部分，所述附图示出了本发明的实施方式并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：

图1是根据本公开的示例性实施方式的lcd装置的示意性平面图；

图2是根据本公开的示例性实施方式的lcd装置和相机模块的示意性立体图；

图3是沿图1的线a-a'截取的截面图；

图4是图3的放大截面图；以及

图5a、图5b和5c是示出根据本公开的另一示例性实施方式的、用于形成lcd装置的透镜孔的方法的截面图。

具体实施方式

现在将详细参照本发明的一些实施方式，在附图中示出了这些实施方式的示例。

附图中给出的元件的数字、尺度、比率、角度、数量仅仅是例示性的而非限制性的。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。此外，在描述本公开时，可以省略对公知技术的描述，以免不必要地模糊本公开的要点。应当注意，除非另有明确说明，否则在说明书和权利要求书中使用的术语“包括”，“具有”，“包含”等，不应当被解释为限于其后列出的装置。对在提及单数名词时使用不定冠词或定冠词例如，“一”、“一个”、“所述”)的情况，除非另有明确说明，否则包括该名词的复数形式

在描述元件时，即使没有明确声明，也将它们解释为包括误差容限。

在描述位置关系时，如“元件a在元件b上”、“元件a在元件b上方”、“元件a在元件b下”以及“元件a紧邻元件b”，可以将另一元件c设置在元件a与元件b之间，除非明确使用了术语“直接”或“紧接着”。

如在此使用的，短语“元件a在元件b上”指元件a可以直接设置在元件b上，和/或元件a可以经由另一元件c间接设置在元件b上。

本说明书和权利要求书中的术语第一、第二等用于在相似元件之间进行区分，而不一定用于描述顺序或按时间顺序。这些术语仅被用于区分一个元件与另一元件。因此，如在此使用的，在本公开的技术构思内，第一元件可以称作第二元件。

在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。附图不是按比例绘制的，并且附图中各种元件的相对尺寸是示意性地描述的而不一定按比例绘制。

本公开的各种示例性实施方式的特征可以部分地或者总体上组合。如本领域技术人员清楚地意识到的，技术上的各种交互作用和操作都是可以的。各个示例性实施方式可以单独地或者组合地加以实践。

图1是根据本公开的示例性实施方式的lcd装置的示意性平面图。

参照图1，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100可以包括：设置有多个像素的像素区域aa，和围绕该像素区域aa的外围区域pa。在外围区域pa中，设置有焊盘单元pad，以使将各种驱动器单元附接在其上。例如，可以将选通驱动器或数据驱动器附接至焊盘单元pad。另外，在外围区域pa中插入相机模块140。

图2是根据本公开的示例性实施方式的lcd装置和相机模块的示意性立体图。

参照图2，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100包括：阵列基板110、形成在阵列基板110中的透镜孔150、设置在透镜孔150周围的测量图案175、与透镜孔150对应的透镜孔引导件155、设置在透镜孔引导件155上方的外覆层135、设置在外覆层135上并且包括与透镜孔150对应的小孔(aperture)160的黑底130、设置在所述黑底130上的滤色器基板120，以及设置在所述滤色器基板120上并且具有透明部分165的第二偏光板125。

相机模块140包括透镜部分140a和传感器部分140b。透镜140a(或其一部分)被插入到透镜孔150中。

透镜部分140a包括透镜和用于支承透镜的引导部。该透镜部分140a可以具有圆柱形形状。然而，这仅仅是例示性的。

传感器部分140b包括用于将已经通过透镜部分140a的图像转换成电信号的图像传感器以及设置该图像传感器的电路板。然而，这仅仅是例示性的。

相机模块140(或其一部分)被插入到阵列基板110上的透镜孔150中。该lcd装置100具有的优点在于，通过将相机模块140插入到透镜孔150中，可以减少相机模块140所占据的总厚度或空间。

透镜部分140a被插入到透镜孔150和透镜孔引导件155中。因此，存在的优点在于相机模块140可以经由小孔160拍摄图像。

图3是沿图1的线a-a'截取的截面图。

图4是图3的放大截面图。

参照图3至图4，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100包括：包含透镜孔150的阵列基板110和包含小孔160的滤色器基板120。相机模块140被插入到lcd装置100的透镜孔150中。第一偏光板105可以设置在阵列基板110的底表面上，并且可以对从光源单元供应的光进行偏振。

液晶层115设置在阵列基板110与滤色器基板120之间。液晶层115中的液晶分子通过从子像素的像素电极和公共电极施加的信号而倾斜。随着液晶分子的倾斜，调节lcd装置100的每一个子像素的透射率。

密封剂117围绕设置在阵列基板110与滤色器基板120之间的液晶层115的外围。因此，液晶层115被密封剂117密封。

第二偏光板125可以设置在滤色器基板120的顶表面上，并且可以根据通过液晶层115偏振的光的偏振轴的倾斜角度来吸收偏振光。

lcd装置100可以包括像素区域aa和外围区域pa。

用于驱动液晶层115的子像素被设置在像素区域aa中的阵列基板110上。该子像素可以包括：像素电极；对应于像素电极的公共电极；被构造为向像素电极施加图像信号的数据线；被构造为向像素电极施加导通信号的选通线；被构造为通过接收从选通线和数据线施加的信号来向像素电极施加图像信号的开关元件；用于使元件彼此绝缘的绝缘膜；以及设置在液晶层115上以对液晶层115中的液晶分子进行配向的配向层。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于像素区域aa的元件。滤色器122和黑底130设置在像素区域aa中的滤色器基板120上。滤色器122可以包括红色滤色器、绿色滤色器以及蓝色滤色器。黑底将滤色器122彼此分离。外覆层135覆盖滤色器122和黑底130，以减少或平坦化因滤色器122和黑底130而产生的阶差。配向层可以设置在外覆层135与液晶层115之间，以对液晶分子进行配向。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于像素区域aa的元件。

在本公开的一些实施方式中，可以将公共电极形成在滤色器基板上。例如，对于垂直配向(va)或扭曲向列(tn)lcd装置来说，可以将公共电极形成在滤色器基板上。

在本公开的一些实施方式中，滤色器可以包括在子像素中。例如，对于薄膜晶体管(cot)lcd装置上的滤色器来说，该滤色器可以形成在阵列基板上。

可以将多种驱动器设置在外围区域pa中的阵列基板上。所述驱动器可以包括被构造为向选通线施加信号的选通驱动器和被构造为向数据线施加信号的数据驱动器。驱动器可以通过导电粘合剂附接至形成在外围区域pa中的焊盘单元pad，或者可以在形成其的工序期间与开关元件一起形成在阵列基板上。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于驱动器和焊盘单元。

可以将透镜孔150(或用于容纳一些元件的类似小孔或开口)形成在外围区域pa中的阵列基板110上。可用形成一个以上的透镜孔150。相机模块140可以插入到透镜孔150中。

透镜孔150可以通过利用钻头或类似设备穿透阵列基板110而形成。钻头可以由金刚石制成的尖端。钻头的尖端可以具有环形形状，并且可以在钻头以高速旋转时在阵列基板110中形成环或孔。透镜孔150的直径l1可以根据钻头的直径来确定。例如，透镜孔150的直径l1可以在4mm至6mm的范围内变动。然而，这仅仅是示例性的。

相机模块140可以插入到透镜孔150中。相机模块140包括透镜部分140a和传感器部分140b。

透镜部分140a可以包括透镜和用于支承透镜的型模。透镜部分140a可以具有视角。该透镜部分140a可以具有圆柱形形状。要注意的是，透镜部分140a的形状不限于圆柱形形状，而是可以根据型模形状具有不同的形状。

透镜孔150可以具有对应于透镜部分140a的形状。即，透镜孔150与透镜部分140a相一致，使得可以将透镜部分140a或其一部分插入到透镜孔150中。例如，如果透镜部分140a具有圆形形状，则透镜孔150也可以具有圆形形状。透镜孔150的直径l1可以等于或大于相机模块140的透镜部分140a的外侧表面的直径l2。利用上述构造，透镜部分140a可以插入到透镜孔150中。因此，包括相机模块140的lcd装置100的厚度可以减少。

传感器部分140b可以包括电路板和图像传感器。该传感器部分140b将通过透镜部分140a拍摄的图像转换成电信号。从传感器部分140b输出的图像信号可以经由线路传送至另一系统。

测量图案175(或被配置为改善测量的类似元件)设置在阵列基板110中的透镜孔150处、附近或周围。测量图案175可以具有对应于透镜孔150的形状。为了在阵列基板110中形成透镜孔150，需要在要形成孔的位置处测量阵列基板110的厚度。具体地说，由于在阵列基板110的整个厚度中可能存在微小的偏差，因此可能需要测量要形成孔的精确厚度。

阵列基板110的厚度可以利用共焦传感器或一些其它测量设备来测量。另外，还需要减少在利用共焦传感器来测量半导体基板110的厚度时的测量误差。

测量图案175可以由阵列基板110上的选通线或数据线的金属材料中的至少一种制成。例如，测量图案175可以由铜、铝、钼以及钛中的至少一种制成。利用上述构造，不需要附加工序来形成测量图案175，并且由此，测量图案175可以通过改变掩模来形成。因此，可以不需要额外的掩模来形成测量图案175。

测量图案175设置在阵列基板110的顶表面上。因此，通过测量从阵列基板110的底表面至测量图案175的距离，可以测量出阵列基板110的厚度以及为了形成透镜孔150必须钻出的阵列基板110的深度。

测量图案175可以具有对应于透镜孔150的形状。例如，如果透镜孔150具有圆形形状，则测量图案175可以具有圆形形状，如环形形状或圆圈形状。测量图案175具有特定宽度和/或特定直径。例如，环状测量图案175的宽度范围可以从200μm至700μm变动。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于测量图案175的宽度和/或直径。

利用上述构造，阵列基板110的厚度可以通过利用这种共焦传感器测量在孔形成位置具有测量图案175的阵列基板110的厚度而更准确地加以测量。

例如，阵列基板110的厚度范围可以在150μm至400μm的范围内变动。更具体地说，如果阵列基板110的厚度例如为250μm，则共焦传感器测量从阵列基板110的底表面至设置在该阵列基板110的顶表面上的测量图案175的距离。因此，与没有测量图案175时执行的厚度测量相比，可以更准确地测量出阵列基板110的厚度。

测量图案175由金属材料制成，并由此不透明。因此，共焦传感器的测量误差可以通过测量图案175来减少。测量图案175的形状不限于上述形状，而是可以具有多种形状，只要能够更加精确地执行利用共焦传感器进行的测量即可。

没有测量图案175，在lcd装置的透镜孔位置处和周围仅存在透明材料。因此，仅利用共焦传感器难以精确地测量阵列基板的厚度。由于这种不精确的测量，用钻头在阵列基板110中形成的孔可能太浅。结果，可能未按期望形成透镜孔。

另一方面，利用钻头形成在阵列基板110中的孔可能太深。具体地说，该孔可能到达形成在滤色器基板120上的黑底130。结果，当形成透镜孔150时可能生成玻璃碎片或碎屑，并且可能发生由于这样的异物而导致的缺陷。此外，光可能从受损的黑矩阵130泄漏。

测量图案175的内径l3可以大于透镜孔150的直径l1。利用上述构造，即使透镜孔150通过钻头形成，测量图案175也不会与钻头相接触，因为测量图案175的内径l3大于钻头的直径。因此，测量图案175不被钻头损坏。

在本公开的一些实施方式中，测量图案175的外径可以等于或小于透镜孔150的直径l1。利用上述构造，因为测量图案175的外径l3小于钻头的直径，所以可以在利用钻头形成透镜孔150的工序期间有效地去除测量图案175。具体地说，利用共焦传感器相对于测量图案175更精确地测量出阵列基板110的厚度，然后基于精确测量出的厚度利用钻头在阵列基板100中形成透镜孔150。也就是说，一旦测量出阵列基板110的厚度，就可以去除测量图案了。因此，可以在形成透镜孔150的工序期间去除测量图案。另选地，可以仅去除测量图案的一部分，而其余部分可以保留在透镜孔150周围。

与透镜孔150对应的透镜孔引导件155被形成在外围区域pa内的滤色器基板120中。透镜孔引导件155与透镜孔150对应。透镜孔引导件155可以在透镜孔150周围支承阵列基板110。例如，如果相机模块140的透镜部分140a为圆柱形形状，则透镜孔150可以是圆形形状，并且透镜孔引导件155的内侧也可以是圆形形状。透镜孔150的中心可以与透镜孔引导件155的中心相邻或对应(对齐)。透镜孔引导件155由有机材料或无机材料制成。

具体地说，在利用钻头形成透镜孔150的工序期间，阵列基板110被该钻头研磨。阵列基板110可以由玻璃制成。在阵列基板110与滤色器基板120之间可以存在空间。随着阵列基板120从钻孔工序接收压力，非期望的物理冲击可能被施加在阵列基板120上。结果，阵列基板120可能不期望地弯曲并且可能出现裂纹或其它变形。此外，当阵列基板110被钻头研磨时，小玻璃片或碎屑可能散落在透镜孔150周围。

透镜孔引导件155围绕透镜孔150，以在物理冲击施加在阵列基板120上时最小化或抑制阵列基板120弯曲，由此减少阵列基板120中的裂纹。也就是说，透镜孔引导件155可以有效地吸收在形成透镜孔150的工序期间施加在阵列基板110上的冲击，压力或力中的至少一些。

另外，由于透镜孔引导件155围绕透镜孔150，因此它可以阻挡玻璃碎片散落。因此，将玻璃碎片或碎屑限制在透镜孔150内，使得可以通过利用用于去除玻璃碎片或碎屑的如抽吸装置的工具更方便去除透镜孔150中的这些碎屑或碎片。

参照图4，透镜孔引导件155的内径l4可以大于透镜孔150的直径l1。利用上述构造，在利用钻头形成透镜孔150的工序期间可以有效地防止透镜孔引导件155与钻头接触。因此，可以最小化对透镜孔引导件155的损坏。

尽管透镜孔引导件155的内侧与透镜孔150一致，但透镜孔引导件155的外侧可能不与透镜孔一致，而是可以具有不同形状。例如，透镜孔引导件155的外围可以是圆形形状、矩形形状、多边形形状、流线型形状等。

虽然透镜孔引导件155的内侧与透镜孔150一致，但是透镜孔引导件155的外侧可以与其一致或可以不与其一致，并且因此可以具有不同的形状。例如，透镜孔引导件155的外围可以是圆形、矩形、多边形、流线形等。

透镜孔引导件155和测量图案175可以彼此交叠。利用上述构造，测量图案175可以覆盖透镜孔引导件155。因此，在利用共焦传感器测量(具有测量图案175)的阵列基板110的厚度的工序期间，可以通过透镜孔引导件155来减少测量误差。

具体地说，透镜孔引导件155可以具有与阵列基板110不同的折射率的折射率，并且可以在光学上是透明的。这可能导致测量误差。要注意的是，在根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100中，透镜孔引导件155和测量图案175可以不交叠，而是可以彼此隔开。

黑底130覆盖外围区域pa中的滤色器基板120的至少一部分。黑底130设置在滤色器基板120与透镜孔引导件155之间。例如，黑底130可以至少覆盖测量图案175的至少一部分。利用上述构造，测量图案175可以被黑底130覆盖。另外，黑底130可以覆盖外围区域pa。利用上述构造，可以有效地遮蔽经由外围区域pa来自光源的光，并且设置在透镜孔150周围的测量图案175被黑底130隐藏，使得外部光不会不期望地从测量图案175反射。

在外围区域pa中的滤色器基板120上的黑底130中，形成与相机模块140对应的小孔160。

小孔160可以通过对黑底130进行构图来形成。小孔160的直径l5可以基于相机模块140的视角θ来确定。例如，透镜部分140a与小孔160之间可以有特定距离。该距离还与外覆层135的厚度相关联。即，小孔160可以按照其不隐藏或阻挡相机模块140的视角θ的方式来构造。如果小孔160隐藏或或阻挡了相机模块140的视角θ，则相机模块140由于被覆盖的部分而不能适当地执行图形拍摄。然而，要注意的是，小孔160还可以按照其隐藏相机模块140的视角θ的一部分的方式来构造。

小孔160的直径l5可以小于透镜孔150的直径l1。小孔160的中心可以与透镜孔150的中心相邻或对齐。利用上述构造，小孔160可以在不隐藏视角θ的情况下隐藏相机模块140的其余部分。因此，相机模块140的不必要部分被小孔160隐藏，使得可以改进美学设计。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于此。

外围区域pa中的滤色器基板120上的外覆层135覆盖黑底130和小孔160。外覆层135可以减少黑底130与小孔160之间的阶差(或者层不均匀)或者可以提供平坦表面。而且，外覆层135可以透射可见波长带的光。

外覆层135可以减少黑底130与小孔160之间的阶差，或者可以具有平缓(或渐变)的坡度。然而，光可能通过该平缓的坡度被折射，并且由此相机模块140的视角θ可不与倾斜表面交叠。

另选地，相机模块140的视角θ可以与倾斜表面交叠，并且可以将用于补偿这种变形的补偿值存储在存储器中。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于外覆层135的倾斜表面，并且如果该倾斜表面的变形微不足道，则可以忽略该倾斜表面的变形。在本公开的一些实施方式中，外覆层135可以具有相对平坦的表面。

第二偏光板125覆盖滤色器基板120上的小孔160。第二偏光板125的透明部分165可以与滤色器基板120上的小孔160对应或对齐。

透明部分165可以通过漂白或处理第二偏光板125而形成。因此，该透明部分165没有偏光特性。即，该透明部分165与偏振光源的偏振轴无关地使可见波长通过或者透射可见波长。因此，可见光的透射率在第二偏光板125的透明部分165比在第二偏光板125的其余部分高。要注意的是，根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100不限于此。

透明部分165的直径l6可以基于相机模块140的视角θ来确定。透明部分165的直径l6可以大于小孔160的直径l5。

利用上述构造，相机模块140可以通过第二偏光板125的透明部分165有效地拍摄图像。

在本公开的一些实施方式中，第二偏光板125可以不覆盖小孔160。

在本公开的一些实施方式中，该透明部分165可以通过对第二偏光板125进行构图而形成。即，代替执行漂白等，该透明部分可以通过物理去除第二偏光板的一部分来形成。

根据本公开的示例性实施方式的lcd装置100，透镜孔150形成在阵列基板110中并且将相机模块140插入到透镜孔150中，由此，减少了显示装置的总体厚度。另外，通过形成测量图案175，存在的优点在于，可以有效地抑制在阵列基板110中形成透镜孔150的工序期间可能出现的缺陷。另外，通过形成透镜孔引导件155，具有可以抑制在阵列基板100中形成透镜孔150的工序期间可能出现的缺陷的效果。另外，通过在黑底130中形成小孔160，可以改进美学设计，而不影响相机模块140的视角θ。另外，通过在第二偏光板125中形成透明部分165，可以改进美学设计，而不影响相机模块140的视角θ。

图5a至5c例示了根据本公开的另一示例性实施方式的、用于形成lcd装置500的透镜孔550的方法。

lcd装置550与lcd装置100的不同之处在于，测量图案具有不同构造。

参照图5a，通过使用设置在阵列基板110上的测量图案575，利用共焦传感器555来测量该阵列基板110的厚度t1(步骤s510)。

阵列基板110的厚度t1可以利用共焦传感器555来测量。为了测量厚度，共焦传感器550聚焦在设置在要形成透镜孔550的位置处的测量图案575上。按这种方式，，与没有这样的测量图案575的情况相比，可以更加准确地测量出阵列基板110的厚度t1。例如，阵列基板110的厚度t1可以为250μm。

参照图5b，基于利用共焦传感器555测量出的阵列基板110的厚度t1，利用钻头560在要形成透镜孔550的位置处形成凹槽550a至特定深度(步骤s520)。

为了形成透镜孔550，通过钻头560将凹槽550a形成得厚度比厚度t1薄。如果阵列基板110的厚度t1等于250μm，则通过钻头560钻出的凹槽550a的深度可以小于250μm。具体地说，可以将凹槽550a形成为具有阵列基板110的厚度t1的95％至99％的深度。例如，凹槽550a的深度可以是244μm，而阵列基板的剩余部分的厚度t2可以是6μm。参照图5c，利用胶带设备570(或者具有粘合特性的其它元件)在其中形成了凹槽550a的区域上施加粘合力,以将该区域附接至玻璃芯580，并接着利用胶带设备570将玻璃芯580与阵列基板110分离以形成透镜孔550(s530)。即，通过粘合胶带设备570抵着利用钻头560形成的凹槽550a的顶表面(即，玻璃芯580)按压胶带585，使得胶带585被附接至玻璃芯580。随后，当胶带设备570拉下附接至形成有凹槽550a的玻璃芯580的胶带585时，由于厚度t2非常薄，所以玻璃芯580可以从阵列基板去除。结果，可以形成透镜孔550。随后，经由透镜孔550将相机模块140插入到阵列基板110中。

根据形成透镜孔550的上述方法，不必利用钻头穿透阵列基板110。因此，可以在极大地抑制因钻头560而生成的玻璃碎片被引入阵列基板110与滤色器基板120之间。

本公开的示例性实施方式可以描述如下：

根据本公开一方面，一种液晶显示(lcd)装置，该lcd装置包括：阵列基板，在该阵列基板上设置有子像素；滤色器基板，在该滤色器基板上设置有各自对应于所述子像素中的每一个的滤色器；以及液晶层，该液晶层位于所述阵列基板与所述滤色器基板之间。所述阵列基板包括透镜孔，所述滤色器基板包括透镜孔引导件，并且所述透镜孔的直径小于所述透镜孔引导件的内径。

所述透镜孔的中心和所述透镜孔引导件的中心可以被构造为彼此相邻或彼此对齐。所述透镜孔引导件的内边缘可以与所述透镜孔的边缘隔开。

所述透镜孔引导件可以被构造为围绕所述透镜孔。所述透镜孔引导件可以在形成所述透镜孔的工序期间吸收施加在所述阵列基板上的至少一些压力。

所述滤色器基板还可以包括黑底。所述黑底可以设置在所述滤色器基板与所述透镜孔引导件之间并且可以包括比所述透镜孔的直径小的小孔，并且所述小孔的中心与所述透镜孔的中心可以被构造为彼此相邻或者彼此对齐。

所述滤色器基板还可以包括设置在所述透镜孔引导件上方的外覆层。所述外覆层可以透射可见波长带，覆盖所述黑底和所述小孔，并且减少所述黑底与所述小孔之间的阶差。

所述lcd装置还可以包括：相机模块，该相机模块处于所述阵列基板的、除了设置有所述子像素的区域以外的其它区域中，并且所述相机模块可以包括传感器部分和透镜部分，所述透镜部分可以插入到所述透镜孔和所述透镜孔引导件中，并且所述相机模块可以经由所述小孔来拍摄图像。

所述lcd装置还可以包括：第一偏光板，该第一偏光板在所述阵列基板下；以及第二偏光板，该第二偏光板在所述滤色器基板上。所述第二偏光板可以覆盖所述小孔并且包括与所述小孔对应的透明部分。

可见光的透射率在所述第二偏光板的所述透明部分可以比在该第二偏光板的其余部分高。

所述阵列基板还可以包括与所述透镜孔同心的测量图案。

所述测量图案可以由所述阵列基板的选通线的材料和/或数据线的材料制成。

所述测量图案可以具有与所述透镜孔相对应的形状。

所述测量图案的内径可以大于所述透镜孔的直径。

所述测量图案可以在形成透镜孔的工序期间被去除。

所述测量图案可以被所述黑底隐藏。

所述测量图案可以具有圆环形状或圆圈形状。

根据本公开的另一方面，提供了一种制造液晶显示(lcd)装置的方法。该方法包括以下步骤：通过利用阵列基板上的测量图案，利用共焦传感器来测量该阵列基板的厚度；基于利用所述共焦传感器测量出的所述阵列基板的厚度，在要形成透镜孔的位置形成深度确定的凹槽；通过利用胶带设备涂敷粘合剂(adhesion)将玻璃芯附接至形成有所述凹槽的区域，并且然后利用所述胶带设备将所述玻璃芯与所述阵列基板分离，以由此形成所述透镜孔；以及通过所述透镜孔将相机模块插入到所述阵列基板中。

对于本领域技术人员显而易见的是，在不脱离本发明的范围的情况下，可以在本公开的相机模块集成液晶显示式装置及其制造方法中进行各种修改和变化。因此，本公开旨在涵盖落入所附权利要求和/或其等同物的范围内的针对本发明的修改和变化。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年12月28日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请no.10-2015-0187173的优先权，通过引用方式将该专利申请的公开内容并入于此。